「surface defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for cutting a filter sheet which suppresses the falling of particles from, the cut surface during and after the cutting of a filter sheet in which particles are held between two sheets of water permeable substrates and reduces the contamination of the circumference and the appearance defect of the filter sheet by the falling of the particles.例文帳に追加

２枚の透水性基材間に粒体を挟持してなるフィルターシートの切断時及び切断後における切断面からの粒体の脱落を低減し、該粒体の脱落による周囲の汚染やフィルターシート外観不良を低減したフィルターシートの切断方法を提供する。 - 特許庁

To detect an envelope defect of a read signal caused by a fingerprint on the surface of a disk, the inter-layer interference of a dual-layer disk or the like which is a factor of a read error of an optical disk, and to improve the read capability of an optical disk drive while avoiding a read error by performing appropriate processing.例文帳に追加

光ディスクのリードエラー要因となるディスク表面上の指紋や２層ディスクの層間干渉などに起因する再生信号包絡線の異常を検出し、適切な処理を行うことによりリードエラーを回避し光ディスクドライブの再生性能を向上する。 - 特許庁

When a display failure such as line defect is found during a turn-on inspection after a driver LSI 3 is installed, YAG laser is illuminated from the substrate back surface side to a cross section 12 of the wiring 4 and the wiring 5 where a failure is generated so as to connect the wiring 4 and the wiring 5.例文帳に追加

ドライバーＬＳＩ３搭載後の点灯検査にて線欠陥等の表示不良が発生した場合、不良発生箇所のソース配線４とクロス配線５との交差部１２に基板裏面側からＹＡＧレーザーを照射しソース配線４とクロス配線５を接続させる。 - 特許庁

To provide a die forging method and a die forging apparatus, with which the yield of a material, productivity and forming precision are high and the forged defect is hardly developed, in the case of producing a formed product having a topped cylindrical shape as the whole body and a projecting part with an undercut at the top upper surface by forging.例文帳に追加

全体として有頂筒状であってアンダーカットのある凸部を頂部上面に有する成形品を鍛造するに際し、材料歩留まりや生産性や成形精度が高く、かつ、鍛造欠陥が生じにくい型鍛造方法及び型鍛造装置を提供すること。 - 特許庁

If the surface of the substrate is coated with the alignment film by utilizing the transfer plate having the projecting parts of the double structures, the difference in the film thicknesses between the edges and the center is overcome, and the liquid crystal display device of the excellent quality suppressed of a gap defect and screen display unevenness can be provided.例文帳に追加

二重構造の凸部を有する転写板を利用して基板上に配向膜をコーティングすれば、エッジ及び中央の膜厚さ差を克服してギャップ不良及び画面表示むらを抑制させて優れた品質の液晶表示装置を提供することができる。 - 特許庁

To obtain a method for producing a grain-oriented electrical steel sheet having no forsterite coating with which in the case of using magnesia adding halide as a separating agent for annealing, the development of fine surface defect feared at finish-annealing time, is effectively prevented and thus, the increase of a core loss is not brought about.例文帳に追加

ハロゲン化物を添加したマグネシアを焼鈍分離剤として使用する場合に、仕上焼鈍の際に懸念される微細な表面欠陥の発生を効果的に防止して、鉄損の増大を招くことのない、フォルステライト被膜のない方向性電磁鋼板の製造方法を得る。 - 特許庁

A magnetic detector, having a coil for applying two orthogonal magnetic fields to the metal body and the magnetic impedance effect type sensor for detecting the normal component of the magnetic leakage flux at the defect part of the metal body scans the surface of the metal body, while applying magnetic field in two or more directions by the coil.例文帳に追加

金属体に直交の２磁界を加えるコイルと金属体の欠陥箇所での漏洩磁束の法線成分を検出する磁気インピーダンス効果型センサを有する磁気検出器で金属体の表面を前記コイルにより２以上の方向に磁界を加えつつスキャニングする。 - 特許庁

To provide a continuous coating apparatus in which a coating film having uniform thickness and excellently smooth surface is formed by suppressing the occurrence of coating defect such as longitudinal stripe or a foreign matter caused by the sticking of a coating liquid to a lip part or the contact of the lip part to a supporting body in the start-up of coating.例文帳に追加

塗布開始時におけるリップ部分への塗布液の付着又はリップ部分と支持体の接触を原因とする縦スジ、異物等の塗布欠陥の発生を抑え、厚みが均一で面の平滑性に優れた塗布膜を形成する連続塗布装置の提供にある。 - 特許庁

To provide a laminated film free from in-plane molecular orientation, having no surface defect, excellent in optical anisotropy, heat resistance, scratch resistance and the adhesiveness with a polyvinyl alcohol (PVA) polarizer, manufactured at a low cost and suitable as a protective film for the polarizer.例文帳に追加

フィルム面内の分子配向がなく、表面無欠点で光学等方性に優れ、しかも耐熱性・耐殺傷性に優れ、さらにポリビニルアルコール（ＰＶＡ）偏光子との接着性に優れ、低コストで製造可能な積層フィルムであって、偏光子の保護フィルムとして好適な積層フィルムを提供する。 - 特許庁

To prevent a defect due to redeposit of a coated substance in a spin coat method which is implemented to solve a problem of depositing a solid substance solidified with a coating liquid scattered in a device to a coated surface in the coating by the spin coat method.例文帳に追加

本発明はスピンコート法による塗布において、装置内部に飛散した塗布液が固化した固形物が塗布面に付着するという問題を解決するためになされたものであり、スピンコート法において塗布物の再付着による欠陥を防止することを目的とする - 特許庁

To provide a surface treatment agent for sheet used for ink jet printing paper that solves the problem such as thickening or agglomeration in a coating color dispersion, which has been a defect in the conventional cationic polymer prepared by polycondensation, and that can uniformly form a coating layer and can enhance water resistance.例文帳に追加

従来の重縮合系カチオン性重合体の欠点であったコートカラー分散液の増粘あるいは凝集などの問題点を解決し、均一に塗工層を形成でき、かつ耐水性を向上できるインクジェット方式印刷用紙用のシート表面処理剤を提供する。 - 特許庁

A lens 10 includes: a plastic lens base material 1; and a transparent anti-reflection layer 3 formed on the base material 1 through a hard coat layer 2, wherein ion is radiated to the surface of one layer 32 of the anti-reflection layer 3 to introduce oxygen defect and improve the conductivity.例文帳に追加

プラスチックレンズ基材１と、この基材１の上にハードコート層２を介して形成された透光性の反射防止層３とを有し、反射防止層３の１つの層３２の表面にイオンを照射して酸素欠陥を導入して導電性を向上したレンズ１０を提供する。 - 特許庁

To prevent occurrence of the detection of brake out caused by the defect of the stability in the temperature of a mold frequently shown in the case the content of SiO_2 in mold powder is reduced for dealing with the problem of contamination of the powder to a slab causing the surface flaw of a cold-rolled steel sheet.例文帳に追加

冷間圧延鋼板の表面疵の原因となる鋳片へのモールドパウダーの巻き込みの問題に対処するためパウダーのＳｉＯ_２の含有量を減らした場合に多く見られる、鋳型温度安定度の不良に起因するブレークアウトの検知の発生を防止する。 - 特許庁

By optical inspection for defects in the glass substrate, it is found that: the substrate 1 has no defect dependent on the propagation direction of the inspection light; the substrate 1 has no stria inside; and flaws present on the substrate surface have the width (length in the direction of the minor axis) smaller than 1 μm.例文帳に追加

光学的なガラス基板の欠陥検査によって、基板１には検査光の進行方向に依存性をもった久陥は存在せず、基板１内部には脈理がなく、また基板１表面に存在する傷は、その幅（短軸方向の長さ）が１μｍより小さいことが確認されたものである。 - 特許庁

To provide a dressing method for the surface of a continuously cast slab, by which saving in energy and equipment is realized by using at least one plasma torch corresponding to a position, a shape, and the like of a defect detected, and to provide a dressing device, by which the dressing method is effectively executed.例文帳に追加

検出された欠陥位置、形状等に応じて少なくとも一個のプラズマトーチにて対処でき、エネルギー及び設備面において節減を図ることが可能な連続鋳造鋳片の表面手入れ方法及びこの方法を効果的に実施し得る手入れ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a hard metal having a gradient structure, which possesses simultaneously improved abrasion resistance, plastic-deformation resistance, chipping resistance and defect resistance by improving the toughness and hardness in the vicinity of the surface, and consequently extends the life of a cutting tool when the hard metal is used for it, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

表面近傍の硬さと靱性とを向上させることにより、耐摩耗性，耐塑性変形性と耐チッピング性，耐欠損性とを同時に改善し、切削加工における長寿命化を達成できる傾斜組織超硬合金およびその製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a regenerated graphite material coated with silicon carbide in which a black spot, etc., does not appear on the surface of the silicon carbide and can be used again even if a graphite material coated with silicon carbide in which a graphite is exposed by the defect such as pinhole and chip is coated again with the silicon carbide and to provide its regenerating method.例文帳に追加

ピンホールや欠け等の欠陥により黒鉛基材が露出した炭化ケイ素被覆黒鉛材に再度炭化ケイ素で被覆しても、炭化ケイ素の表面に黒い斑紋等が現れず、再利用可能となる再生炭化ケイ素被覆黒鉛材とその再生法を提供する。 - 特許庁

To provide protection paper for a cylindrical electrophotographic photoreceptor realizing the reduction of an image defect caused by the protection paper by restraining a flaw such as a pressuring mark whose area is comparatively large but which can not be visually confirmed on the surface of a photoreceptive layer even though the thickness of the protection paper is not increased.例文帳に追加

保護紙の厚みを増さなくとも、感光層表面における、目視で確認できない程度であって、比較的、面積の大きい圧迫痕のような傷の発生を抑制でき、前記保護紙に起因する画像不良を低減する円筒状電子写真感光体用保護紙の提供。 - 特許庁

To provide the shape of an immersion nozzle with which a steel having small quantity of non-metallic inclusion defect can stably be cast by floating up the non-metallic inclusion stored on the bottom surface of the immersion nozzle to the upper part without again entraining into molten steel, in a continuous casting of the steel.例文帳に追加

鋼の連続鋳造において浸漬ノズルの底面に溜まった非金属介在物を再び溶鋼に巻き込むことなく上部に浮上させることで、非金属介在物欠陥の少ない鋼を安定して鋳造可能とする浸漬ノズルの形状を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer-carrying belt by which a defect such as a void is eliminated by crushing the protrusion of a belt surface, whose measure accuracy is excellent and by which meandering is eliminated and a manufacturing method and a manufacturing device to mold the transfer-carrying belt in a short time.例文帳に追加

本発明は、ベルト表面の突起を押し潰して白抜けなどの欠点がなく、寸法精度が高く蛇行することがない転写搬送ベルト及びこの転写搬送ベルトを短時間で成形する製造方法および製造装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To solve the problem that the cut waste of a gate part metal, provided on a substrate scatters on a solder ball surface and causes a short-circuit defect between the solder balls of a semiconductor device, in a cutting process of making the substrate provided with a plurality of semiconductor chip loading regions into the individual pieces of a semiconductor device single body.例文帳に追加

複数の半導体チップ搭載領域を備えた基板を半導体装置単体に個片化する切断工程において、基板に設けられたゲート部金属の切断くずがはんだボール面上に飛散して半導体装置のはんだボール間のショート不良を招く。 - 特許庁

To realize a manufacturing process of a semiconductor which is free from defect/failure and inner contamination of production installation due to fragment of film peeling of the oxide film of a high melting point metal formed in the wafer rear surface of a semiconductor in a semiconductor device wherein the oxide film of a high melting point metal is used.例文帳に追加

高融点金属の酸化膜を使用する半導体装置において、半導体のウエハ裏面に形成された高融点金属の酸化膜の膜剥離した破片による欠陥不良および生産設備内部汚染がない半導体の製造工程を実現する。 - 特許庁

To provide a polishing method, a polishing device, and a manufacturing method of a polishing tool for excellently exhibiting a polishing characteristic for various kinds of polishing objects by reducing a defect such as a scratch and sticking of resin caused on a polishing object surface of the polishing objects of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハの研磨対象物の被研磨面に発生するスクラッチ等の欠陥および樹脂の付着を低減し、各種の研磨対象物に対してその研磨特性を良好に発揮できる研磨方法、研磨装置、および研磨工具の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the insulating film forming method of a semiconductor device which can improve the reliability of process and the electrical characteristics of element, by minimizing defect generation in the front surface of the insulating film, and by suppressing failures or the like, where a pattern formed on its upper portion becomes thin, or is cut.例文帳に追加

絶縁膜の表面における欠陥発生を最小化し、その上部に形成されるパターンが薄くなり或いは切れる不良などを抑制し、工程の信頼性及び素子の電気的特性を向上させることが可能な、半導体素子の絶縁膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the occurrence of a bonding peel-off defect caused by the reason that components such as C and F in etching gas such as CF_4 and CHF_3 to be used in an etching process for forming the aperture of a passivation film consisting of a silicon nitride film is left on the Al surface of a bonding pad.例文帳に追加

本発明は、シリコン窒化膜から成るパッシベーション膜に開口部を形成するためのエッチング工程において用いられる、例えばＣＦ_４やＣＨＦ_３等のエッチングガス内のＣやＦの成分などがボンディングパッドのＡｌ表面に残ることに起因するボンディング剥がれ不良を抑止する。 - 特許庁

To allow easy eddy current examination of high senstivity as to the presence of a defect generated on a surface of a testing body having a circular cross section, in a hot condition, and reduce the possibility of damage of a flaw detection coil in the eddy current examination to a small extent.例文帳に追加

円形断面を有する試験体の表面に発生した欠陥の有無を、熱間において、高感度かつ簡便に渦流探傷することができ、しかも、渦流探傷の際に探傷コイルが破損するおそれの少ない熱間渦流探傷プローブを提供すること。 - 特許庁

To provide a resin composition for timber impregnation improved in curability, at the same time capable of insuring a satisfactory durability as a resin impregnated timber, capable of forming a cured resin film few in appearance defect such as a scratch, warp, crack or the like at the outside surface and the inside of the timber.例文帳に追加

硬化性に優れると共に、樹脂含浸木材として十分な耐久性を確保でき、かすれ等の外観不良、木材のソリ、割れ等の少ない硬化樹脂塗膜を、木材の表面および内部に形成することのできる木材含浸用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The method contains a process for applying an adhesive layer 16 to a metal substrate 14 and a process for laminating a decorating metallic plate 12 on the metallic substrate 14 so as to substantially completely avoid a surface defect and a core reflection phenomenon along an outside face 13 of a decorating metal plate 12.例文帳に追加

接着剤層１６を金属基板１４に塗布する工程と、装飾金属板１２の外側面１３に沿った表面欠陥とコアうつり現象を実質的に完全に回避するように前記装飾金属板１２を前記金属基板１４にラミネートする工程とを有している。 - 特許庁

To eliminate such a defect that when degreasing a ceramic molded body using an activated carbon powder or zeolite powder, the powder adheres to the surface of a ceramic sintered compact, and fracture or crack is generated resulting in occurrence of defective products when removing the adhered powder.例文帳に追加

活性炭粉体又はゼオライト粉体を用いてセラミック成形体の脱脂を行うにあたり、セラミック焼結体の表面に活性炭粉体又はゼオライト粉体が付着し、この付着物を除去する際に欠けや割れが発生して不良品が発生することを防止する。 - 特許庁

To provide a reduced pressure drying apparatus which does not make to generate a minute defect on the front surface of a coating film by eliminating the ununiformity of the film thickness resulting from a remaining solvent in reduced pressure drying used when a pattern is formed by a photolithography method, and to provide a reduced pressure drying method.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によってパターンを形成する際に用いる減圧乾燥において、残留溶剤に起因した膜厚の不均一性を解消し、塗膜の表面に微小欠陥を発生させない減圧乾燥装置、減圧乾燥方法を提供すること。 - 特許庁

A method of reducing crystal defect of simox wafer includes: a first step of implanting ions from a surface of a wafer into a silicon layer 13 of a range of set depth from the BOX layer 12; and a second step of heating the wafer obtained in the first step to restore the crystallinity of a portion where the ions are implanted.例文帳に追加

ウェーハの表面からＢＯＸ層１２よりも設定深さの範囲のシリコン層１３までイオンを注入する第１の工程と、第１の工程で得られたウェーハを加熱してイオンが注入された部位の結晶性を回復させる第２の工程とを含む。 - 特許庁

Further, the gradation pattern is formed, by arranging light shielding parts 3 and light-transmitting parts 3 of size larger than the resolution limit of a defect inspecting device for the photomask, in a region which is ≤20 μm in diameter or the diagonal length, corresponding to the bottom surface of the hemispherical structure.例文帳に追加

しかも、この階調パターンは、半球状構造体の底面に対応する直径または対角長が２０μｍ以下の領域に、フォトマスクの欠陥検査装置の解像限界より大きい寸法の遮光部３及び透光部３を設けることによって形成する。 - 特許庁

The defect part is detected from the changing rate of a brightness gradient of a gradation pattern acquired by projecting the inspection object surface through a screen 3 where plural regular-hexagonal patterns are printed closely in the honeycomb shape and the concentric gradation patterns are printed on the respective regular-hexagonal patterns.例文帳に追加

複数個の正六角形のパターンが隙間なくハニカム状に印刷されて、これら正六角形の個々のパターンに同心円状のグラデーションパターンが印刷されたスクリーン３を介して検査対象面を投影して得られるグラデーションパターンの明暗勾配の変化率から欠陥部分を検出する。 - 特許庁

To provide toner which has low-temperature fixability, assures hot offset resistance and blocking resistance, does not give rise to a dispersion defect of a toner configuration material, provides a satisfactory image of high image density free of transfer unevenness and surface staining, and reduces the degradation of image quality even during outputting of a large number of sheets.例文帳に追加

低温定着性を有し、耐ホットオフセット性と耐ブロッキング性を確保し、トナー構成材料の分散不良が起こらず、画像濃度が高く転写ムラや地肌汚れのない良好な画像が得られ、多数枚出力時においても画質の悪化が少ないトナーを提供すること。 - 特許庁

To provide a method and device for manufacturing a metallic clad material that excels in joining strength without causing surface defect and without increasing manufacturing cost or running cost, in the manufacture of the metallic clad material for which two or more metallic sheets are superposed, rolled and joined.例文帳に追加

２枚以上の金属板を重ねて圧延して接合する金属クラッド材の製造において、表面欠陥を生じさせることなく、かつ製造コストやランニングコストの増大を招くことなく、接合強度に優れた金属クラッド材を製造できる製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device that excellently cleans a surface of an image carrier by preventing an image defect due to irregular rotations of the image carrier and insufficient removal of discharge products resulting from that the image carrier and a cleaning roller comes into contact with each other on the same parts in every rotation.例文帳に追加

像担持体の回転ムラに起因する画像不良の発生や、像担持体とクリーニングローラが周回ごとに互いに同じ箇所で接触することに起因する放電生成物の不十分な除去を防止し、像担持体表面の好適なクリーニングを遂行可能なクリーニング装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which has a structure in which a plurality of squeezing rollers are arranged in a rotating direction of an image carrier, the image forming apparatus preventing the occurrence of image defect by stabilizing moving speed of a surface of the image carrier at a squeezing position; and to provide an image forming method using the image forming apparatus.例文帳に追加

像担持体の回転方向に沿って複数のスクイーズローラーを配置した構造を有する画像形成装置および当該装置を用いた画像形成方法において、スクイーズ位置での像担持体表面の移動速度を安定化させて画像不良の発生を防止する。 - 特許庁

To provide an image forming device capable of eliminating the occurrence of transfer blurring, transfer defect and transfer dust by making a conductive brush abut on a carrying belt in a condition being pressed to a downstream side in the moving direction of the front surface of the carrying belt by a brush correcting member, thereby stably supplying a transfer electric field.例文帳に追加

導電性ブラシをブラシ矯正部材によって搬送ベルト表面移動方向下流側に押圧させた状態で搬送ベルトに当接させ、転写電界を安定して供給できるようにして、転写ブレや転写不良、転写チリのない画像形成装置を提供する。 - 特許庁

This surface inspection device 100 is provided with a lighting system 1 for emitting slit-like illumination light to an inspected object M, a two-dimensional imaging device 2 for imaging reflected light thereof, and an image processor 3 for detecting the defect based on a shape of a slit part in a picked-up image.例文帳に追加

表面欠陥検査装置１００は、被検査対象物Ｍにスリット状の照明光を照射する照明装置１と、その反射光を撮像する２次元撮像装置２と、撮像画像におけるスリット部の形状に基づき欠陥を検出する画像処理装置３とを備える。 - 特許庁

To provide an optical sheet that reduce the shape change due to crushing of an optical element even if impact is applied onto the surface of the optical element during packing and transportation of the optical sheet, and are advantageous for providing when a clear display image is obtained without causing defect/failure; a display back light unit; and a display device.例文帳に追加

光学シートの梱包、輸送の際に光学素子の表面上に衝撃が加わっても、光学素子の潰れによる形状変化を低減し、欠陥不良が起きず鮮明な表示画像を得る上で有利な光学シート、ディスプレイ用バックライトユニット、表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for evaluating an annealing wafer solving the controversial point of a conventional technique and being capable of simply evaluating the annealing wafer, particularly the thickness of a non-defect layer formed on the surface of the annealing wafer accurately, and to provide the method for assuring the quality of the annealing wafer utilizing the evaluating method.例文帳に追加

従来技術の問題点を解消し、アニールウエーハ、特に、その表面に作られる無欠陥層の厚さを簡便に精度よく評価することのできるアニールウエーハの評価方法及びこの評価方法を利用したアニールウエーハの品質保証方法を提供する。 - 特許庁

To provide a rubber composition for use in tires which is capable of inhibiting the crack on the surface of a tire while suppressing the usage of a component derived from the petroleum resources as well as which is capable of suppressing the external appearance defect on tires; and a tire made by using this rubber composition for use in tires.例文帳に追加

石油資源に由来する成分の使用量を抑えつつ、タイヤ表面のクラックを抑止することができるとともに、タイヤの外観不良を抑えることができるタイヤ用ゴム組成物およびそのタイヤ用ゴム組成物を用いて作製されたタイヤを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sheet-laminated aluminum profile wherein only a sheet material is cut relatively simply and accurately without cutting the profile, there is no problem of generation of cutting chips or a product defect, and a resin sheet material is integrally laminated on the surface of the profile, and also to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

形材を切断することなくシート材料だけを比較的簡単にかつ精度良く切断でき、切粉の発生や製品不良の問題もなく形材表面に樹脂シート材料が一体的にラミネートされたシート貼着アルミニウム形材を製造できる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

Further, in the semiconductor device, the barrier film and the seed film are specified, and a proportion (frequency) of a corresponding (CSL) grain boundary in which the grain boundary Σ value is 3 in the whole crystal grain boundary of the Cu wiring is set at ≥40%, thereby an effect similar to surface defect reduction can be acquired.例文帳に追加

または、該半導体装置において、バリア膜及びシード膜を特定すると共に、Ｃｕ配線の全ての結晶粒界に占める、粒界Σ値３の対応（ＣＳＬ）粒界の割合（頻度）を４０％以上とすることにより、表面欠陥低減の同様の効果を得ることができる。 - 特許庁

To produce a silicon single crystal wafer which has extremely low defect density throughout the whole surface region of the crystal and particularly from which small pits are eliminated and which has excellent oxide film dielectric strength characteristics, under high-rate production conditions having wide control width and easy controllability, while maintaining high productivity, by using a CZ(Czochraliski) method.例文帳に追加

高速下に制御幅が広く、制御し易い製造条件の下で、結晶の全面の領域において極低欠陥密度で、特に小ピットを排除した、酸化膜耐圧特性に優れたＣＺ法によるシリコン単結晶ウエーハを高生産性を維持して製造する。 - 特許庁