「surface defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

By optical inspection for defects in the glass substrate, it is found that: the substrate 1 has no defect dependent on the propagation direction of the inspection light; the substrate 1 has no stria inside; and flaws present on the substrate surface have the width (length in the direction of the minor axis) smaller than 1 μm.例文帳に追加

光学的なガラス基板の欠陥検査によって、基板１には検査光の進行方向に依存性をもった久陥は存在せず、基板１内部には脈理がなく、また基板１表面に存在する傷は、その幅（短軸方向の長さ）が１μｍより小さいことが確認されたものである。 - 特許庁

To provide protection paper for a cylindrical electrophotographic photoreceptor realizing the reduction of an image defect caused by the protection paper by restraining a flaw such as a pressuring mark whose area is comparatively large but which can not be visually confirmed on the surface of a photoreceptive layer even though the thickness of the protection paper is not increased.例文帳に追加

保護紙の厚みを増さなくとも、感光層表面における、目視で確認できない程度であって、比較的、面積の大きい圧迫痕のような傷の発生を抑制でき、前記保護紙に起因する画像不良を低減する円筒状電子写真感光体用保護紙の提供。 - 特許庁

To provide the shape of an immersion nozzle with which a steel having small quantity of non-metallic inclusion defect can stably be cast by floating up the non-metallic inclusion stored on the bottom surface of the immersion nozzle to the upper part without again entraining into molten steel, in a continuous casting of the steel.例文帳に追加

鋼の連続鋳造において浸漬ノズルの底面に溜まった非金属介在物を再び溶鋼に巻き込むことなく上部に浮上させることで、非金属介在物欠陥の少ない鋼を安定して鋳造可能とする浸漬ノズルの形状を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer-carrying belt by which a defect such as a void is eliminated by crushing the protrusion of a belt surface, whose measure accuracy is excellent and by which meandering is eliminated and a manufacturing method and a manufacturing device to mold the transfer-carrying belt in a short time.例文帳に追加

本発明は、ベルト表面の突起を押し潰して白抜けなどの欠点がなく、寸法精度が高く蛇行することがない転写搬送ベルト及びこの転写搬送ベルトを短時間で成形する製造方法および製造装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To solve the problem that the cut waste of a gate part metal, provided on a substrate scatters on a solder ball surface and causes a short-circuit defect between the solder balls of a semiconductor device, in a cutting process of making the substrate provided with a plurality of semiconductor chip loading regions into the individual pieces of a semiconductor device single body.例文帳に追加

複数の半導体チップ搭載領域を備えた基板を半導体装置単体に個片化する切断工程において、基板に設けられたゲート部金属の切断くずがはんだボール面上に飛散して半導体装置のはんだボール間のショート不良を招く。 - 特許庁

To realize a manufacturing process of a semiconductor which is free from defect/failure and inner contamination of production installation due to fragment of film peeling of the oxide film of a high melting point metal formed in the wafer rear surface of a semiconductor in a semiconductor device wherein the oxide film of a high melting point metal is used.例文帳に追加

高融点金属の酸化膜を使用する半導体装置において、半導体のウエハ裏面に形成された高融点金属の酸化膜の膜剥離した破片による欠陥不良および生産設備内部汚染がない半導体の製造工程を実現する。 - 特許庁

To provide a polishing method, a polishing device, and a manufacturing method of a polishing tool for excellently exhibiting a polishing characteristic for various kinds of polishing objects by reducing a defect such as a scratch and sticking of resin caused on a polishing object surface of the polishing objects of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハの研磨対象物の被研磨面に発生するスクラッチ等の欠陥および樹脂の付着を低減し、各種の研磨対象物に対してその研磨特性を良好に発揮できる研磨方法、研磨装置、および研磨工具の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for evaluating a wafer including a step of measuring an infinitesimal internal crystal defect in which a BMD from the front surface of a wafer to be measured to the depth of about 10 μm can be observed with high resolution of a depthwise direction of the wafer and with a difficulty to measure so far.例文帳に追加

被測定ウェーハの深さ方向の高い分解能を有し、かつ、今まで測定することが困難であった被測定ウェーハの表面から１０μｍ程度の深さまでのＢＭＤを観察可能とした微小内部結晶欠陥の測定によるウェーハの評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stand for building up a concrete leveling form and a construction method therefor capable of adjusting unevenness of a leveling concrete surface, capable of eliminating a cross-sectional defect of a corrugated steel plate panel and nonuniformity of a slab thickness, capable of reducing a cost capable of improving a construction quality and capable of shortening a construction period.例文帳に追加

捨てコンクリート面の不陸調整ができ、コルゲート鉄板パネルの断面欠損やスラブ厚の不均一が解消でき、コストの低減、施工品質の向上、施工期間の短縮を達成することができるコンクリート捨て型枠建込み用架台及びその施工方法を提供すること。 - 特許庁

Toner particles forming an image on the intermediate transfer belt 70 receive vibrations from from the toner layer diffusion member 10 to be peeled off a surface of the intermediate transfer belt 70 and dispersed in carrier liquid, so that the secondary transfer defect at the secondary transfer unit 80 can be prevented.例文帳に追加

中間転写ベルト７０上で画像を形成するトナー粒子は、このトナー層拡散部材１０からの振動を受け中間転写ベルト７０表面から剥がされ、キャリア液中に分散するような状態となり、二次転写ユニット８０での二次転写不良の発生を防止することができる。 - 特許庁

To provide a defect inspection method that can appropriately control a charge amount of a surface of a sample even when the irradiation current value for enlarging the throughput or the like is increased, obtains clear image data with small distortion, and can perform an inspection with high reliability.例文帳に追加

スループットを大きくする等のため照射電流値を増加する場合にも試料表面の帯電量を適切に制御することができ、歪の小さい鮮明な画像データが取得され、信頼性の高い検査を行うことができる欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a gas shielded arc welding method, in which a sound welding bead is obtained without causing the defect of pores on the surface of a welding bead, even on condition that the welding speed is ≥80 cm/min in single electrode welding and the welding speed is ≥150 cm/min in two electrode welding.例文帳に追加

単電極溶接で溶接速度８０ｃｍ／分以上、２電極溶接で溶接速度１５０ｃｍ／分以上の条件においても、溶接ビード表面に気孔欠陥が発生せず、健全な溶接ビードを得ることができるガスシールドアーク溶接方法を提供する。 - 特許庁

In an electronic microscope 5 for observing the defects detected by an optical defect inspection apparatus or an optical visual inspection apparatus, an optical microscope 14 for redetecting defects is mounted thereupon and a distribution filter is inserted in its pupil surface, when the optical microscope 14 is used to observe dark field.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布フィルタを挿入する構成とする。 - 特許庁

To provide a silicone composition that performs crosslinking by condensation, wherein the silicone composition enables rapid crosslinking and simultaneously does not have problems, for example, yellowing, surface stickiness, a slow vulcanization rate, or stability when stored, or a defect, such as incompatibility with an ordinary adhesion aid based on aminosilane.例文帳に追加

迅速な架橋を可能にし、同時に例えば黄変、表面粘着性、緩徐な加硫速度、貯蔵の際の安定性の問題またはアミノシランを基礎とする通常の付着助剤との非相容性のような欠点を有しない、縮合により架橋するシリコーン組成物を提供する。 - 特許庁

In a process of bonding a substrate 8 with a plurality of electrodes and an IC 7 with a plurality of electrodes by heat and pressure, a thermometer which measures substrate lower surface temperatures at a plurality of arbitrary positions is provided, so that a bonding defect during bonding can be precisely detected.例文帳に追加

複数電極を有する基板８と複数電極を有するＩＣ７を加熱加圧接合する過程において、任意の複数位置の基板下面温度を測定する温度計を備えることにより、接合中の接合不良を精度良く検知することが可能である。 - 特許庁

To control absorption of water and a hydrocarbon on the surface of a blue phosphor and to improve deterioration of phosphor luminance and a chromaticity change or a discharge characteristic, by eliminating an oxygen defect near to Ca, Sr, Ba and Eu ions of the blue phosphor in a plasma display apparatus.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置において、青色蛍光体のＣａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｅｕイオン近傍の酸素の欠陥をなくすことで、青色蛍光体表面への水や炭化水素の吸着を抑え、蛍光体の輝度劣化や色度変化、または放電特性の改善を行うことを目的とする。 - 特許庁

To provide a layer structure having an extremely thin semiconductor layer, in addition, extremely low HF defect density in manufacturing a semiconductor substrate having a support wafer 2 and a layer 8 comprising a single-crystal semiconductor material provided on a surface of the support wafer 2.例文帳に追加

支持体ウェハ２とこの支持体ウェハ２の１つの面に設けられた単結晶半導体材料から成る層８を有する半導体基板の製造にあたり、きわめて薄い半導体層をもち同時にＨＦ欠陥密度も著しく僅かな層構造を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor substrate for suppressing the generation of any crystal defect in the case of creating a region having different crystal plane orientation on the substrate surface by using a semiconductor substrate where a semiconductor layer having the different crystal plane orientation is laminated.例文帳に追加

異なる結晶面方位を有する半導体層が積層された半導体基板を用いて、基板表面に異なる結晶面方位を有する領域を作成する場合に、結晶欠陥の発生を抑制することを可能にする半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of reducing crystal defect of simox wafer includes: a first step of implanting ions from a surface of a wafer into a silicon layer 13 of a range of set depth from the BOX layer 12; and a second step of heating the wafer obtained in the first step to restore the crystallinity of a portion where the ions are implanted.例文帳に追加

ウェーハの表面からＢＯＸ層１２よりも設定深さの範囲のシリコン層１３までイオンを注入する第１の工程と、第１の工程で得られたウェーハを加熱してイオンが注入された部位の結晶性を回復させる第２の工程とを含む。 - 特許庁

Further, the gradation pattern is formed, by arranging light shielding parts 3 and light-transmitting parts 3 of size larger than the resolution limit of a defect inspecting device for the photomask, in a region which is ≤20 μm in diameter or the diagonal length, corresponding to the bottom surface of the hemispherical structure.例文帳に追加

しかも、この階調パターンは、半球状構造体の底面に対応する直径または対角長が２０μｍ以下の領域に、フォトマスクの欠陥検査装置の解像限界より大きい寸法の遮光部３及び透光部３を設けることによって形成する。 - 特許庁

The defect part is detected from the changing rate of a brightness gradient of a gradation pattern acquired by projecting the inspection object surface through a screen 3 where plural regular-hexagonal patterns are printed closely in the honeycomb shape and the concentric gradation patterns are printed on the respective regular-hexagonal patterns.例文帳に追加

複数個の正六角形のパターンが隙間なくハニカム状に印刷されて、これら正六角形の個々のパターンに同心円状のグラデーションパターンが印刷されたスクリーン３を介して検査対象面を投影して得られるグラデーションパターンの明暗勾配の変化率から欠陥部分を検出する。 - 特許庁

To provide toner which has low-temperature fixability, assures hot offset resistance and blocking resistance, does not give rise to a dispersion defect of a toner configuration material, provides a satisfactory image of high image density free of transfer unevenness and surface staining, and reduces the degradation of image quality even during outputting of a large number of sheets.例文帳に追加

低温定着性を有し、耐ホットオフセット性と耐ブロッキング性を確保し、トナー構成材料の分散不良が起こらず、画像濃度が高く転写ムラや地肌汚れのない良好な画像が得られ、多数枚出力時においても画質の悪化が少ないトナーを提供すること。 - 特許庁

To provide a method and device for manufacturing a metallic clad material that excels in joining strength without causing surface defect and without increasing manufacturing cost or running cost, in the manufacture of the metallic clad material for which two or more metallic sheets are superposed, rolled and joined.例文帳に追加

２枚以上の金属板を重ねて圧延して接合する金属クラッド材の製造において、表面欠陥を生じさせることなく、かつ製造コストやランニングコストの増大を招くことなく、接合強度に優れた金属クラッド材を製造できる製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device that excellently cleans a surface of an image carrier by preventing an image defect due to irregular rotations of the image carrier and insufficient removal of discharge products resulting from that the image carrier and a cleaning roller comes into contact with each other on the same parts in every rotation.例文帳に追加

像担持体の回転ムラに起因する画像不良の発生や、像担持体とクリーニングローラが周回ごとに互いに同じ箇所で接触することに起因する放電生成物の不十分な除去を防止し、像担持体表面の好適なクリーニングを遂行可能なクリーニング装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which has a structure in which a plurality of squeezing rollers are arranged in a rotating direction of an image carrier, the image forming apparatus preventing the occurrence of image defect by stabilizing moving speed of a surface of the image carrier at a squeezing position; and to provide an image forming method using the image forming apparatus.例文帳に追加

像担持体の回転方向に沿って複数のスクイーズローラーを配置した構造を有する画像形成装置および当該装置を用いた画像形成方法において、スクイーズ位置での像担持体表面の移動速度を安定化させて画像不良の発生を防止する。 - 特許庁

To provide an image forming device capable of eliminating the occurrence of transfer blurring, transfer defect and transfer dust by making a conductive brush abut on a carrying belt in a condition being pressed to a downstream side in the moving direction of the front surface of the carrying belt by a brush correcting member, thereby stably supplying a transfer electric field.例文帳に追加

導電性ブラシをブラシ矯正部材によって搬送ベルト表面移動方向下流側に押圧させた状態で搬送ベルトに当接させ、転写電界を安定して供給できるようにして、転写ブレや転写不良、転写チリのない画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for timber impregnation improved in curability, at the same time capable of insuring a satisfactory durability as a resin impregnated timber, capable of forming a cured resin film few in appearance defect such as a scratch, warp, crack or the like at the outside surface and the inside of the timber.例文帳に追加

硬化性に優れると共に、樹脂含浸木材として十分な耐久性を確保でき、かすれ等の外観不良、木材のソリ、割れ等の少ない硬化樹脂塗膜を、木材の表面および内部に形成することのできる木材含浸用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

This surface inspection device 100 is provided with a lighting system 1 for emitting slit-like illumination light to an inspected object M, a two-dimensional imaging device 2 for imaging reflected light thereof, and an image processor 3 for detecting the defect based on a shape of a slit part in a picked-up image.例文帳に追加

表面欠陥検査装置１００は、被検査対象物Ｍにスリット状の照明光を照射する照明装置１と、その反射光を撮像する２次元撮像装置２と、撮像画像におけるスリット部の形状に基づき欠陥を検出する画像処理装置３とを備える。 - 特許庁

To provide an optical sheet that reduce the shape change due to crushing of an optical element even if impact is applied onto the surface of the optical element during packing and transportation of the optical sheet, and are advantageous for providing when a clear display image is obtained without causing defect/failure; a display back light unit; and a display device.例文帳に追加

光学シートの梱包、輸送の際に光学素子の表面上に衝撃が加わっても、光学素子の潰れによる形状変化を低減し、欠陥不良が起きず鮮明な表示画像を得る上で有利な光学シート、ディスプレイ用バックライトユニット、表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for evaluating an annealing wafer solving the controversial point of a conventional technique and being capable of simply evaluating the annealing wafer, particularly the thickness of a non-defect layer formed on the surface of the annealing wafer accurately, and to provide the method for assuring the quality of the annealing wafer utilizing the evaluating method.例文帳に追加

従来技術の問題点を解消し、アニールウエーハ、特に、その表面に作られる無欠陥層の厚さを簡便に精度よく評価することのできるアニールウエーハの評価方法及びこの評価方法を利用したアニールウエーハの品質保証方法を提供する。 - 特許庁

To provide a rubber composition for use in tires which is capable of inhibiting the crack on the surface of a tire while suppressing the usage of a component derived from the petroleum resources as well as which is capable of suppressing the external appearance defect on tires; and a tire made by using this rubber composition for use in tires.例文帳に追加

石油資源に由来する成分の使用量を抑えつつ、タイヤ表面のクラックを抑止することができるとともに、タイヤの外観不良を抑えることができるタイヤ用ゴム組成物およびそのタイヤ用ゴム組成物を用いて作製されたタイヤを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sheet-laminated aluminum profile wherein only a sheet material is cut relatively simply and accurately without cutting the profile, there is no problem of generation of cutting chips or a product defect, and a resin sheet material is integrally laminated on the surface of the profile, and also to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

形材を切断することなくシート材料だけを比較的簡単にかつ精度良く切断でき、切粉の発生や製品不良の問題もなく形材表面に樹脂シート材料が一体的にラミネートされたシート貼着アルミニウム形材を製造できる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide the insulating film forming method of a semiconductor device which can improve the reliability of process and the electrical characteristics of element, by minimizing defect generation in the front surface of the insulating film, and by suppressing failures or the like, where a pattern formed on its upper portion becomes thin, or is cut.例文帳に追加

絶縁膜の表面における欠陥発生を最小化し、その上部に形成されるパターンが薄くなり或いは切れる不良などを抑制し、工程の信頼性及び素子の電気的特性を向上させることが可能な、半導体素子の絶縁膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the occurrence of a bonding peel-off defect caused by the reason that components such as C and F in etching gas such as CF_4 and CHF_3 to be used in an etching process for forming the aperture of a passivation film consisting of a silicon nitride film is left on the Al surface of a bonding pad.例文帳に追加

本発明は、シリコン窒化膜から成るパッシベーション膜に開口部を形成するためのエッチング工程において用いられる、例えばＣＦ_４やＣＨＦ_３等のエッチングガス内のＣやＦの成分などがボンディングパッドのＡｌ表面に残ることに起因するボンディング剥がれ不良を抑止する。 - 特許庁

To allow easy eddy current examination of high senstivity as to the presence of a defect generated on a surface of a testing body having a circular cross section, in a hot condition, and reduce the possibility of damage of a flaw detection coil in the eddy current examination to a small extent.例文帳に追加

円形断面を有する試験体の表面に発生した欠陥の有無を、熱間において、高感度かつ簡便に渦流探傷することができ、しかも、渦流探傷の際に探傷コイルが破損するおそれの少ない熱間渦流探傷プローブを提供すること。 - 特許庁

The method contains a process for applying an adhesive layer 16 to a metal substrate 14 and a process for laminating a decorating metallic plate 12 on the metallic substrate 14 so as to substantially completely avoid a surface defect and a core reflection phenomenon along an outside face 13 of a decorating metal plate 12.例文帳に追加

接着剤層１６を金属基板１４に塗布する工程と、装飾金属板１２の外側面１３に沿った表面欠陥とコアうつり現象を実質的に完全に回避するように前記装飾金属板１２を前記金属基板１４にラミネートする工程とを有している。 - 特許庁

To eliminate such a defect that when degreasing a ceramic molded body using an activated carbon powder or zeolite powder, the powder adheres to the surface of a ceramic sintered compact, and fracture or crack is generated resulting in occurrence of defective products when removing the adhered powder.例文帳に追加

活性炭粉体又はゼオライト粉体を用いてセラミック成形体の脱脂を行うにあたり、セラミック焼結体の表面に活性炭粉体又はゼオライト粉体が付着し、この付着物を除去する際に欠けや割れが発生して不良品が発生することを防止する。 - 特許庁

To provide a reduced pressure drying apparatus which does not make to generate a minute defect on the front surface of a coating film by eliminating the ununiformity of the film thickness resulting from a remaining solvent in reduced pressure drying used when a pattern is formed by a photolithography method, and to provide a reduced pressure drying method.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によってパターンを形成する際に用いる減圧乾燥において、残留溶剤に起因した膜厚の不均一性を解消し、塗膜の表面に微小欠陥を発生させない減圧乾燥装置、減圧乾燥方法を提供すること。 - 特許庁

In this surface defect inspection device, the light emitting elements 30 are arranged consecutively to remain a prescribed shape of dark face in an inside, in the lay-out pattern, and arranged to receive the irradiation light of each of the light emitting elements 30 reflected from the inspected face on at least one dark face 31 by the imaging camera 4.例文帳に追加

レイアウトパターンが発光素子３０を内側に所定形状の暗面を残すように連続的に配置させたものであり、少なくとも１つの暗面３１に撮像カメラ４が被検査面から反射される各発光素子３０の照射光を受光するように配置する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor realizing high image quality recording whose resolution is ≥1,200 dpi and eliminating an image defect such as an interference fringe pattern (moire) by setting the surface roughness of a conductive supporting body to a specified range, and an image forming method using the same.例文帳に追加

この発明は、導電性支持体の表面粗さを特定の範囲に設定することにより、解像度１２００ｄｐｉ以上の高画質記録で、干渉縞模様（モアレ）等の画像不良を解消した電子写真感光体及びそれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a stripe defect in the spreading direction which is generated on a film flow-cast on a metal supporting body from occurring when a plastic polymer film is manufactured by a solution casting method, and at the same time, manufacture the film which is excellent in surface smoothness and thickness uniformity at a favorable productivity.例文帳に追加

プラスチックポリマーのフィルムを溶液キャスト法で製造する際、金属支持体上に流延されたフィルムに発生する流延方向のスジ欠陥を防止するとともに、表面平滑性及び厚み均一性も優れたフィルムを生産性よく製造できるようにする。 - 特許庁

To provide a method of heat-treating a silicon wafer, the method eliminating a crystal defect of a COP etc., at a surface part of the wafer to become a device active region, generating a BMD at a bulk part with high density, and further suppressing a slip generated during an RTP.例文帳に追加

デバイス活性領域となるウェーハの表面部においてＣＯＰ等の結晶欠陥を消滅させることができ、バルク部においてはＢＭＤを高密度で形成させることができ、さらに、ＲＴＰにおいて発生するスリップを抑制することができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the defect, such as scab-like flaw, blister flaw, caused by gas bubble and inclusion catched on the surface layer of a cast slab, to reduce cleaning work and to improve the yield of a good product, in the case of casting molten steel in a mold into the slab, etc., by electromagnetic-stirring.例文帳に追加

鋳型内の溶鋼を電磁攪拌してスラブ等を鋳造する際に、鋳片の表層部に捕捉された気泡や介在物に起因するヘゲ疵やフクレ疵等の欠陥を防止し、手入れを減らし良製品の歩留りを向上できる溶鋼の連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pressure bonding device for an ornament sheet applying a woodgraining treatment to the peripheral end of the ornament sheet while press bonding the the ornament sheet to the surface of a trim body in which defect such as floating and peeling of the end portion of the ornament sheet is eliminated, and end treatment is simply carried out at low cost.例文帳に追加

トリム本体の表面に装飾シートを圧着して装飾シートの周縁端末を木目込み処理する装飾シートの圧着装置において、装飾シートの端末部の浮き、剥がれ等の不良をなくすとともに、端末処理を簡単かつ廉価に実施する。 - 特許庁

To provide a recorder by which the fluctuation of resistance is not caused by environmental change and the transferring of printing on a back surface, the mark of electronic discharge on a transfer medium and an image transfer defect such as developer image scattering do not occur even in the case of the miniaturization of a device, and fogging on the end part of the transfer medium does not occur.例文帳に追加

環境変化や裏面印字転写等で抵抗の変動を生じたり、装置が小型化しても、転写媒体に対して放電跡、現像剤像チリ等の画像転写欠陥が生じず、且つ転写媒体端部のカブリ等が発生しない記録装置を提供せんとするものである。 - 特許庁