「surface defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing a silicon single crystal wafer consisting of an N-region where neither V-rich region nor I-rich region is present and the defect density is extremely low in the entire surface of the crystal produced by the CZ method, under the condition that can be controlled easily in a wide range, while maintaining high yield and high productivity.例文帳に追加

制御幅が広く、制御し易い製造条件の下で、Ｖ−リッチ領域およびＩ−リッチ領域のいずれも存在しない、結晶全面に亙って極低欠陥密度であるＮ−領域からなるＣＺ法によるシリコン単結晶ウエーハを、高歩留り、高生産性を維持しながら製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic charge image developing toner composition which prevents scumming from occurring by efficiently and uniformly performing charging, suppresses toner leakage of the supply toner due to a reset defect by overcharging of the toner on a developing roller and stripes on a conveyance surface due to electrostatic flocculation and makes it possible to obtain excellent image stability.例文帳に追加

帯電を効率良く、均一に行なうことにより、地汚れが発生せず、かつ、現像ローラ上トナーの過帯電によるリセット不良が原因による供給トナーのトナー漏れ、静電凝集による搬送面のスジを抑制し、しかも優れた画像安定性の得られる静電荷現像用トナー組成物を提供すること。 - 特許庁

In the medical connector composed of polymer materials containing photocatalysts or covering an inner surface thereof with photocatalysts, it is preferable that the photocatalyst is a titanium-oxide base catalyst, especially, it is preferable that the catalyst functions under visible light beams and that the photocatalyst is a titanium-dioxide base catalyst having a stable oxygen defect.例文帳に追加

光触媒を含むポリマー材料で構成された、または内表面が光触媒で被覆された医療用コネクタであり、光触媒は酸化チタン系触媒であることが望ましく、特に、可視光線下に触媒作用を発現し、かつ安定した酸素欠陥を有する二酸化チタン系触媒が望ましい。 - 特許庁

To provide a method of a heat treatment capable of reducing the face roughness on a wafer surface, notably generated especially in the periphery of the wafer in the high temperature anealing for reduction of void defect performed in hydrogen gas, an inert gas such as argon, or alternatively thereof mixing gas.例文帳に追加

水素ガスまたはアルゴンなどの不活性ガス中、あるいはその混合ガス中で行われるボイド性欠陥の低減のための高温熱処理において、ウェーハ表面に面荒れが発生し易い問題、特にウェーハの外周部に顕著に発生する面荒れを低減できる半導体ウェーハの熱処理方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing sufficiently a monocrystal GaN substrate which is a growing substrate capable of obtaining a semiconductor layer of a good surface morphology or a monocrystal GaN substrate which can be suitably used as a semiconductor substrate, by reducing a defect in a polishing process and shortening a polishing time.例文帳に追加

研磨工程における不良を低減し、研磨時間を短縮して、表面モフォロジーが良好な半導体層が得られる成長用基板である単結晶ＧａＮ基板又は半導体基板として好適に用いることができる単結晶ＧａＮ基板を効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁

The superconducting film has a substrate and a superconductor layer formed on the substrate, and nano-grooves are formed on the surface of the substrate on which the superconducting layer is formed in parallel with the current flowing direction, and a planar crystal defect is introduced in the superconductor layer on the nano-groove.例文帳に追加

基板と該基板上に形成された超伝導体層とを有する超伝導膜であって、該超電導層が形成される基板表面に電流通電方向と平行にナノグルーブが形成されており、該ナノグルーブの上の該超伝導体層に面状結晶欠陥が導入されていることを特徴とする超伝導膜。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, restraining a bad influence of ozone generated from a charging device by applying main charge bias upon a photoreceptor drum, thereby preventing the occurrence of image defect due to lowering of surface potential of the photoreceptor drum in an install mode, and achieving stable image forming processing.例文帳に追加

メインチャージバイアスの印加により帯電デバイスから発生するオゾンによる感光体ドラムへの悪影響を抑制することができ、よってインストールモードにおける感光体ドラムの表面電位低下に伴う画像不具合の発生を防止し、安定した画像形成処理を実現することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor constituted so that the adhesion state can be visually confirmed in the case of attaching a flange to the end aperture part of a photoreceptor drum and also the ruggedness by an adhesive on the surface of the photoreceptor drum may not cause an image defect even in the case of using a thin-wall base substance for the photoreceptor drum.例文帳に追加

感光体ドラムの端部開口部にフランジを取付ける際、接着状態を目で確認できるようにすると共に、感光体ドラムに薄肉の基体を用いた場合でも接着剤による表面の凸凹が画像不良につながらないような電子写真感光体を提供することである。 - 特許庁

To provide a mold die having a compound coating layer for providing sufficient opening property in a surface of a skinless foam roller and continuously providing the opening property, the skinless foam roller for suppressing occurrence of an image defect using the mold die for a long time, and a method of efficiently manufacturing the skinless foam roller.例文帳に追加

スキンレスフォームローラの表面に良好な開口性を付与し開口性を持続して与えるに足る複合皮膜層を有した成形金型、ならびにその成形金型を用いた画像不良の発生を長期に抑制できるスキンレスフォームローラおよび効率の良いその製造方法を提供すること。 - 特許庁

An electronic microscope 5, for observing defects detected by an optical defect inspection apparatus or an optical visual inspection apparatus, is configured in such a manner that an optical microscope 14 for redetecting defects is mounted thereupon and that a distribution polarization element and a spatial filter are inserted in its pupil surface, when the optical microscope 14 is used to observe dark field.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a metallic structure superior in gloss, which reduces such faulty phenomena that a reductive reaction does not progress sufficiently, and a formed metallic structure has a defect on its surface; a composition for forming the metallic structure, which is used for the forming method; and an electronic component.例文帳に追加

還元反応が十分に進行しない、形成される金属構造物の表面に欠陥を有する等の不良現象が抑制され、光沢に優れた金属構造物を形成する方法及びその形成方法に用いられる金属構造物形成用組成物並びに電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a laminated substrate in which a film thinning stop layer can be removed without any heat treatment, the removing operation for the stop layer is facilitated to increase production efficiency of a substrate, and the stop layer can be polished without any defect caused by heat treatment while maintaining polishing amount uniformity in a wafer surface.例文帳に追加

熱処理を伴わない薄膜化ストップ層の除去が可能で、このストップ層の除去作業が簡易化して基板の生産効率が高まり、熱処理による欠陥が発生せず、ウェーハ面内での研磨量均一性を保持してのストップ層の研磨が可能な貼り合わせ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a condensation-crosslinkable silicone composition which enables rapid crosslinking and also does not exhibit problems, for example, yellowing, surface stickiness, a slow vulcanization rate, or stability when stored, or a defect of incompatibility with an ordinary aminosilane-based binder, and of which the use does not generate health concern.例文帳に追加

迅速な架橋が可能であるとともにたとえば、黄変、表面粘着、緩慢な加硫速度、貯蔵の際の安定性の問題又はアミノシランベースの通常の結合剤との不相溶性の欠点を示すものではなく、さらにその使用は健康面における懸念を生じない、縮合架橋性のシリコーン組成物を提供することである。 - 特許庁

To suppress formation of a void as a connection defect caused by trapping of a gas in a connection layer by eliminating the need of working, such as, grooving on the reverse surface of a semiconductor element, even when a semiconductor is connected using a conductive adhesive producing an extremely large amount of gas.例文帳に追加

ガスの発生がきわめて多量な導電性接着剤を用いて半導体素子の接続を行う場合においても、半導体素子の裏面に溝加工などの加工を不要とし、接続層内部にガスがトラップされることにより形成される接続欠陥としてのボイドの発生を抑制することである。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (157 nm) is used, and specifically to provide a positive resist composition having sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used, and having improved surface roughness, development defect, scum and resolution.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

After a polishing process ends, a top surface of the glass substrate is observed using an optical microscope after a pit defect which has an easy-to-observe size is obtained through 5 μm etching using an acid etching solution including hydrogen fluoride, nitric acid, etc., and then isotropic etching of a processing deformed layer (a flaw etc.) remaining at a chamfer part.例文帳に追加

研磨工程終了後、ガラス基板の表面を、フッ酸や硝酸等を含む酸性のエッチング溶液を用いて５μｍエッチングし、面取り部に残留する加工変質層（キズなど）を等方的にエッチングして観察しやすい大きさのピット欠陥にした後、光学顕微鏡を用いて観察する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon wafer that improves reducing effect of a Grown-in defect while suppressing a slip occurrence during a rapid-heating and rapid-cooling heat treatment, and also improves surface roughness of an obtained silicon wafer after the rapid-heating and rapid-cooling heat treatment.例文帳に追加

急速加熱・急速冷却熱処理時におけるスリップの発生を抑制しつつ、Ｇｒｏｗｎ−ｉｎ欠陥の低減力を向上させることができ、加えて、急速加熱・急速冷却熱処理後、得られるシリコンウェーハの表面荒れも改善することができるシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

As the adhesion layer is formed on the back surface of the light transmitting plate and there is no need for forming a coating layer on the light receiving plane of the solar battery, there is no need for considering compatibility to the light receiving plane or for disposing of or replacing the solar battery one by one due to a defect in the coating layer.例文帳に追加

透光性板の背面上に被着層が形成されていることにより、太陽電池の受光面上に被覆層を形成する必要がないために受光面に対する適合性を配慮する必要がなく、被覆層の欠陥によって太陽電池毎廃棄或いは交換する必要もなくなる。 - 特許庁

To provide an electro-optical device for improving productivity by preventing a shading layer from electrifying, preventing defect of a semiconductor layer of a thin film transistor, and facilitating removal of particles of the surface of the shading layer, and to provide its manufacturing method, and electronic equipment using the electro-optical device.例文帳に追加

遮光層が帯電することを防止して薄膜トランジスタの半導体層の欠陥を防止すると共に、遮光層表面のパーティクルの除去を容易にして生産性を向上させることができる電気光学装置とその製造方法、およびその電気光学装置を用いた電子機器を提供する。 - 特許庁

To enhance the production efficiency of a thermoplastic resin sheet mainly comprising an aliphatic polyester without forming a defect to the sheet by suppressing the deposition of an oligomer on the surface of a cooling drum for molding a thermoplastic resin into a sheetlike shape at the time of molding of the thermoplastic resin sheet.例文帳に追加

本発明の課題は、脂肪族ポリエステルを主成分とする熱可塑性樹脂シートを成形するに際し、熱可塑性樹脂をシート状に成形する冷却ドラム表面へのオリゴマ堆積を抑制し、シートに欠点を生じさせずに生産効率の良い熱可塑性樹脂シートの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a toner which is hardly affected by environmental conditions and has stable electrification performance and high transferability and by which fogging is prevented even in the case of long term use, image intensity is not reduced, scraped surface of a photoreceptor hardly occurs and an image defect hardly occurs even in the case of long term use.例文帳に追加

環境に左右されにくく、安定した帯電性能を有し、長時間の使用においてもカブリの発生が抑制され、画像濃度の低下もなく、高転写性を有し、感光体表面の削れキズを生じにくく、長期間の使用においても画像欠陥の発生しにくいトナーを提供する。 - 特許庁

A contact area with a tool and the like used in press working, of this fin material 10 for the heat exchanger is reduced by irregularity of a surface formed by the particles 22 dispersed in the coarsened film 2, thus separation and defect of the water-repellent film 3 including hydrophobic silica of low adhesiveness can be reduced, and the water repellency can be retained.例文帳に追加

熱交換器用フィン材１０は、粗面化皮膜２に分散させた粒子２２で形成される表面の凹凸によりプレス加工における工具等との接触面積を少なくして、密着性の低い疎水性シリカを含む撥水性皮膜３を剥離、欠損し難くして、撥水性を保持することができる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which is capable of excellently protecting the surface of a photoreceptor 3Y from stress due to discharge, while maintaining the excellent lubricity between the photoreceptor 3Y and a cleaning blade 20Y over a long period of time and suppressing the occurrence of a white streak image due to the exposure defect of the photoreceptor 3Y.例文帳に追加

感光体３Ｙとクリーニングブレード２０Ｙとの良好な潤滑性を長期間に渡って維持しつつ、感光体３Ｙの表面を放電によるストレスから良好に保護し、且つ、感光体３Ｙの露光不良による白スジ画像の発生を抑えることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To obtain three images which are to be compared in double detection through main scanning toward the same direction, and to perform main scanning in both the normal and reverse directions, in defect inspection for scanning a sample surface on which a repeated pattern where a plurality of basic patterns are repeated is formed, and comparing each image on corresponding parts of the plurality of respective basic patterns.例文帳に追加

複数の基本パターンが反復する反復パターンが形成された試料表面を走査し、複数の基本パターン相互の対応部分の画像同士を比較する欠陥検査において、ダブルデテクションで比較される３画像を同一方向に向かう主走査で取得しかつ正逆両方向において主走査を行う。 - 特許庁

To provide a composition for polishing of a substrate for a magnetic disc capable of maintaining polishing speed at the early stage of polishing work by restraining blinding of a polishing pad in the middle of the polishing work and capable of restraining growth of a surface defect on the substrate for the magnetic disc after the polishing work and a polishing method using it.例文帳に追加

研磨加工中に研磨パッドの目詰まりを抑制することによって、研磨加工初期の研磨速度を維持するとともに、研磨加工後の磁気ディスク用基板における表面欠陥の発生を抑制することができる磁気ディスク用基板の研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To reduce an adhesion of dusts to a surface of a material to be polished, to decrease scratch damages, to further allow it and flattening characteristics to be compatible and to remove a fine unevenness of a semiconductor wafer itself before forming an unevenness, that is, a defect represented by waviness, a nanotopology or the like by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、さらに平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、すなわち、ｗａｖｉｎｅｓｓや、ｎａｎｏｔｏｐｏｌｏｇｙなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

To eliminate the defect that the fingertip of a user or the like touches the tip part of a positioning projection in the case of positioning a lower plate by inserting the positioning projection to a positioning hole provided on the lower plate for the lid of an electric pot in which the lower plate is detachably attached to the lower surface of a lid body.例文帳に追加

蓋本体の下面に下板を取外し可能に取付けた電気ポットの蓋において、上記下板に設けた位置決め穴に位置決め突起を挿通して下板の位置決めを行うようにした場合に、位置決め突起の先端部に使用者等の指先が接触する不具合を解消することである。 - 特許庁

In the medical mixed injection port composed of polymer materials containing photocatalysts or covering an inner surface thereof with photocatalysts, it is preferable that the photocatalyst is a titanium-oxide base catalyst, especially, it is preferable that catalyst operation appears under visible light and that the photocatalyst is a titanium-dioxide base catalyst having a stable oxygen defect.例文帳に追加

光触媒を含むポリマー材料で構成された、または内表面が光触媒で被覆された医療用混注口であり、光触媒は酸化チタン系触媒であることが望ましく、特に、可視光線下に触媒作用を発現し、かつ安定した酸素欠陥を有する二酸化チタン系触媒が望ましい。 - 特許庁

To provide a surface treating agent composition for a tire, which is free from such the defect that a dried film thereof becomes black and bar codes can not be read, does not cause appearance deterioration and adhesion inhibition after vulcanization, consequently has no harmful effect on the physical properties of a rubber product, and forms a transparent film with conventional good air release properties.例文帳に追加

乾燥皮膜が黒色となってバーコード読み取りができないといった欠点がなく、加硫後の外観不良及び接着阻害を起こさないなど、ゴム製品の物性に有害作用を及ぼさず、従来通りのエア抜き性が良好な透明な皮膜を形成するタイヤ用表面処理剤組成物を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor device, a barrier film and a seed film are specified, and further a proportion (frequency) of a corresponding (CSL) grain boundary in which a grain boundary Σ value is 27 or below in the whole crystal grain boundary of the Cu wiring is set at ≥60%, thereby a surface defect can be reduced to ≤1/10 of a practicable present level.例文帳に追加

半導体装置において、バリア膜及びシード膜を特定すると共に、Ｃｕ配線の全ての結晶粒界に占める、粒界Σ値２７以下の対応（ＣＳＬ）粒界の割合（頻度）を６０％以上とすることにより、表面欠陥を実用可能な現状レベルの１／１０以下まで低減できる。 - 特許庁

In order to prevent the deviating wrinkles or surface waviness of an overlay cloth 1 placed and used on a carpet floor material 4 without problem of defect, two different types of non-woven sheets 2, 3 designated by the method are combined in an order designated by the method and are subjected to laying construction between the overlay cloth 1 and the carpet floor material 4.例文帳に追加

カーペット床材４上に載せて使用する上敷物１のずれ動き皺やたるみの発生を欠陥問題なく防止するため、工法の指定する種類の異なる二種類の不織布シート２，３を、工法の指定する順序で組み合わせて、上敷物１とカーペット床材４の間に敷き置き施工する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that can stably remove discharge products sticking on the surface of a latent image carrier without increasing intricacy during use nor making the apparatus large-sized and perform stable image formation for a long period without damaging the latent image carrier nor causing an image defect.例文帳に追加

使用上の煩雑さが増したり、装置を大型化したりすることなく、潜像担持体表面に付着した放電生成物を安定して除去でき、潜像担持体の損傷や、画像欠陥が発生することなく、長期にわたって安定した画像形成を行うことができる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a defect inspecting apparatus and its method for sensitively and quickly inspecting defects, such as minute foreign particles, flaws, etc. of the order of 0.1μm on an inspection substrate, such as a wafer having a transparent thin film on a surface, a wafer having a circuit pattern, etc.例文帳に追加

表面に透明薄膜が形成されたウェハ等の被検査対象基板はもとより、回路パターンを有するウェハ等の被検査対象基板に対して、０．１μｍレベルの微小な異物やキズ等の欠陥を、高感度で、しかも高速に検査できるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method and equipment for evaluating the life time and process damage of a semiconductor substrate on the basis of the intensity of haze light by aiming at the haze light being scattering light emitted from an area in which strong scattering body does not exit when the crystal defect of a semiconductor substrate surface layer is evaluated by light scattering.例文帳に追加

半導体基板表層の結晶欠陥を光散乱で評価する際、強い散乱体が存在しない領域から発せられる散乱光であるヘイズ光に着目し、このヘイズ光の強度に基づいて半導体基板のライフタイムおよびプロセスダメージを評価する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing high purity polycrystal silicon able to prevent occurrence of defect at a boundary face between a silicon core and new deposited polycrystal silicon on its surface when a polycrystal silicon rod is produced by depositing of silicon on the silicon core, using a thermal decomposition reaction of hydrogenated silicon.例文帳に追加

シリコンの水素化合物の熱分解反応によりシリコン芯体上にシリコンを析出させる棒状多結晶シリコンの製造時に、シリコン芯体とその表面に新たに析出する多結晶シリコンとの界面近傍における欠陥の発生を防止できる高純度多結晶シリコンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate trouble such as image defect or back surface stain caused by toner or paper powder adhered to a conductive guide member arranged in a conveyance path from a paper feeding device to a fixing device via an image process device, in an image forming apparatus using an electrophotographic system.例文帳に追加

電子写真方式を採用した画像形成装置において、給紙装置から画像プロセス装置を経て定着装置に至るまでの搬送経路中に配置され且つ導電性を呈するガイド部材に、トナーや紙粉が付着していたために生ずる画像汚れや裏面汚れ等の問題を解消する。 - 特許庁

The probe 2 of a scan-type probe microscope is heated and scanned near the surface of a sample, applying etching gas to the mask to be treated so that the mask area to be treated (opaque defect) and etching gas react chemically by heat radiation from the probe 2, resulting in generation and evaporation of a volatile substance.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡の探針２を熱して、マスクの被加工領域にエッチングガスを吹きつけながら試料表面に接近させた状態で走査させ、探針２からの輻射熱によりマスクの被加工領域（黒欠陥）とエッチングガスとで化学反応を起こさせ、揮発性物質を生成させ蒸発させる。 - 特許庁

To reduce adhesion of dust to the surface of a material to be polished, to reduce the occurrence of a scratch flaw, to make flattening characteristics compatible, and further to remove fine recess and protrusion of a semiconductor wafer itself before machining a recess and a protrusion, that is, a defect represented into waviness and nanotopology, by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、さらに平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、すなわち、ｗａｖｉｎｅｓｓや、ｎａｎｏｔｏｐｏｌｏｇｙなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

To provide polishing cloth processing a base board for a recording disk with excellent productivity, by checking sticking of a titanium compound represented by titanium dioxide to a disk surface, by realizing uniform processing by restraining a scratch being a defect of the disk, in texture processing of a magnetic disk requiring highly accurate finishing.例文帳に追加

高精度の仕上げを要求される磁気ディスクのテクスチャー加工において、ディスクの欠点となるスクラッチを抑制して均一な加工を実現するとともに、ディスク表面への二酸化チタンに代表されるチタン化合物の付着を阻止することで、記録ディスク用基板を生産性よく加工できる研磨布を提供する。 - 特許庁

The SiC epitaxial wafer is an SiC epitaxial wafer in which an SiC epitaxial layer is formed on a 4H-SIC single crystal substrate made to incline by 0.4°-5° of an off angle, and is characterized in that the defect density of the triangle shape of the surface of the SiC epitaxial layer is at most 1 piece/cm^2.例文帳に追加

本発明のＳｉＣエピタキシャルウェハは、０．４°〜５°のオフ角で傾斜させた４Ｈ−ＳｉＣ単結晶基板上にＳｉＣエピタキシャル層を形成したＳｉＣエピタキシャルウェハであって、前記ＳｉＣエピタキシャル層の表面の三角形状の欠陥密度が１個／ｃｍ^２以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To prepare an excellent supporter film for a production process, enabling a transparent film especially usable for optical use, or the like, to be produced efficiently in good productivity, and capable of providing a cast film having a flat surface, and no defect when used in the optical application, and providing a clear image in display.例文帳に追加

特に光学用等に用いられる透明なフィルムを生産性良く効率的に製造することができ、得られたキャストフィルムの表面が平坦で、光学用途に使用した場合の欠陥がなく、ディスプレイ用においてクリアな画像を得ることができる、優れた製造工程用支持体フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a resin making a resist film surface well hydrophobic in patterning by immersion exposure, making an immersion liquid following property well, at the same time, prohibiting a developed acid from elution to immersion liquid and showing an effect for suppressing a development defect, and to provide a production method for the above and a positive-type resist composition containing the resin.例文帳に追加

液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、液浸液への発生酸の溶出を防止し、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet for solar battery back surface sealing which is excellent in moisture and heat resistant adhesiveness without the appearance defect of the sheet accompanying adhesion defects with a gas barrier base material or performance decline accompanying the decline of a gas barrier performance even under a severe preservation condition under a high temperature and high humidity, and a solar battery module using it.例文帳に追加

高温多湿下における過酷な保存条件においても、ガスバリア基材間の密着不良に伴うシートの外観不良や、ガスバリア性能の低下に伴う性能低下を伴わない、耐湿熱密着性に優れた太陽電池裏面封止用シート及びこれを用いた太陽電池モジュールを提供する。 - 特許庁

The image forming device prevents the image defect in company with the separation discharge occurring when separating the transfer paper P from the transfer belt 8 by restraining the discharge on a rear side of the transfer paper P parting from the transfer belt by stimulating the discharge on the surface of the transfer paper P by means of a discharge stimulating roller 140.例文帳に追加

放電励起ローラ１４０によって転写紙Ｐの表面での放電を励起させることにより転写ベルトから分離する転写紙Ｐの裏面での放電を抑制するようにして、転写紙Ｐを転写ベルト８から分離する際に発生する剥離放電に伴う画像不良を抑制するようにした。 - 特許庁

This test device 1 for detecting a defect inside the processed article 5, 6 and specifying a position thereof has: heat sources 2, 7, 13, 14; sensor devices 3, 10, 11, 12 for measuring temperature distribution of the surface 8 of the processed article; and an evaluation device 4 connected to the sensor devices.例文帳に追加

本発明は、加工品（５、６）内の欠陥を検出し、その位置を特定するための試験装置（１）に関するものであり、熱源（２、７、１３、１４）と、加工品の表面（８）の温度分布を測定するためのセンサ装置（３、１０、１１、１２）及びセンサ装置に接続された評価装置（４）を有している。 - 特許庁