「surface defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an electrophotographic photoreceptor excellent in mechanical durability, sensitivity and oxidation resistance of the surface, suppressing an image defect caused by deposition of a discharge product, and maintaining the characteristics at a high level with time, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the photoreceptor.例文帳に追加

表面の機械的耐久性や耐酸化性に優れ、放電生成物の付着に起因する画像欠陥も抑制できると共に感度にも優れ、さらに、これらの特性を経時的に高いレベルで維持することが容易な電子写真用感光体、並びに、これを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a solar cell module that can suppress occurrence of a connection defect of a reverse surface of a solar cell and a wiring material, the solar cell module, a solar cell forming the solar cell module, and a method for manufacturing the solar cell.例文帳に追加

太陽電池の裏面と配線材との接続不良が発生することを抑制するとともに、太陽電池の生産効率が低下することを抑制することのできる太陽電池モジュールの製造方法、太陽電池モジュール、当該太陽電池モジュールを形成する太陽電池、及び太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

This display device is constituted by providing the peripheral section of a display element 14 with a light absorption member 210, affixing a light absorption layer 214 to the segment which is a bright defect and providing the surface facing the large-sized light transmission plate 140 of an optical waveguide plate 20 which is one of the components of the display element 14 with projecting parts 216.例文帳に追加

表示素子１４の周部に光吸収部材２１０を設け、明欠陥となっている部分に光吸収層２１４を貼着し、表示素子１４の構成部材の１つである光導波板２０のうち、大型導光板１４０と対向する面に突部２１６を設けて構成する。 - 特許庁

To suppress formation of a void as a connection defect caused by trapping of a gas in a connection layer by eliminating the need of working, such as, grooving on the reverse surface of a semiconductor element, even when a semiconductor is connected using a conductive adhesive producing an extremely large amount of gas.例文帳に追加

ガスの発生がきわめて多量な導電性接着剤を用いて半導体素子の接続を行う場合においても、半導体素子の裏面に溝加工などの加工を不要とし、接続層内部にガスがトラップされることにより形成される接続欠陥としてのボイドの発生を抑制することである。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (157 nm) is used, and specifically to provide a positive resist composition having sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used, and having improved surface roughness, development defect, scum and resolution.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

After a polishing process ends, a top surface of the glass substrate is observed using an optical microscope after a pit defect which has an easy-to-observe size is obtained through 5 μm etching using an acid etching solution including hydrogen fluoride, nitric acid, etc., and then isotropic etching of a processing deformed layer (a flaw etc.) remaining at a chamfer part.例文帳に追加

研磨工程終了後、ガラス基板の表面を、フッ酸や硝酸等を含む酸性のエッチング溶液を用いて５μｍエッチングし、面取り部に残留する加工変質層（キズなど）を等方的にエッチングして観察しやすい大きさのピット欠陥にした後、光学顕微鏡を用いて観察する。 - 特許庁

To provide a mold die having a compound coating layer for providing sufficient opening property in a surface of a skinless foam roller and continuously providing the opening property, the skinless foam roller for suppressing occurrence of an image defect using the mold die for a long time, and a method of efficiently manufacturing the skinless foam roller.例文帳に追加

スキンレスフォームローラの表面に良好な開口性を付与し開口性を持続して与えるに足る複合皮膜層を有した成形金型、ならびにその成形金型を用いた画像不良の発生を長期に抑制できるスキンレスフォームローラおよび効率の良いその製造方法を提供すること。 - 特許庁

An electronic microscope 5, for observing defects detected by an optical defect inspection apparatus or an optical visual inspection apparatus, is configured in such a manner that an optical microscope 14 for redetecting defects is mounted thereupon and that a distribution polarization element and a spatial filter are inserted in its pupil surface, when the optical microscope 14 is used to observe dark field.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a metallic structure superior in gloss, which reduces such faulty phenomena that a reductive reaction does not progress sufficiently, and a formed metallic structure has a defect on its surface; a composition for forming the metallic structure, which is used for the forming method; and an electronic component.例文帳に追加

還元反応が十分に進行しない、形成される金属構造物の表面に欠陥を有する等の不良現象が抑制され、光沢に優れた金属構造物を形成する方法及びその形成方法に用いられる金属構造物形成用組成物並びに電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a laminated substrate in which a film thinning stop layer can be removed without any heat treatment, the removing operation for the stop layer is facilitated to increase production efficiency of a substrate, and the stop layer can be polished without any defect caused by heat treatment while maintaining polishing amount uniformity in a wafer surface.例文帳に追加

熱処理を伴わない薄膜化ストップ層の除去が可能で、このストップ層の除去作業が簡易化して基板の生産効率が高まり、熱処理による欠陥が発生せず、ウェーハ面内での研磨量均一性を保持してのストップ層の研磨が可能な貼り合わせ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a condensation-crosslinkable silicone composition which enables rapid crosslinking and also does not exhibit problems, for example, yellowing, surface stickiness, a slow vulcanization rate, or stability when stored, or a defect of incompatibility with an ordinary aminosilane-based binder, and of which the use does not generate health concern.例文帳に追加

迅速な架橋が可能であるとともにたとえば、黄変、表面粘着、緩慢な加硫速度、貯蔵の際の安定性の問題又はアミノシランベースの通常の結合剤との不相溶性の欠点を示すものではなく、さらにその使用は健康面における懸念を生じない、縮合架橋性のシリコーン組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide an electrostatic charge image developing toner composition which prevents scumming from occurring by efficiently and uniformly performing charging, suppresses toner leakage of the supply toner due to a reset defect by overcharging of the toner on a developing roller and stripes on a conveyance surface due to electrostatic flocculation and makes it possible to obtain excellent image stability.例文帳に追加

帯電を効率良く、均一に行なうことにより、地汚れが発生せず、かつ、現像ローラ上トナーの過帯電によるリセット不良が原因による供給トナーのトナー漏れ、静電凝集による搬送面のスジを抑制し、しかも優れた画像安定性の得られる静電荷現像用トナー組成物を提供すること。 - 特許庁

In the medical connector composed of polymer materials containing photocatalysts or covering an inner surface thereof with photocatalysts, it is preferable that the photocatalyst is a titanium-oxide base catalyst, especially, it is preferable that the catalyst functions under visible light beams and that the photocatalyst is a titanium-dioxide base catalyst having a stable oxygen defect.例文帳に追加

光触媒を含むポリマー材料で構成された、または内表面が光触媒で被覆された医療用コネクタであり、光触媒は酸化チタン系触媒であることが望ましく、特に、可視光線下に触媒作用を発現し、かつ安定した酸素欠陥を有する二酸化チタン系触媒が望ましい。 - 特許庁

To provide a method of a heat treatment capable of reducing the face roughness on a wafer surface, notably generated especially in the periphery of the wafer in the high temperature anealing for reduction of void defect performed in hydrogen gas, an inert gas such as argon, or alternatively thereof mixing gas.例文帳に追加

水素ガスまたはアルゴンなどの不活性ガス中、あるいはその混合ガス中で行われるボイド性欠陥の低減のための高温熱処理において、ウェーハ表面に面荒れが発生し易い問題、特にウェーハの外周部に顕著に発生する面荒れを低減できる半導体ウェーハの熱処理方法の提供。 - 特許庁

The probe 2 of a scan-type probe microscope is heated and scanned near the surface of a sample, applying etching gas to the mask to be treated so that the mask area to be treated (opaque defect) and etching gas react chemically by heat radiation from the probe 2, resulting in generation and evaporation of a volatile substance.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡の探針２を熱して、マスクの被加工領域にエッチングガスを吹きつけながら試料表面に接近させた状態で走査させ、探針２からの輻射熱によりマスクの被加工領域（黒欠陥）とエッチングガスとで化学反応を起こさせ、揮発性物質を生成させ蒸発させる。 - 特許庁

To provide an ultraviolet irradiation device which can cure good an ultraviolet curable ink adhered on a recording medium without resulting in the defect of skinning that only a surface of the ink is cured at the time of printing (for example, monochrome color printing) in which a film thickness of the ink adhered to the recording medium becomes relatively thick.例文帳に追加

記録媒体に付着させるインクの膜厚が比較的に厚くなる印刷（例えばモノカラー印刷）の際に、記録媒体上に付着された紫外線硬化型インクを、インクの表面のみが硬化する皮張りという不具合を招くこともなく、良好に硬化させることのできる紫外線照射装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition suitable for an exposure light source of ≤200 nm wavelength, in particular an F_2 excimer laser beam (157 nm), to be more specific, a positive photoresist composition which has sufficient transmittance for the 157 nm light source and further of which the surface roughness, the development defect, the development residue (scum) and the resolution are improved.例文帳に追加

２００ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ表面ラフネス、現像欠陥、現像残渣（スカム）、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The SiC epitaxial wafer is an SiC epitaxial wafer in which an SiC epitaxial layer is formed on a 4H-SIC single crystal substrate made to incline by 0.4°-5° of an off angle, and is characterized in that the defect density of the triangle shape of the surface of the SiC epitaxial layer is at most 1 piece/cm^2.例文帳に追加

本発明のＳｉＣエピタキシャルウェハは、０．４°〜５°のオフ角で傾斜させた４Ｈ−ＳｉＣ単結晶基板上にＳｉＣエピタキシャル層を形成したＳｉＣエピタキシャルウェハであって、前記ＳｉＣエピタキシャル層の表面の三角形状の欠陥密度が１個／ｃｍ^２以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a card type electronic circuit module that can have a tall electronic component mounted on a circuit board stored in a case while an external size and a height position of a terminal electrode meet the standard, and also can have a wide mounting area on a main surface of the circuit board to hardly have a defect in continuity of the terminal electrode.例文帳に追加

外形寸法や端子電極の高さ位置を規格に準じつつ、筐体内に収納される回路基板に背の高い電子部品を実装可能であると共に、該回路基板の主面に広い実装領域を確保できて端子電極の導通不良も発生しにくいカード型電子回路モジュールを提供すること。 - 特許庁

To reduce adhesion of dust to the surface of a material to be polished, to reduce the occurrence of a scratch flaw, to make flattening characteristics compatible, and further to remove fine recess and protrusion of a semiconductor wafer itself before machining a recess and a protrusion, that is, a defect represented into waviness and nanotopology, by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、さらに平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、すなわち、ｗａｖｉｎｅｓｓや、ｎａｎｏｔｏｐｏｌｏｇｙなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

To prepare an excellent supporter film for a production process, enabling a transparent film especially usable for optical use, or the like, to be produced efficiently in good productivity, and capable of providing a cast film having a flat surface, and no defect when used in the optical application, and providing a clear image in display.例文帳に追加

特に光学用等に用いられる透明なフィルムを生産性良く効率的に製造することができ、得られたキャストフィルムの表面が平坦で、光学用途に使用した場合の欠陥がなく、ディスプレイ用においてクリアな画像を得ることができる、優れた製造工程用支持体フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide polishing cloth processing a base board for a recording disk with excellent productivity, by checking sticking of a titanium compound represented by titanium dioxide to a disk surface, by realizing uniform processing by restraining a scratch being a defect of the disk, in texture processing of a magnetic disk requiring highly accurate finishing.例文帳に追加

高精度の仕上げを要求される磁気ディスクのテクスチャー加工において、ディスクの欠点となるスクラッチを抑制して均一な加工を実現するとともに、ディスク表面への二酸化チタンに代表されるチタン化合物の付着を阻止することで、記録ディスク用基板を生産性よく加工できる研磨布を提供する。 - 特許庁

To provide a resin making a resist film surface well hydrophobic in patterning by immersion exposure, making an immersion liquid following property well, at the same time, prohibiting a developed acid from elution to immersion liquid and showing an effect for suppressing a development defect, and to provide a production method for the above and a positive-type resist composition containing the resin.例文帳に追加

液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、液浸液への発生酸の溶出を防止し、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet for solar battery back surface sealing which is excellent in moisture and heat resistant adhesiveness without the appearance defect of the sheet accompanying adhesion defects with a gas barrier base material or performance decline accompanying the decline of a gas barrier performance even under a severe preservation condition under a high temperature and high humidity, and a solar battery module using it.例文帳に追加

高温多湿下における過酷な保存条件においても、ガスバリア基材間の密着不良に伴うシートの外観不良や、ガスバリア性能の低下に伴う性能低下を伴わない、耐湿熱密着性に優れた太陽電池裏面封止用シート及びこれを用いた太陽電池モジュールを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a phase difference film having a retardation characteristic (in-plane retardation is 0-10nm, and retardation in thickness direction is 70-400nm) useful for increasing a viewing angle of a liquid crystal display device, having small lagging axis angle unevenness of film, and having no quality defect such as a scratch and a dent on the film surface.例文帳に追加

液晶表示装置の視野角拡大に有用なレタデーション特性（面内レタデーションが０〜１０ｎｍ、厚み方向レタデーションが７０〜４００ｎｍ）を有し、フィルムの遅相軸角度むらが小さく、フィルム表面に傷や押されなどの品質欠陥のない位相差フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a silicon single crystal wafer consisting of an N-region where neither V-rich region nor I-rich region is present and the defect density is extremely low in the entire surface of the crystal produced by the CZ method, under the condition that can be controlled easily in a wide range, while maintaining high yield and high productivity.例文帳に追加

制御幅が広く、制御し易い製造条件の下で、Ｖ−リッチ領域およびＩ−リッチ領域のいずれも存在しない、結晶全面に亙って極低欠陥密度であるＮ−領域からなるＣＺ法によるシリコン単結晶ウエーハを、高歩留り、高生産性を維持しながら製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing sufficiently a monocrystal GaN substrate which is a growing substrate capable of obtaining a semiconductor layer of a good surface morphology or a monocrystal GaN substrate which can be suitably used as a semiconductor substrate, by reducing a defect in a polishing process and shortening a polishing time.例文帳に追加

研磨工程における不良を低減し、研磨時間を短縮して、表面モフォロジーが良好な半導体層が得られる成長用基板である単結晶ＧａＮ基板又は半導体基板として好適に用いることができる単結晶ＧａＮ基板を効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁

To detect an required molten part such as a hole or dent generated on the laser-welding-side surface of an object to be inspected as well as a through hole generated at the object, and to automatically judge degradation in welding strength due to molten part, for precision inspection of the defect of an object to be inspected.例文帳に追加

検査対象物に生じた貫通孔だけでなく、検査対象物のレーザー溶接側の表面に生じた穴アキや窪みなどの不要な溶解部分を検出することができ、さらに溶解部分による溶接強度の低下を自動的に判定することができ、高精度に検査対象物の欠陥検査を行える。 - 特許庁

Facets 1 are formed as inclined surfaces over an arranged surface of an underlying semiconductor layer 2 on which a plurality of the facets 1 are arranged, and a semiconductor device body is formed in a low defect density region formed in a selective growth embedded semiconductor layer 3 covering an underlying semiconductor layer 2, to improve the characteristics.例文帳に追加

複数のファセット１が配列された下地半導体層２の配置面に対して、ファセット１が傾斜面として形成され、下地半導体層２を覆う選択成長埋込み半導体層３に形成される低欠陥領域に半導体素子本体が形成され特性の改善が図られる。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor excellent in surface mechanical durability and oxidation resistance, suppressing an image defect caused by deposition of a discharge product, while having excellent sensitivity and low friction against sliding and high water repellency, and easily maintaining these characteristics at a high level with time.例文帳に追加

表面の機械的耐久性や耐酸化性に優れ、放電生成物の付着に起因する画像欠陥も抑制できると共に、感度にも優れ、摺動に対する低摩擦や高撥水性、さらにこれらの特性を経時的に高いレベルで維持することが容易な電子写真感光体を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of preventing image defect on various webs such as a web of rough surface paper, a web subjected to thermal deformation, or webs of different web widths and capable of ensuring a stable transfer band and the longevity of a transfer roller where the transfer roller is used in a high speed machine.例文帳に追加

粗面紙や熱的に変形を受けたウェブ或いはウェブ幅の異なる等の種々のウェブに対し、画像欠陥を生じることなく、また高速機での転写ローラ使用において、安定した転写バンドの確保並びに転写ローラの長寿命化を図ることが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To obtain an image peeling member which is capable of maintaining good image peeling performance repetitively for a long period and effectively preventing the occurrence of a defect of the image peeling layer on the surface and has excellent durability applicable over a wide range to reproducible image recording medium, and an image peeling device using the same.例文帳に追加

長期に渡って繰り返し良好な画像剥離性能を維持でき、表面の画像剥離層の欠陥の発生を効果的に防止し、再生可能な画像記録体に広範に適用可能な耐久性に優れた画像剥離部材及びそれを用いた画像剥離装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an SOI wafer, with which the occurrence of voids or crystal defect, a problem of the conventional SOI wafer manufacturing step, can be suppressed by eliminating the surface roughness and an overhung shape formed by the difference in growth speeds in upper and lower layers in a silicon epitaxial growth layer.例文帳に追加

シリコンエピタキシャル成長層における、表面ラフネスの解消と上下層の成長速度差に基づいて形成されるオーバーハング形状の解消とを図ることにより、ＳＯＩウエハ製造工程において問題となっていたボイドや結晶欠陥の発生を抑えることのできるＳＯＩウエハの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide the machining method which can actualize various elements such as a slider which is free of a defect in operation, etc., due to contamination when used and usable with high reliability by solving the problem of low deterioration in profile precision and the problem of contamination generation resulting from the roughness or chipping of a cut surface.例文帳に追加

プロファイル精度の低劣化の問題や、切断面の粗さあるいはチッピングに起因したコンタミネーション発生の問題を解決して、その実使用時にコンタミネーションに起因した動作不良等が発生することの無い、高い信頼性を以て利用可能なスライダなど各種の素子を実現できる加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic EL display in which poor coverage of a passivation layer is eliminated by reducing fine unevenness, such as foreign substance, projection or the like on the surface of an overcoat layer, thereby preventing an occurrence of display defect etc. due to residual gas and moisture diffused to an organic EL layer, its manufacturing method and its manufacturing apparatus.例文帳に追加

オーバーコート層表面上の異物や突起などの微細な凹凸を低減することで、パッシベーション層のカバレッジ不良が改善され、有機ＥＬ層への残留ガスや水分の拡散に起因する表示欠陥などの発生を防ぐことができる有機ＥＬディスプレイ並びにその製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

To solve a problem that a spare area is densely arranged to suppress increase of response delay time after a reassignment processing, however, on the other hand, use efficiency of a disk is lowered when the spare area is densely arranged, with respect to a disk device to perform the reassignment processing when an unrecoverable defect is generated on a recording surface of the disk.例文帳に追加

ディスクの記録面上に回復不可能な欠陥が発生した場合にリアサイン処理を行うディスク装置において、リアサイン処理後の応答遅延時間の増加を抑えるためにはスペア領域を密に配置する必要があるが、一方、スペア領域を密に配置するとディスクの利用効率が低下してしまう。 - 特許庁

The image forming device prevents the image defect in company with the separation discharge occurring when separating the transfer paper P from the transfer belt 8 by restraining the discharge on a rear side of the transfer paper P parting from the transfer belt by stimulating the discharge on the surface of the transfer paper P by means of a discharge stimulating roller 140.例文帳に追加

放電励起ローラ１４０によって転写紙Ｐの表面での放電を励起させることにより転写ベルトから分離する転写紙Ｐの裏面での放電を抑制するようにして、転写紙Ｐを転写ベルト８から分離する際に発生する剥離放電に伴う画像不良を抑制するようにした。 - 特許庁

This test device 1 for detecting a defect inside the processed article 5, 6 and specifying a position thereof has: heat sources 2, 7, 13, 14; sensor devices 3, 10, 11, 12 for measuring temperature distribution of the surface 8 of the processed article; and an evaluation device 4 connected to the sensor devices.例文帳に追加

本発明は、加工品（５、６）内の欠陥を検出し、その位置を特定するための試験装置（１）に関するものであり、熱源（２、７、１３、１４）と、加工品の表面（８）の温度分布を測定するためのセンサ装置（３、１０、１１、１２）及びセンサ装置に接続された評価装置（４）を有している。 - 特許庁

To provide an adhesive having a good adhesiveness and capable of preventing the occurrence of adhesive deposit and peeling defect even in passage of time after outside exposure or high-temperature storage; an adhesive sheet prepared by using the adhesive; another adhesive sheet prepared by using the above adhesive sheet for protecting the surface; and methods for preparing these adhesive sheets.例文帳に追加

屋外暴露後や高温保存後における経時においても、糊残りや剥離不良の発生を防止でき、良好な接着性を有する粘着剤、前記粘着剤を用いた粘着シート、前記粘着シートを表面保護用途に使用した粘着シート及びそれら粘着シートの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The three-dimensional photonic crystal system (1), with which the surface mode is outputted, is equipped with two three-dimensional photonic crystals (2, 3) whose top and reverse surfaces have different dielectric characteristics and a defect layer (4) provided between the two three-dimensional photonic crystals.例文帳に追加

上記の課題を解決するため、本発明の表面モードを出力するための３次元フォトニック結晶システム(1)は、上面と下面が異なる誘電特性を有する２つの３次元フォトニック結晶(2,3)と、前記２つの３次元フォトニック結晶の間に設けられた欠陥層(4)とを具備する、３次元フォトニック結晶システムである。 - 特許庁

To provide a dross defect suppressing device of a device for continuously plating a molten metal of a steel strip in which a dross residence time in a triangular zone at the time of continuously plating the molten metal is reduced, the dross inclusion is effectively suppressed, and a plated steel plate excellent in surface property is manufactured stably over a long time.例文帳に追加

連続溶融金属鍍金時の三角地帯におけるドロス滞留時間を減少させ、ドロス噛み込みを効果的に抑制し、表面性状の優れた鍍金鋼板を長期に渡り安定して製造し得る、鋼帯の連続溶融金属鍍金装置のドロス欠陥抑制装置を提供する。 - 特許庁

To suppress formation of a void as a connection defect caused by trapping of a gas in a connection layer by eliminating the need of working, such as, grooving on the reverse surface of a semiconductor element, even when a semiconductor is connected using a conductive adhesive producing a very large amount of gas.例文帳に追加

ガスの発生がきわめて多量な導電性接着剤を用いて半導体素子の接続を行う場合においても、半導体素子の裏面に溝加工などの加工を不要とし、接続層内部にガスがトラップされることにより形成される接続欠陥としてのボイドの発生を抑制することである。 - 特許庁

To obtain a polyester resin composition capable of decreasing oligomers generated in melt extrusion and so capable of decreasing cleaning frequency for the oligomers and increasing productivity and capable of obtaining products excellent in surface properties such as having no defect like streak and flaw, and to provide a method for producing the resin composition.例文帳に追加

溶融押出時に発生するオリゴマーを低減し、これにより、オリゴマー汚れによる清掃回数を低減でき生産性が向上できるとともに、且つ製品とした場合スジや傷といった欠点のない表面特性に優れた製品を得ることができるポリエステル樹脂組成物、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of a qualitative defect by preventing trouble such that the decorated surface of a sheet is collapsed and the sheet is moved, stretched or ruptured by injection pressure, the flowing pressure in a cavity or the like, in manufacturing a partially decorated molded product by setting a decoration sheet to a mold and injecting a molten resin in the mold.例文帳に追加

加飾シートを金型にセットして溶融樹脂を射出注入して部分加飾樹脂成形品を作製するにあたり、射出圧やキャビティ内流動圧等により、シートの加飾面が潰れたり、シートが動いたり、伸びたり、破れたりするような不具合を防止することを防止し、品質不良が生じないようにする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon wafer that improves reducing effect of a Grown-in defect while suppressing a slip occurrence during a rapid-heating and rapid-cooling heat treatment, and also improves surface roughness of an obtained silicon wafer after the rapid-heating and rapid-cooling heat treatment.例文帳に追加

急速加熱・急速冷却熱処理時におけるスリップの発生を抑制しつつ、Ｇｒｏｗｎ−ｉｎ欠陥の低減力を向上させることができ、加えて、急速加熱・急速冷却熱処理後、得られるシリコンウェーハの表面荒れも改善することができるシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁