「surface defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

As a result, the fluid 38 can increase the solidified reforming layer 39 and can increase the amount of dissipation of the casting defects, and the inner peripheral surface of the prepared hole of the casting 19 is more surely prevented from being communicated with the casting defect.例文帳に追加

これによって流動体３８が固化した改質層３９を増やすことができ、鋳造欠陥の消失量を増大することができ、鋳造物１９の下穴内周面と鋳造欠陥とが連通することをより確実に防ぐことができる。 - 特許庁

Therefore, base material-supporting force by the backup roll 16 is increased, and the slippage between the aluminum web and the backup roll 16 is prevented to cause no qualitative defect due to scratches on the surface of the aluminum web, and a photosensitive printing plate is excellently coated.例文帳に追加

このため、バックアップロール１６による支持体の保持力を増大させることができ、アルミウェブとバックアップロール１６との間のスリップを防止することができ、アルミウェブの表面のキズによる品質故障がなく、感光性印刷版を良好に塗布することができる。 - 特許庁

To provide a method and device for detecting a peripheral surface of a disk capable of detecting highly accurately an outer peripheral defect such as a chuck impression, a flaw or a chip remaining when chucking a disk substrate, almost without detecting foreign matter which is one of defects.例文帳に追加

欠陥の１つである異物をほとんど検出することなく、ディスク基板をチャックしたときに残るチャック痕、疵や欠け等の外周欠陥を高精度に検出することができるようなディスクの周面欠陥検出方法および検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a solid state imaging device in which the image quality of a reproduction screen is prevented from deteriorating by reducing a leak current being generated as the interface level increases due to crystal defect, or the like, in the vicinity of the substrate surface in a region where a photodiode is fabricated.例文帳に追加

フォトダイオードが形成されている領域の基板表面近辺において、結晶欠陥などに起因する界面準位の増加によって発生するリーク電流を低減し、再生画面の画質の劣化を抑止する固体撮像装置を提供する。 - 特許庁

A robot hand provided with a bar-like tool 9 and a CCD camera rotation-driven around the axis, is inserted into the inner part of a cylinder bore 2 and the inner peripheral surface 20 of the bore is picked up while shifting downward and whether the casting defect 3, such as blow hole, exists or not, and this position, is specified.例文帳に追加

軸心周りに回転駆動される棒状ツール９とＣＣＤカメラとを備えたハンドを上方からシリンダボア２の内部に入れ、下方に移動させながらボア内周面２ａを撮像して鋳巣等の鋳物欠陥３の有無とその位置を特定する。 - 特許庁

To provide an original sheet for a steel sheet for a can in which surface roughness can be stably controlled to the low one, and the defect in a gloss after tinning is not caused, to provide a method for producing the same, to provide a steel sheet for a can obtained from the original sheet, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

めっき原板の表面粗度を安定して小さく制御でき、すずめっき後の光沢不良を引き起こすことのない缶用鋼板用原板とその製造方法ならびにその原板から得られる缶用鋼板とその製造方法を提案する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which a single crystal Si thin film device can be formed easily on an insulating substrate without using an adhesive, and which contains a single crystal Si thin film wherein surface defect is eliminated and film thickness is small and uniform, and a method for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

単結晶Ｓｉ薄膜デバイスを絶縁基板に接着剤を使用することなく容易に形成可能であって、表面欠陥を除去した、膜厚が薄くかつ均一な単結晶Ｓｉ薄膜を含む半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide flux for continuously casting steel having suitable melting characteristic with which development of sintered block or slag bear in a mold developed when the steel is continuously cast, is prevented and the stable casting is secured and also, the development of surface defect on a cast slab is prevented.例文帳に追加

本発明は、鋼の連続鋳造の際に発生する鋳型内での焼結塊、またはスラグベアの発生を防止し、安定な鋳造を確保するとともに、鋳片の表面欠陥発生を防止するために、適切な溶融特性を有する鋼の連続鋳造用フラックスを提供する。 - 特許庁

Slight exposure can prevent the adhesion of development contrast of the resist film and large film reduction can be prevented, and the difference in surface condition between the element forming region and the resist film is reduced, thus smoothly shaking off the generated development defect when rinsing or high-speed rotation thereof.例文帳に追加

軽微に露光することで、レジスト膜の現像コントラストは付かず、大きな膜減りはないが、素子形成領域Ａｒ１におけるレジスト膜との表面状態の差が低減されることにより、発生した現像欠陥をリンス時や及びその高速回転においてスムーズに振るい落とすことができる。 - 特許庁

To provide a primary radiator for a parabolic antenna in which a reflection loss can be reduced without protruding a waterproof cover considerably forwards from a radiator body or without forming a protruding portion which causes a defect in molding of the waterproof cover, on an inner surface of the waterproof cover.例文帳に追加

防水カバーを放射器本体から前方に大きく突出させたり、防水カバーの内面に、防水カバーの成形不良の原因となる突出部を形成したりすることなく、反射損失の低減を図ることができるようにしたパラボラアンテナ用一次放射器を提供する。 - 特許庁

Since a notch (k) is formed on the periphery of a part to be punched before the corrugated card board is supplied to a punching machine, even when the punching forming places are close to each other, the generation of a defect such as cracking in the surface layer (t) of the card board W can be prevented.例文帳に追加

段ボール紙Ｗを打抜き機へ供給する前に、その打抜き予定部の周辺へ切れ目ｋを形成させているので、打抜き形成箇所が近接しているような場合であっても、段ボール紙Ｗの表層ｔにひび割れ等の欠陥が発生するのを防止できる。 - 特許庁

To provide a photoreceptor having good wear resistance and an extended lifetime, wherein a scratch of an imaging member in one or more surface layers of the member (which causes an observable undesirable print defect on a produced final print) is reduced or minimized.例文帳に追加

良好な耐摩耗性および延長した寿命を有し、部材の単数又は複数の表面層における撮像部材の傷（これは生み出された最終印刷物上で目視できる望ましくない印刷欠陥を生じる）が減少または最小化した感光体を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated polyester film capable of suppressing both of the defect of bright spots due to the surface precipitation of an oligomer at the time of heating processing and a rise in haze, more detailed, a laminated polyester film usable even in an optical use.例文帳に追加

加熱加工時のオリゴマーの表面析出による輝点欠点とヘイズ上昇の両方を抑制する事のできる積層ポリエステルフィルムを提供することが課題であり、更に詳しくは、光学用途にも使用可能な積層ポリエステルフィルムを提供する事が課題である。 - 特許庁

To provide a pad and method for chemical mechanical polishing which can establish high flatness when chemically and mechanically polishing a semiconductor device that is provided with two layers of insulator having different hardness and hardly generates surface defect such as peeling or scratch of a material.例文帳に追加

硬度の異なる二層の絶縁体層を有する半導体装置の化学機械的研磨において高度の平坦性が得られ、材料の剥がれやスクラッチ等の表面欠陥が発生することのない化学機械研磨パッドおよび化学機械研磨方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a ceramic discharge envelop having an aluminum oxide member bonded by expansion reaction without a defect wherein high heat loss occurs by radiation from a hat surface caused by high heat mass of a PCA hat, and serious heat stress which may cause a high incidence rate of a crack is induced.例文帳に追加

ＰＣＡハットの高い熱質量によりハット表面からの放射により高い熱損失が生じ、亀裂の高い発生率をまねきうる深刻な熱応力を誘発するという欠点を有しない、膨張反応により結合された酸化アルミニウム部材を有するセラミック放電容器。 - 特許庁

To provide a continuous casting method for molten steel by which in the case of casting a slab, etc., by applying electromagnetic stirring to molten steel in a mold, defect such as scab and blister, caused by gas bubble and inclusion caught into the surface layer part of the cast slab, is prevented and the cast slab excellent in the quality characteristic is obtained in a good yield.例文帳に追加

鋳型内の溶鋼を電磁攪拌してスラブ等を鋳造する際に、鋳片の表層部に捕捉される気泡や介在物に起因するヘゲ疵やフクレ疵等の欠陥を防止し、歩留りを良くして品質特性に優れた溶鋼の連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁

In this surface defect inspection device, the light emitting elements 30 are arranged consecutively to remain a prescribed shape of dark face in an inside, in the lay-out pattern, and arranged to receive the irradiation light of each of the light emitting elements 30 reflected from the inspected face on at least one dark face 31 by the imaging camera 4.例文帳に追加

レイアウトパターンが発光素子３０を内側に所定形状の暗面を残すように連続的に配置させたものであり、少なくとも１つの暗面３１に撮像カメラ４が被検査面から反射される各発光素子３０の照射光を受光するように配置する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor realizing high image quality recording whose resolution is ≥1,200 dpi and eliminating an image defect such as an interference fringe pattern (moire) by setting the surface roughness of a conductive supporting body to a specified range, and an image forming method using the same.例文帳に追加

この発明は、導電性支持体の表面粗さを特定の範囲に設定することにより、解像度１２００ｄｐｉ以上の高画質記録で、干渉縞模様（モアレ）等の画像不良を解消した電子写真感光体及びそれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of heat-treating a silicon wafer, the method eliminating a crystal defect of a COP etc., at a surface part of the wafer to become a device active region, generating a BMD at a bulk part with high density, and further suppressing a slip generated during an RTP.例文帳に追加

デバイス活性領域となるウェーハの表面部においてＣＯＰ等の結晶欠陥を消滅させることができ、バルク部においてはＢＭＤを高密度で形成させることができ、さらに、ＲＴＰにおいて発生するスリップを抑制することができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the defect, such as scab-like flaw, blister flaw, caused by gas bubble and inclusion catched on the surface layer of a cast slab, to reduce cleaning work and to improve the yield of a good product, in the case of casting molten steel in a mold into the slab, etc., by electromagnetic-stirring.例文帳に追加

鋳型内の溶鋼を電磁攪拌してスラブ等を鋳造する際に、鋳片の表層部に捕捉された気泡や介在物に起因するヘゲ疵やフクレ疵等の欠陥を防止し、手入れを減らし良製品の歩留りを向上できる溶鋼の連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a stripe defect in the spreading direction which is generated on a film flow-cast on a metal supporting body from occurring when a plastic polymer film is manufactured by a solution casting method, and at the same time, manufacture the film which is excellent in surface smoothness and thickness uniformity at a favorable productivity.例文帳に追加

プラスチックポリマーのフィルムを溶液キャスト法で製造する際、金属支持体上に流延されたフィルムに発生する流延方向のスジ欠陥を防止するとともに、表面平滑性及び厚み均一性も優れたフィルムを生産性よく製造できるようにする。 - 特許庁

To provide a stand for building up a concrete leveling form and a construction method therefor capable of adjusting unevenness of a leveling concrete surface, capable of eliminating a cross-sectional defect of a corrugated steel plate panel and nonuniformity of a slab thickness, capable of reducing a cost capable of improving a construction quality and capable of shortening a construction period.例文帳に追加

捨てコンクリート面の不陸調整ができ、コルゲート鉄板パネルの断面欠損やスラブ厚の不均一が解消でき、コストの低減、施工品質の向上、施工期間の短縮を達成することができるコンクリート捨て型枠建込み用架台及びその施工方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for evaluating a wafer including a step of measuring an infinitesimal internal crystal defect in which a BMD from the front surface of a wafer to be measured to the depth of about 10 μm can be observed with high resolution of a depthwise direction of the wafer and with a difficulty to measure so far.例文帳に追加

被測定ウェーハの深さ方向の高い分解能を有し、かつ、今まで測定することが困難であった被測定ウェーハの表面から１０μｍ程度の深さまでのＢＭＤを観察可能とした微小内部結晶欠陥の測定によるウェーハの評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pressure bonding device for an ornament sheet applying a woodgraining treatment to the peripheral end of the ornament sheet while press bonding the the ornament sheet to the surface of a trim body in which defect such as floating and peeling of the end portion of the ornament sheet is eliminated, and end treatment is simply carried out at low cost.例文帳に追加

トリム本体の表面に装飾シートを圧着して装飾シートの周縁端末を木目込み処理する装飾シートの圧着装置において、装飾シートの端末部の浮き、剥がれ等の不良をなくすとともに、端末処理を簡単かつ廉価に実施する。 - 特許庁

To provide a recorder by which the fluctuation of resistance is not caused by environmental change and the transferring of printing on a back surface, the mark of electronic discharge on a transfer medium and an image transfer defect such as developer image scattering do not occur even in the case of the miniaturization of a device, and fogging on the end part of the transfer medium does not occur.例文帳に追加

環境変化や裏面印字転写等で抵抗の変動を生じたり、装置が小型化しても、転写媒体に対して放電跡、現像剤像チリ等の画像転写欠陥が生じず、且つ転写媒体端部のカブリ等が発生しない記録装置を提供せんとするものである。 - 特許庁

Toner particles forming an image on the intermediate transfer belt 70 receive vibrations from from the toner layer diffusion member 10 to be peeled off a surface of the intermediate transfer belt 70 and dispersed in carrier liquid, so that the secondary transfer defect at the secondary transfer unit 80 can be prevented.例文帳に追加

中間転写ベルト７０上で画像を形成するトナー粒子は、このトナー層拡散部材１０からの振動を受け中間転写ベルト７０表面から剥がされ、キャリア液中に分散するような状態となり、二次転写ユニット８０での二次転写不良の発生を防止することができる。 - 特許庁

To provide a defect inspection device having an improved detection ability by inspecting a film or a pattern comprising an inorganic substance/inorganic compound by using a light in a wavelength range suitable for wavelength dependency carried by a refractive index, an extinction coefficient and a surface reflectivity of the substance.例文帳に追加

無機物／無機化合物から成る膜またはパターンを、その物質の屈折率，消光係数、および表面反射率が持つ波長依存性に関して好適な波長範囲の光を用いて検査することにより、向上した検出能力をもつ欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

By detecting first intensity of yellow luminescence 49 which is based on a defect, generated in the nitride semiconductor layer 17 by the first excitation light 47, and emitted from the back surface of the sapphire substrate 15, the nitride semiconductor layer 17 is evaluated from the first intensity.例文帳に追加

そして、第１励起光４７によって窒化物半導体層１７に発生し、かつサファイア基板１５の裏面から出射される、欠陥に基づくイエロールミネッセンス４９の第１強度を検出することによって、第１強度から窒化物半導体層１７の評価を行う。 - 特許庁

The objective quartz glass crucible for pulling a silicon single crystal is free from ultraviolet absorption at specific wavelength within the wavelength range of 150-400 nm or free from ultraviolet absorption at wavelength of 163 nm or 245 nm caused by the oxygen-deficient defect in a region from the inner surface to the depth of 200 μm.例文帳に追加

(1)内表面からの深さが200μmまでの部位の石英ガラスに、波長150〜400nmの範囲で特定波長の紫外線吸収がないか、または酸素欠損型欠陥による波長163nm、または波長245nmの紫外線の吸収がないシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼ。 - 特許庁

To provide a defect inspection method that can appropriately control a charge amount of a surface of a sample even when the irradiation current value for enlarging the throughput or the like is increased, obtains clear image data with small distortion, and can perform an inspection with high reliability.例文帳に追加

スループットを大きくする等のため照射電流値を増加する場合にも試料表面の帯電量を適切に制御することができ、歪の小さい鮮明な画像データが取得され、信頼性の高い検査を行うことができる欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a gas shielded arc welding method, in which a sound welding bead is obtained without causing the defect of pores on the surface of a welding bead, even on condition that the welding speed is ≥80 cm/min in single electrode welding and the welding speed is ≥150 cm/min in two electrode welding.例文帳に追加

単電極溶接で溶接速度８０ｃｍ／分以上、２電極溶接で溶接速度１５０ｃｍ／分以上の条件においても、溶接ビード表面に気孔欠陥が発生せず、健全な溶接ビードを得ることができるガスシールドアーク溶接方法を提供する。 - 特許庁

In an electronic microscope 5 for observing the defects detected by an optical defect inspection apparatus or an optical visual inspection apparatus, an optical microscope 14 for redetecting defects is mounted thereupon and a distribution filter is inserted in its pupil surface, when the optical microscope 14 is used to observe dark field.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布フィルタを挿入する構成とする。 - 特許庁

To provide a silicone composition that performs crosslinking by condensation, wherein the silicone composition enables rapid crosslinking and simultaneously does not have problems, for example, yellowing, surface stickiness, a slow vulcanization rate, or stability when stored, or a defect, such as incompatibility with an ordinary adhesion aid based on aminosilane.例文帳に追加

迅速な架橋を可能にし、同時に例えば黄変、表面粘着性、緩徐な加硫速度、貯蔵の際の安定性の問題またはアミノシランを基礎とする通常の付着助剤との非相容性のような欠点を有しない、縮合により架橋するシリコーン組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a scanning optical device in which a defect such as a noise is not caused and effective cleaning is performed when the surface of a light transmissive member furnished on an open part through which a light beam passes is cleaned with an elastic cleaning member, and a high quality image can be obtained.例文帳に追加

光ビームが通過する開口部に設けられた光透過性部材表面を弾性清掃部材で清掃するに際し、騒音などの不具合を発生させることなく、効果的な清掃を実施することができ、高品質の画像を得ることが可能な走査光学装置を提供する。 - 特許庁

The stored position information on the defect is read out by a controller of each process through a network etc., to determine a direction of sticking of a dicing tape on the semiconductor wafer and to determine a direction of peeling of the protective tape stuck on a surface of the semiconductor wafer.例文帳に追加

当該記憶した欠陥の位置情報を各工程のコントローラがネットワークなどを介して読み出し、その位置情報を基づいて、半導体ウエハへのダイシングテープの貼付け方向を決定したり、または、半導体ウエハの表面に貼り付けられている保護テープの剥離方向を決定したりする。 - 特許庁

A suction instrument 1 is set on a surface part of the crack K of the concrete structure 1, and while a fluid in the crack K is forcibly sucked by a vacuum generation device 3, the change of the suction pressure is measured by a pressure gage, to thereby inspect a defect of the concrete structure 1.例文帳に追加

コンクリート構造物１のクラックＫの表面部分に吸引器具１をセットして、真空発生装置３によりクラックＫ内の流体を強制的に吸引しながらその吸引圧の変化を圧力計により測定して、上記コンクリート構造物１の欠陥を検知する。 - 特許庁

To provide an image forming device by which a high-quality image having no image defect is obtained over a long term by preventing the walk of the tubular semiconductive film of an electrifying member so as to realize the reduction of cost, contamination resistance and high image quality with respect to the electrifying member having the tubular semiconductive film on its surface.例文帳に追加

表面にチューブ状の半導電性フィルムを有する帯電部材において、低コスト・耐汚染・高画質を実現するために、半導電性フィルムのウォークの発生を防止して、長期にわたり、画像欠陥の無い高品位な画像が得られる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To raise a controllability of a line width of a pattern, while reducing a developing defect, in case of forming a protective film of a water repellent property on a substrate an which a resist film is formed, and performing a development processing to the substrate after forming a liquid layer on a front surface of the protective film and carrying out an oil immersion exposure.例文帳に追加

レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。 - 特許庁

In a process of bonding a substrate 8 with a plurality of electrodes and an IC 7 with a plurality of electrodes by heat and pressure, a thermometer which measures substrate lower surface temperatures at a plurality of arbitrary positions is provided, so that a bonding defect during bonding can be precisely detected.例文帳に追加

複数電極を有する基板８と複数電極を有するＩＣ７を加熱加圧接合する過程において、任意の複数位置の基板下面温度を測定する温度計を備えることにより、接合中の接合不良を精度良く検知することが可能である。 - 特許庁

To control absorption of water and a hydrocarbon on the surface of a blue phosphor and to improve deterioration of phosphor luminance and a chromaticity change or a discharge characteristic, by eliminating an oxygen defect near to Ca, Sr, Ba and Eu ions of the blue phosphor in a plasma display apparatus.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置において、青色蛍光体のＣａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｅｕイオン近傍の酸素の欠陥をなくすことで、青色蛍光体表面への水や炭化水素の吸着を抑え、蛍光体の輝度劣化や色度変化、または放電特性の改善を行うことを目的とする。 - 特許庁

To provide a layer structure having an extremely thin semiconductor layer, in addition, extremely low HF defect density in manufacturing a semiconductor substrate having a support wafer 2 and a layer 8 comprising a single-crystal semiconductor material provided on a surface of the support wafer 2.例文帳に追加

支持体ウェハ２とこの支持体ウェハ２の１つの面に設けられた単結晶半導体材料から成る層８を有する半導体基板の製造にあたり、きわめて薄い半導体層をもち同時にＨＦ欠陥密度も著しく僅かな層構造を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor substrate for suppressing the generation of any crystal defect in the case of creating a region having different crystal plane orientation on the substrate surface by using a semiconductor substrate where a semiconductor layer having the different crystal plane orientation is laminated.例文帳に追加

異なる結晶面方位を有する半導体層が積層された半導体基板を用いて、基板表面に異なる結晶面方位を有する領域を作成する場合に、結晶欠陥の発生を抑制することを可能にする半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide mold powder for continuous casting of steel, allowing the continuous casting both in a casting start initial period and at body casting in a stationary time, all the time, by the mold powder of same physical property, capable of improving a surface property of a casted piece, and capable of reducing a defect in the obtained casted piece.例文帳に追加

常に同じ物性のモールドパウダーで鋳造開始初期も定常時の本体鋳造時も連続鋳造することが可能で、鋳片の表面性状を改善でき、得られた鋼片疵を低減させることができる鋼の連続鋳造用のモールドパウダーを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a reflective mask capable of repairing a defect if a missing part is larger in a bottom part than in an upper part on the side surface of an absorber layer therefore realizing the reflecting mask with high reliability and improved yield.例文帳に追加

本発明は、吸収層の側面において下部が上部よりも欠落している場合に、その欠陥を補修し、信頼性の高い反射型マスクを得ることが可能であり、さらには歩留まりの向上を図ることが可能な反射型マスクの製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a heat treatment method of a silicon wafer capable of extinguishing a crystal defect such as a COP on the surface of a wafer as a device active region, capable of forming a BMD with a high density in a bulk, and capable of suppressing a slip generated in an RTP.例文帳に追加

デバイス活性領域となるウェーハの表面部においてＣＯＰ等の結晶欠陥を消滅させることができ、バルク部においてはＢＭＤを高密度で形成させることができ、さらに、ＲＴＰにおいて発生するスリップを抑制することができるシリコンウェーハの熱処理方法が提供される。 - 特許庁