「surface defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

If the surface of the substrate is coated with the alignment film by utilizing the transfer plate having the projecting parts of the double structures, the difference in the film thicknesses between the edges and the center is overcome, and the liquid crystal display device of the excellent quality suppressed of a gap defect and screen display unevenness can be provided.例文帳に追加

二重構造の凸部を有する転写板を利用して基板上に配向膜をコーティングすれば、エッジ及び中央の膜厚さ差を克服してギャップ不良及び画面表示むらを抑制させて優れた品質の液晶表示装置を提供することができる。 - 特許庁

To obtain a method for producing a grain-oriented electrical steel sheet having no forsterite coating with which in the case of using magnesia adding halide as a separating agent for annealing, the development of fine surface defect feared at finish-annealing time, is effectively prevented and thus, the increase of a core loss is not brought about.例文帳に追加

ハロゲン化物を添加したマグネシアを焼鈍分離剤として使用する場合に、仕上焼鈍の際に懸念される微細な表面欠陥の発生を効果的に防止して、鉄損の増大を招くことのない、フォルステライト被膜のない方向性電磁鋼板の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a laminated film free from in-plane molecular orientation, having no surface defect, excellent in optical anisotropy, heat resistance, scratch resistance and the adhesiveness with a polyvinyl alcohol (PVA) polarizer, manufactured at a low cost and suitable as a protective film for the polarizer.例文帳に追加

フィルム面内の分子配向がなく、表面無欠点で光学等方性に優れ、しかも耐熱性・耐殺傷性に優れ、さらにポリビニルアルコール（ＰＶＡ）偏光子との接着性に優れ、低コストで製造可能な積層フィルムであって、偏光子の保護フィルムとして好適な積層フィルムを提供する。 - 特許庁

A magnetic detector, having a coil for applying two orthogonal magnetic fields to the metal body and the magnetic impedance effect type sensor for detecting the normal component of the magnetic leakage flux at the defect part of the metal body scans the surface of the metal body, while applying magnetic field in two or more directions by the coil.例文帳に追加

金属体に直交の２磁界を加えるコイルと金属体の欠陥箇所での漏洩磁束の法線成分を検出する磁気インピーダンス効果型センサを有する磁気検出器で金属体の表面を前記コイルにより２以上の方向に磁界を加えつつスキャニングする。 - 特許庁

To provide a continuous coating apparatus in which a coating film having uniform thickness and excellently smooth surface is formed by suppressing the occurrence of coating defect such as longitudinal stripe or a foreign matter caused by the sticking of a coating liquid to a lip part or the contact of the lip part to a supporting body in the start-up of coating.例文帳に追加

塗布開始時におけるリップ部分への塗布液の付着又はリップ部分と支持体の接触を原因とする縦スジ、異物等の塗布欠陥の発生を抑え、厚みが均一で面の平滑性に優れた塗布膜を形成する連続塗布装置の提供にある。 - 特許庁

To manufacture an optical laminated body having a polarizing film which prevents an alignment defect from spreading over wide areas even if it occurs on the boundary where the base is in contact with the coated film, and has a film surface where the lyotropic liquid crystal compound is uniformly oriented.例文帳に追加

基材と塗膜が接触する界面で配向不良が発生した場合においても、その配向不良が膜の広い領域に渡って伝播することを防止し、リオトロピック液晶化合物が均一に配向された膜表面を有する偏光膜を備えた光学積層体を製造する。 - 特許庁

To provide a concrete material, a concrete structure and its manufacturing method which inhibit or prevent a crack caused by dry shrinkage which makes an initial defect, particularly, in a slab and a surface member constituting a structure such as a wall or the like whose crack by the dry shrinkage becomes apparent.例文帳に追加

特に乾燥収縮によるひび割れが顕著となるスラブや壁等の構造物を構成する面部材において、初期欠陥となる乾燥収縮に起因するひび割れを抑制または防止することができるコンクリート素材とコンクリート構造物及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce an influence due to a projecting part formed on the surface of a substrate caused by impurities contained in water and the atmosphere used in a cleaning and a drying stage and containing at least one of C, O, Al, Si, Fe, Cu, Zn and Zr to avoid a product defect.例文帳に追加

洗浄・乾燥工程で使用する水や雰囲気中に含まれる不純物が原因で基板表面上に形成されるＣ、Ｏ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒのうちの少なくとも一種を含む凸部による影響を低減し、製品不良を回避する。 - 特許庁

To provide a flux for continuously casting steel having suitable melting characteristic with which development of sintered block or slag bear developed in a mold when the steel is continuously cast, is prevented and the stable casting is secured and also, the development of surface defect on a cast slab is prevented.例文帳に追加

本発明は、鋼の連続鋳造の際に発生する鋳型内での焼結塊、またはスラグベアの発生を防止し、安定な鋳造を確保するとともに、鋳片の表面欠陥発生を防止するために、適切な溶融特性を有する鋼の連続鋳造用フラックスを提供する。 - 特許庁

To provide a developing device which can prevent the generation of a scratch or a line as a defect on an image on the surface of a developer thickness regulating member, which can apply toner uniformly on a developing sleeve and which can obtain a high quality image having uniform durability without unevenness.例文帳に追加

現像剤層厚規制部材の表面に画像上に欠陥として現れるような傷やスジの発生を防ぎ、現像スリーブ上に均一なトナー塗布を行うことのできる、耐久においても均一でムラのない、高品位の画像を得ることのできる現像装置を提供することにある。 - 特許庁

Besides as the ultraviolet rays of ≤180 nm wavelength hardly pass through a transparent electrically conductive oxide such as ITO, the rays can be used to remove a polyimide alignment layer, with a defect such as defective printing, on a color filter substrate on a dyestuff part surface of which an ITO transparent electrode pattern is formed.例文帳に追加

また、１８０ｎｍ以下の紫外線は、ＩＴＯなどの透明導電酸化物をほとんど透過しないので、色素部の表面にＩＴＯの透明電極パターンが形成されたカラーフィルター基板上の、印刷不良などの欠陥のあるポリイミド配向膜を除去するのに用いることができる。 - 特許庁

Hereby, even if the illuminance distribution in the illumination spot by the actual illumination optical system is not necessarily the Gaussian distribution, each accuracy of the particle size calculation of the foreign matter or the defect to be detected and the coordinate position on the inspection object surface can be improved.例文帳に追加

これにより、実際の照明光学系による照明スポット内の照度分布が必ずしもガウス分布とならない場合においても、検出される異物・欠陥の粒径算出および被検査物体表面上での座標位置の精度を向上させることが可能になる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus where color fogging is prevented by cleaning a wax component which leads to an image defect and is remaining on a recording medium by using a cleaning means to remove fog in the image forming apparatus which adopts a recording medium whose surface is made smooth by using toner containing wax.例文帳に追加

ワックス入りトナーを用い、表面が平滑である記録媒体を用いた画像形成装置において、画像欠陥につながる記録媒体上に残ったワックス成分をクリーニング手段を用いてクリーニングし、曇りを除去することで色にごりを防ぐことのできる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

By mounting two calibration samples 453 and 454 on a wafer mounting surface of a wafer chuck 23 to selectively use the two calibration samples 453 and 454 according to a large-size wafer 18a and a small size wafer 18b, the defect inspection of inspection objects having different sizes can be handled.例文帳に追加

ウエハチャック２３のウエハ載置面に校正試料４５３と校正試料４５４の２個、設け、大サイズウエハ１８ａと小サイズウエハ１８ｂに応じて、これら２個の校正試料４５３、４５４を使い分けることにより、サイズの異なる被検査物の欠陥検査に対応するようにしたもの。 - 特許庁

According to the invention, the surface defect is decreased to improve the non-defective yield in the subsequent working process.例文帳に追加

マグネシウム合金の［温間粗圧延］−［焼鈍し］−［温間圧延］の工程を含むマグネシウム合金薄板のコイルを製造する方法において、粗圧延を経た中間シートのコイルに対し、水性の研削媒体の存在下に研磨ベルトを用いた湿式の表面研削を行なったのち、温間圧延に移る。 - 特許庁

To provide a magnaflux method, in which the quality of a steel material can be stabilized by a method where the inspection capability of a defect on the surface of the steel material by a magnaflux inspection is enhanced, energy is saved, the productivity of line operation is enhanced and the generation of a defective in a fabricating operation is prevented.例文帳に追加

磁粉探傷による鋼材表面の欠陥の検査能力の向上と、さらに省エネルギー化を図り、かつ、ライン操業の生産性を向上させ、２次加工時の不良の発生を防止し、品質の安定化を図る磁粉探傷方法を提供することである。 - 特許庁

To prevent residual toner from being discharged onto a surface of an image carrier at unintended timing or to suppress a defect in cleaning residual toner on the image carrier surface as to a cleaning device which is employed for an electrophotography system such as a copying machine, facsimile equipment, and removes a residue such as residual toner and an image forming apparatus equipped with the cleaning device.例文帳に追加

複写機、ファクシミリなどの電子写真方式で採用される、残留トナー等の残留物を除去するクリーニング装置、およびそのクリーニング装置を備えた画像形成装置に関し、意図しないタイミングで残留トナーが像担持体表面に吐き出されたり、あるいは像担持体表面における残留トナーのクリーニング不良が引き起こされることを抑える。 - 特許庁

Since a chemically instable Schottky layer is covered with the cap layer and the boundary region between the Schottky layer/cap layer and the Schottky electrode susceptible to surface defect is covered with the upper structure of the Schottky electrode, occurrence of surface detect is retarded and a highly reliable semiconductor device can be fabricated at high yield.例文帳に追加

かかる構成によれば，化学的に不安定なショットキ層がキャップ層に覆われるとともに，表面欠陥が生じやすい，ショットキ層／キャップ層とショットキ電極との境界領域についても，ショットキ電極の上部構造により，覆われるので，表面欠陥が生じにくく，したがって高い信頼性を有する半導体装置を高い歩留まりで製造することが可能となる。 - 特許庁

Since a channel is formed in the n-type channel layer located beneath the p-type channel layer touching a gate oxide film 7 and a current can be fed thereto when a PN junction is formed in the surface channel layer 5, a channel can be formed regardless of the roughness or residual defect of the interface (MOS interface) between the gate oxide film 7 and the surface channel layer 5.例文帳に追加

このように、表面チャネル層５にＰＮ接合を形成することにより、ゲート酸化膜７と接するｐ型チャネル層の下部に位置するｎ型チャネル層にチャネルを形成して電流を流すことができるため、ゲート酸化膜７と表面チャネル層５との界面（ＭＯＳ界面）のラフネス又は残留欠陥とは関係なく、チャネルを形成することができる。 - 特許庁

Thereby, even if a clearance of X direction is secularly changed by creeping of the plastic final gear 23 and the magnetic circuit 31, the state of surface contact is continued through the abutting surface 38 of the yoke 33 and the magnet 34, and the defect due to variation in sensor performance of the rotation angle detection apparatus 6 can be evaded and high reliability can be obtained.例文帳に追加

これにより、経時変化により樹脂製の最終ギヤ２３と磁気回路部３１とがクリープしてＸ方向の隙間が変化したとしても、ヨーク３３と磁石３４とが当接面３８を介して面接触する状態が継続するため、回転角度検出装置６のセンサ特性が変化する不具合を回避でき、長期に亘って高い信頼性を得ることができる。 - 特許庁

The defect-free hydrogen separation membrane includes a metallic thin layer comprising a first metallic layer comprising palladium formed on a porous support without allowing palladium to substantially penetrate the surface pores of the porous support, and a second metallic layer formed by depositing palladium thereon while plugging the defects opening in the surface of the first metallic layer on the first metallic layer.例文帳に追加

多孔性支持体の表面細孔に実質的に侵入することなく前記多孔性支持体上に形成されたパラジウムからなる第１金属層と、前記第１金属層の上に該第１金属層表面に開口する欠陥を閉塞しつつパラジウムを堆積することで形成された第２金属層とを有する金属薄膜を備える無欠陥化水素分離膜。 - 特許庁

A substrate surface 2 is irradiated with an electron beam 1 and has intensity for generating dislocation inside the substrate, and a range that is longer than the depth from the substrate surface 2 at the interface of two parts having different temperatures, in which a crystal defect begins to be generated in the depthwise direction of the substrate; and cracks with dislocation as a starting point are generated and form a cleavage plane 5, and the substrate is divided.例文帳に追加

基板表面２に、その強さが基板の内部に転位を生じさせる強さであり、またその飛程が基板の深さ方向において結晶欠陥が生じ始める、温度が異なる２つの部分の界面の基板表面２からの深さよりも長い電子ビーム１を照射し、転位を起点としたクラックを発生させて劈開面５を形成し、基板を分割する。 - 特許庁

The defect and a metallic silicide on the surface of the semiconductor substrate are detected by immersing the polished semiconductor substrate in a mixed solution of the water of a hydrogen peroxide (3 to 6 mass%), a hydrofluoric acid (5 to 10 mass%), and a hydrochloric acid (3 to 6 mass%) to visually detect bubble generation on the surface of the semiconductor substrate, and to photograph the bubble generation status by a camera.例文帳に追加

ポリッシュ後等の半導体基板を過酸化水素（３〜６質量％）、フッ化水素酸（５〜１０質量％）と塩酸（３〜６質量％）の混合水溶液に浸漬して、前記半導体基板の表面における気泡発生を視覚的に検出し、かつ、その気泡発生状況をカメラを用いて撮影することによって半導体基板表面の欠陥や金属シリサイドを検出する。 - 特許庁

To prevent an overload to a driving system of a copy roller and obtain stable machining by absorbing displacement in a short cycle of the copy roller caused by a defect of the surface state of a workpiece while maintaining the follow-up pressure of the copy roller in a constant value in the copying machine for executing predetermined machining while tracing the surface of the workpiece by the copy roller.例文帳に追加

倣いローラによってワークの表面をトレースしながら所定の加工を実行する倣い加工機において、倣いローラの追従圧力を一定値に維持しながら、ワークの表面状態不良に起因する倣いローラの短周期の変位を吸収することによって、倣いローラの駆動系に対する過負荷を防止するとともに、安定な加工を実現する。 - 特許庁

This defect detection method includes a step for carrying out HF treatment for dipping the surface having an SOI layer into hydrofluoric acid for treatment, a step for depositing electrolytes at the site on the surface of the SOI layer closest or regarded as closest from a place having cavities or defects in an insulating layer due to the HF treatment, and a step for detecting the site where the electrolytes are decorated.例文帳に追加

ＳＯＩ層がある面をフッ化水素に浸漬処理するＨＦ処理をするステップと、ＨＦ処理されたことで生じた絶縁層の空洞または絶縁層の欠陥がある箇所から最短距離または最短距離とみなせるＳＯＩ層の面上の部位に電解物質を（析出）させるステップと、電解物質がデコレートされた部位を検出するステップと、を有する。 - 特許庁

To provide a catalytic chemical processing method and apparatus using magnetic fine particles capable of processing a difficult-to-process workpiece, especially SiC, GaN, etc. with high processing efficiency and with high precision based on a processing principle utilizing a catalytic action enabling the chemical reaction introducing no lattice defect into the surface of the workpiece, and capable of obtaining a crystallographically excellent processed surface.例文帳に追加

本発明は、被加工物表面に格子欠陥が導入されない化学的な反応が可能な触媒作用を利用した加工原理に基づき、難加工物、特にＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ高精度に加工することができ、結晶学的に優れた加工面が得られる磁性微粒子を用いた触媒化学加工方法及び装置を提案する。 - 特許庁

To enable a developing device equipped with a toner density detecting sensor, to smoothly supply toner into a development tank by preventing toner concentration from being misdetected owing to sticking of a developer on a sensor surface of the toner concentration detecting sensor, temporary absence of a developer in a periphery of the sensor surface, etc., and then form an image of high density and high picture quality free of an image defect such as fogging.例文帳に追加

トナー濃度検知センサを備える現像装置において、トナー濃度検知センサのセンサ面への現像剤の付着、センサ面周辺における一時的な現像剤の不存在などに起因するトナー濃度の誤検知を防止し、現像槽内へのトナー補給を円滑に実行でき、かぶりなどの画像不良がなく、高濃度かつ高画質の画像を形成する。 - 特許庁

To provide a piezoelectric oscillator, which prevent a defect in mounting due to the deformation of the lower end part of a lead terminal and an increase in the cost accompanying the provision of a resin case for preventing the deformation of the lead terminal, with respect to a piezoelectric oscillator equipped with a lead terminal for surface mounting projecting from a printed wiring board having at least its top surface surrounded with a metallic case.例文帳に追加

少なくとも上面を金属ケースにより包囲されたプリント配線基板から下方へ突出した表面実装用のリード端子を備えた圧電発振器において、リード端子の下端部の変形に起因した実装不良の発生や、リード端子の変形を防止する為の樹脂ケースを設けることによるコストアップを防止することができる圧電発振器を提供する。 - 特許庁

The ultrasonic flaw detection method includes also the ultrasonic flaw detector including a plurality of sets of rollers R for supporting the steel material W to detect the internal defect, the array probes 2 for the gap method arranged on a surface of the steel material W via a water film, and the the array probes 10 for the local submerging method arranged on the surface of the steel material W via a water chamber 14.例文帳に追加

また、内部の欠陥を検出すべき鋼材Ｗを回転可能に支持する複数組のローラＲと、上記鋼材Ｗの表面に水膜を介して配置される上記ギャップ法用のアレイ探触子２と、上記鋼材Ｗの表面に水室（１４）を介して配置される局部水浸法用のアレイ探触子１０と、を含む、超音波探傷装置１も含まれる。 - 特許庁

This hologram product defect detection device is equipped with an imaging part 18 for irradiating inspection light h from the whole direction on the surface side excluding the normal direction to the surface of the hologram product 60, and acquiring image data by imaging light k emitted from the hologram product and proceeding along the normal direction, and a recognition part 38 for recognizing the hologram region based on reference image data.例文帳に追加

本発明のホログラム製品欠陥検出装置によれば、ホログラム製品６０の表面に対する法線方向を除く表面側全方向から検査光ｈを照射し、このホログラム製品から発せられ法線方向に沿って進む光ｋを撮像して画像データを取得する撮像部１８と、基準画像データに基づいてホログラム領域を認識する認識部３８とを備える。 - 特許庁

To provide a technology related to a reversible thermal recording medium having a protective layer for well protecting the reversible thermal recording medium which obtains the favorable ground skin density of the surface of the reversible thermal recording medium, obtains favorable conveying properties with no sticking during thermal printing, and has no damage, a hit mark and a printing defect on the surface of the recording medium.例文帳に追加

良好な可逆性感熱記録媒体表面の地肌濃度を得ること、サーマル印刷時のスティッキング発生がない良好な搬送性を得ること、記録媒体表面の損傷、打痕や印字不良のないことなどの可逆性感熱記録媒体を良好に保護する保護層を有する可逆性感熱記録媒体に関する技術を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminated body capable of preventing the occurrence of an application defect in a second layer by regulating the relation between the surface tension of a first layer, the surface tension of an application liquid for forming a second layer laminated on the first layer and the thickness of the coating film formed by the application liquid for forming the second layer.例文帳に追加

第１の層の表面張力、および第１の層に積層される第２の層を形成するための塗布液の表面張力と、第２の層を形成するための塗布液によって形成される塗膜の厚みとの関係を規定することによって、第２の層に塗布欠陥が発生することを防止することができる積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a recess 5 or a protrusion on the upper surface of a semiconductor substrate 1, then performing a homoepitaxy on the upper surface of the substrate 1 to form a homoepitaxial film 4 and a defect layer 6, and measuring the thickness of the film 4 based on the measurement of the length dimension of the layer 6 in the off direction.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板１の上面に凹部５または凸部を形成した後、半導体基板１の上面にホモエピタキシーを実行してホモエピタキシャル膜４と欠陥層６とを形成し、そして、欠陥層６のオフ方向の長さ寸法を測定することに基づいてホモエピタキシャル膜４の膜厚を測定するように構成したものである。 - 特許庁

The metal ring inspection apparatus having a defect inspection section for inspecting the surface defects of a metal ring after performing both of or one of perimeter correction and perimeter measurement comprises a determination reference generation means (threshold value selection section 49) for generating generating criteria for inspecting defects at the defect inspection section, on the basis of perimeter correction information or perimeter measurement information or other pieces of information related to the information.例文帳に追加

周長補正と周長測定の両方又はいずれか一方を行った後の金属リングの表面欠陥を検査する欠陥検査部を有する金属リング検査装置において、前記欠陥検査部における欠陥検査のための判定基準を、周長補正情報又は周長測定情報若しくはそれらの情報に密接に関連する他の情報に基づいて発生する判定基準発生手段（しきい値選択部４９）を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

This defect classification equipment is provided with an illuminating unit 101 for illuminating a light transmitting coating surface with illuminating lights whose wavelength is restricted, a CCD camera 104 for imaging the interfering image of the coating surface through a lens 103, and a PC 110 for calculating the radiant direction component quantity of the peripheral luminance gradient to each pixel in the pickup image and for classifying the defects based on the radiant direction component quantity.例文帳に追加

波長を制限した照明光により光透過性のあるコーティング表面を照明する照明器１０１と、レンズ１０３を通してコーティング表面の干渉像を撮像するＣＣＤカメラ１０４と、撮像した画像内の各画素に対する周囲の輝度勾配の放射方向成分量を算出し、この放射方向成分量を基に欠陥を分類するＰＣ１１０とを具備する。 - 特許庁

To suppress an image defect such as non-uniformity or stripes caused by a developer by properly regulating the quantity and particle diameter of the developer to be passed through a sliding part between a developer quantity regulating blade and a developer carrier and easily acquiring the surface accuracy of a charge control surface in the developer quantity regulating blade for regulating the quantity of the developer carried away from a developer container by the developer carrier.例文帳に追加

現像剤容器から現像剤担持体によって搬出される現像剤の量を規制する現像剤量規制ブレードにおいて、現像剤量規制ブレード及び現像剤担持体の間の摺動部をスリ抜ける現像剤量および現像剤粒径を適正に規制し、また、電荷制御面の面精度を容易に得ることによって、現像剤によるムラ及びスジなどの画像不良を抑制する。 - 特許庁

A method of inspecting the defect of a filter includes the steps of : generating a gas flow containing a liquid particle group; eliminating the particles relatively large in diameter among the liquid particle group; supplying the gas flow containing the liquid particle group whose large particles are eliminated to one end surface of the filter; and detecting a concentration distribution of the liquid particles in the gas discharged from the other end surface of the filter.例文帳に追加

フィルタの欠陥の検査方法は、液体粒子群を含むガス流を発生させる工程と、液体粒子群中の相対的に粒径が大きな粒子を除去する工程と、大きな粒子が除去された液体粒子群を含むガス流をフィルタの一端面に供給する工程と、フィルタの他端面から排出されるガス中の液体粒子の濃度分布を検出する工程と、を備える。 - 特許庁

To make occurrence of charge defect owing to the surface contamination of a charging member with a simple structure by efficiently performing cleaning on the charging member without causing rubbing scratch on the charging member surface caused by a charging member cleaning member itself and depositions recovered by the charging member cleaning member, even in the case of using for a long period.例文帳に追加

長時間使用した場合にも、帯電部材クリーニング部材自体及び帯電部材クリーニング部材が回収した付着物による帯電部材表面の摺擦キズを引き起こすことなく効果的に帯電部材の清掃を行い、帯電部材の表面汚染による帯電不良の発生を簡易な構成にて防止できる電子写真画像形成装置、プロセスカートリッジ、帯電装置及び帯電部材クリーニング装置を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method includes a step of providing a substrate provided with a pixel region and a circuit region located in the peripheral part of the pixel region; a step of forming a first semiconductor layer and a second semiconductor layer, respectively on the pixel region and the circuit region; and a stage of increasing the lattice defect density of the first semiconductor layer surface, by selectively performing the surface treatment of the first semiconductor layer.例文帳に追加

画素領域及び前記画素領域の周辺部に位置する回路領域を備える基板を提供する段階と，前記画素領域及び前記回路領域上に第１の半導体層及び第２の半導体層を各々形成する段階と，前記第１の半導体層を選択的に表面処理して前記第１の半導体層表面の格子欠陷密度を増加させる段階と，を含む。 - 特許庁

To suppress an image defect such an non-uniformity or stripes caused by a developer by properly regulating the quantity and particle diameter of the developer passing through the sliding part between a developer quantity regulating blade and a developer carrier and easily acquiring the surface accuracy of a charge control surface in the developer quantity regulating blade for regulating the quantity of the developer carried out of a developer container by the developer carrier.例文帳に追加

現像剤容器から現像剤担持体によって搬出される現像剤の量を規制する現像剤量規制ブレードにおいて、現像剤量規制ブレード及び現像剤担持体の間の摺動部をスリ抜ける現像剤量および現像剤粒径を適正に規制し、また、電荷制御面の面精度を容易に得ることによって、現像剤によるムラ及びスジなどの画像不良を抑制する。 - 特許庁

As regards the projecting bump defects formed by a surface treatment such as plating on the surface of a cylindrical member, the method of manufacturing the cylindrical precision member includes: detecting the places of the bump defects by a defect detecting means; irradiating the roll face of the cylindrical member with a machining laser beam from a tangential direction by a machining laser beam irradiation means; and removing the bump defects.例文帳に追加

円筒状部材の表面にめっき等の表面処理により形成された突起状の瘤欠陥について、前記瘤欠陥の箇所を欠陥検出手段により検出し前記円筒状部材のロール面に対して接線方向から加工用レーザービーム照射手段により加工用レーザービームを照射し前記瘤欠陥を除去することを特徴とする円筒状精密部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that can stably remove discharge products sticking on the surface of a latent image carrier without increasing intricacy during use nor making the apparatus large-sized and perform stable image formation for a long period without damaging the latent image carrier nor causing an image defect.例文帳に追加

使用上の煩雑さが増したり、装置を大型化したりすることなく、潜像担持体表面に付着した放電生成物を安定して除去でき、潜像担持体の損傷や、画像欠陥が発生することなく、長期にわたって安定した画像形成を行うことができる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a defect inspecting apparatus and its method for sensitively and quickly inspecting defects, such as minute foreign particles, flaws, etc. of the order of 0.1μm on an inspection substrate, such as a wafer having a transparent thin film on a surface, a wafer having a circuit pattern, etc.例文帳に追加

表面に透明薄膜が形成されたウェハ等の被検査対象基板はもとより、回路パターンを有するウェハ等の被検査対象基板に対して、０．１μｍレベルの微小な異物やキズ等の欠陥を、高感度で、しかも高速に検査できるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method and equipment for evaluating the life time and process damage of a semiconductor substrate on the basis of the intensity of haze light by aiming at the haze light being scattering light emitted from an area in which strong scattering body does not exit when the crystal defect of a semiconductor substrate surface layer is evaluated by light scattering.例文帳に追加

半導体基板表層の結晶欠陥を光散乱で評価する際、強い散乱体が存在しない領域から発せられる散乱光であるヘイズ光に着目し、このヘイズ光の強度に基づいて半導体基板のライフタイムおよびプロセスダメージを評価する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing high purity polycrystal silicon able to prevent occurrence of defect at a boundary face between a silicon core and new deposited polycrystal silicon on its surface when a polycrystal silicon rod is produced by depositing of silicon on the silicon core, using a thermal decomposition reaction of hydrogenated silicon.例文帳に追加

シリコンの水素化合物の熱分解反応によりシリコン芯体上にシリコンを析出させる棒状多結晶シリコンの製造時に、シリコン芯体とその表面に新たに析出する多結晶シリコンとの界面近傍における欠陥の発生を防止できる高純度多結晶シリコンの製造方法を提供する。 - 特許庁