「surface defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image forming apparatus which is capable of excellently protecting the surface of a photoreceptor 3Y from stress due to discharge, while maintaining the excellent lubricity between the photoreceptor 3Y and a cleaning blade 20Y over a long period of time and suppressing the occurrence of a white streak image due to the exposure defect of the photoreceptor 3Y.例文帳に追加

感光体３Ｙとクリーニングブレード２０Ｙとの良好な潤滑性を長期間に渡って維持しつつ、感光体３Ｙの表面を放電によるストレスから良好に保護し、且つ、感光体３Ｙの露光不良による白スジ画像の発生を抑えることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To obtain three images which are to be compared in double detection through main scanning toward the same direction, and to perform main scanning in both the normal and reverse directions, in defect inspection for scanning a sample surface on which a repeated pattern where a plurality of basic patterns are repeated is formed, and comparing each image on corresponding parts of the plurality of respective basic patterns.例文帳に追加

複数の基本パターンが反復する反復パターンが形成された試料表面を走査し、複数の基本パターン相互の対応部分の画像同士を比較する欠陥検査において、ダブルデテクションで比較される３画像を同一方向に向かう主走査で取得しかつ正逆両方向において主走査を行う。 - 特許庁

To provide a composition for polishing of a substrate for a magnetic disc capable of maintaining polishing speed at the early stage of polishing work by restraining blinding of a polishing pad in the middle of the polishing work and capable of restraining growth of a surface defect on the substrate for the magnetic disc after the polishing work and a polishing method using it.例文帳に追加

研磨加工中に研磨パッドの目詰まりを抑制することによって、研磨加工初期の研磨速度を維持するとともに、研磨加工後の磁気ディスク用基板における表面欠陥の発生を抑制することができる磁気ディスク用基板の研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To reduce an adhesion of dusts to a surface of a material to be polished, to decrease scratch damages, to further allow it and flattening characteristics to be compatible and to remove a fine unevenness of a semiconductor wafer itself before forming an unevenness, that is, a defect represented by waviness, a nanotopology or the like by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、さらに平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、すなわち、ｗａｖｉｎｅｓｓや、ｎａｎｏｔｏｐｏｌｏｇｙなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

To eliminate the defect that the fingertip of a user or the like touches the tip part of a positioning projection in the case of positioning a lower plate by inserting the positioning projection to a positioning hole provided on the lower plate for the lid of an electric pot in which the lower plate is detachably attached to the lower surface of a lid body.例文帳に追加

蓋本体の下面に下板を取外し可能に取付けた電気ポットの蓋において、上記下板に設けた位置決め穴に位置決め突起を挿通して下板の位置決めを行うようにした場合に、位置決め突起の先端部に使用者等の指先が接触する不具合を解消することである。 - 特許庁

In the medical mixed injection port composed of polymer materials containing photocatalysts or covering an inner surface thereof with photocatalysts, it is preferable that the photocatalyst is a titanium-oxide base catalyst, especially, it is preferable that catalyst operation appears under visible light and that the photocatalyst is a titanium-dioxide base catalyst having a stable oxygen defect.例文帳に追加

光触媒を含むポリマー材料で構成された、または内表面が光触媒で被覆された医療用混注口であり、光触媒は酸化チタン系触媒であることが望ましく、特に、可視光線下に触媒作用を発現し、かつ安定した酸素欠陥を有する二酸化チタン系触媒が望ましい。 - 特許庁

By using the composition for chemimechanical polishing containing at least one kind of a compound (acyl compound) having at least two each of acyl groups and hydrophilic groups inside a molecule, the dispersion of a conventional chemimechanical polishing composition is improved, the chelate capability is provided as well, and thus the defect of the polishing surface is prevented.例文帳に追加

分子内にアシル基と親水基とを２個以上づつ有する化合物（アシル化合物）の１種以上を含有する化学機械研磨用組成物を用いることで、従来の化学機械研磨組成物の分散性を向上させ、キレート能力も持たせることで、より研磨面の欠陥を抑制できる。 - 特許庁

To provide an image pickup device for detecting the surface condition of a circuit pattern-formed wafer with high resolution and a defect detection apparatus using the same, without being affected by steep pattern steps, reflectance distributions and optically transparent substance which are formed after resist patterns are formed and removed.例文帳に追加

本発明の目的は、レジストパターン形成後やレジスト除去後の回路パターン付ウェハに存在する急峻なパターン段差、反射率分布、光学的透明体に影響を受けることなく、表面状態を高解像度で検出する撮像装置並びにこれを用いた欠陥検査装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a surface treating agent composition for a tire, which is free from such the defect that a dried film thereof becomes black and bar codes can not be read, does not cause appearance deterioration and adhesion inhibition after vulcanization, consequently has no harmful effect on the physical properties of a rubber product, and forms a transparent film with conventional good air release properties.例文帳に追加

乾燥皮膜が黒色となってバーコード読み取りができないといった欠点がなく、加硫後の外観不良及び接着阻害を起こさないなど、ゴム製品の物性に有害作用を及ぼさず、従来通りのエア抜き性が良好な透明な皮膜を形成するタイヤ用表面処理剤組成物を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor device, a barrier film and a seed film are specified, and further a proportion (frequency) of a corresponding (CSL) grain boundary in which a grain boundary Σ value is 27 or below in the whole crystal grain boundary of the Cu wiring is set at ≥60%, thereby a surface defect can be reduced to ≤1/10 of a practicable present level.例文帳に追加

半導体装置において、バリア膜及びシード膜を特定すると共に、Ｃｕ配線の全ての結晶粒界に占める、粒界Σ値２７以下の対応（ＣＳＬ）粒界の割合（頻度）を６０％以上とすることにより、表面欠陥を実用可能な現状レベルの１／１０以下まで低減できる。 - 特許庁

In order to prevent the deviating wrinkles or surface waviness of an overlay cloth 1 placed and used on a carpet floor material 4 without problem of defect, two different types of non-woven sheets 2, 3 designated by the method are combined in an order designated by the method and are subjected to laying construction between the overlay cloth 1 and the carpet floor material 4.例文帳に追加

カーペット床材４上に載せて使用する上敷物１のずれ動き皺やたるみの発生を欠陥問題なく防止するため、工法の指定する種類の異なる二種類の不織布シート２，３を、工法の指定する順序で組み合わせて、上敷物１とカーペット床材４の間に敷き置き施工する。 - 特許庁

An antibacterial medical material is composed of a polymer material including a photocatalyst or one, the internal surface of which is covered with a photocatalyst, and the photocatalyst is preferably a titanium oxide catalyst, especially a titanium dioxide catalyst showing a catalytic action under visible light and a stable oxygen defect.例文帳に追加

光触媒を含むポリマー材料で構成された、または内表面が光触媒で被覆された抗菌性医療用材料であり、光触媒は酸化チタン系触媒であることが望ましく、特に、可視光線下に触媒作用を発現し、かつ安定した酸素欠陥を有する二酸化チタン系触媒が望ましい。 - 特許庁

The surface of the current collector base material 1 exposed from a defect 3 existing on the corrosion resistant coating film 2 is characterized by being covered with a passive state coating film 4 composed of one kind or two or more kinds among a fluorine compound, an oxygen compound, a nitrogen compound, a carbon compound, a phosphorus compound and a boron compound of the current collector base material 1.例文帳に追加

耐食性皮膜２に存在する欠陥３から露出する集電体基材１の表面は、該集電体基材１のフッ素化合物、酸素化合物、窒素化合物、炭素化合物、リン化合物、ホウ素化合物のうちの一種又は二種以上からなる不動態皮膜４で覆われていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a matrix for a microlens array, which enables the manufacture of the matrix for the microlens array, composed of a unit cell with curvature controlled with an extremely high degree of accuracy, on a conventionally unrealizable large-area substrate by solving the problem of roughening of a substrate surface, as a defect in laser ablation.例文帳に追加

レーザーアブレーションにおける欠点である基板表面の粗面化を解決し、従来は不可能であった大面積基板上に極めて高精度に制御された曲率を持った単位胞から成るマイクロレンズアレイ用母型の作製を可能とするマイクロレンズアレイ用母型の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To manufacture a high-quality thermoplastic resin film with good productivity without surface defect by providing a rotating roll cleaning method for cleaning at least one rotating roll in a rolling device including a plurality of rotating rolls and adapted to draw a sheet-like material formed of thermoplastic resin by peripheral speed difference of the rolls.例文帳に追加

複数の回転ロールを備え、ロールの周速差により熱可塑性樹脂からなるシート状物を延伸する延伸装置の、少なくとも１本の回転ロールを掃除する回転ロール掃除方法を提供し表面欠点のない、高品質な熱可塑性樹脂フィルムを生産性良く製造すること。 - 特許庁

To provide a blooming method by which the disappearance of an oscillation mark which is a defect on the surface of a cast slab before advance to hot rolling in order to prevent corner cracks at the blooming of a cast slab having a round cross section which is cast by a vertical continuous casting method, in particular, the cast slab of a hard-to-work material.例文帳に追加

垂直連続鋳造法で鋳造した丸断面の鋳片、とりわけ難加工材の鋳片の分塊圧延にあたって、コーナー割れを予防するため、熱間圧延に進むに先だって、鋳片表面の欠陥であるオシレーションマークを消失させることを短時間で実現する、分塊圧延の方法を提供する。 - 特許庁

An inspection object is irradiated with inspection light, and reflected light polarized and separated by the inspection object is received, and light components of the received reflected light are subjected to photoelectric conversion, to thereby generate interference data showing the value of each polarized component, and a defect on the surface of the inspection object is detected according to the interference data.例文帳に追加

検査光を検査対象物に照射し、検査対象物において偏光分離された反射光を受光し、受光した反射光の光成分を光電変換して各偏光成分の値を示す干渉データを生成し、干渉データに基づいて、検査対象物の表面の欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic device satisfactory against an image defect due to a cleaning failure and toner fusion and a "highly moist image flow" under a highly moist environment by controlling the microscopic and macroscopic surface profiles of an electrophotographic photoreceptor and appropriately controlling the grain size of a polishing agent included in a toner for development.例文帳に追加

電子写真感光体の微視的及び巨視的な表面形状を制御し、且つ現像用トナーに含まれる研磨剤の粒径を適切に制御することにより、クリーニング不良やトナー融着による画像欠陥及び高湿環境下における「高湿流れ」に対して良好な電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for producing a single crystal capable of improving cooling capacity of a cooling cylinder without generating solidification or dislocation on the melt surface, heightening pulling speed at a production time of a defect-free single crystal, thereby improving productively and the yield of the single crystal, and suppressing power consumption.例文帳に追加

融液表面における固化や有転位化を生じさせることなく冷却筒の冷却能力を向上させ、無欠陥の単結晶製造時における引上げ速度を高速度とし、それによって単結晶の生産性及び歩留まりを向上させ、かつ消費電力を抑制することができる単結晶の製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a single crystal silicon wafer, which has necessary volume of BMD(Bulk Micro-Defect) in a gettering region, for removing metal impurities in a device formation surface layer of the silicon single crystal wafer by gettering, without causing inconvenience such as strength reduction of the single crystal silicon wafer that has been observed in the prior art IG gettering treatment.例文帳に追加

従来のＩＧゲッタリング実施の際にみられたシリコン単結晶ウエハの強度低下等の不都合を招来することなく、シリコン単結晶ウエハのデバイス形成表層に存在する金属不純物を有効にゲッタリング除去するのに必要な体積量のＢＭＤがゲッタリング領域中に生成されたシリコン単結晶ウエハを提供する。 - 特許庁

To provide a method for the production of a filled glass fiber nonwoven cloth for backing use, coated with a polyvinyl chloride resin and used as a flooring material decreasing the defect of kinked old rug of compounded NBKP (softwood pulp) and giving a backing material having a surface coated with a vinyl chloride resin and having excellent flatness.例文帳に追加

本発明は、ポリ塩化ビニルが塗布加工され床材として使用される裏打ち用抄合わせガラス繊維不織布の製造方法に関し、配合物であるＮＢＫＰのよれたボロ異物等の欠点を減少し、平坦性の良好な塩化ビニル塗布加工面が得られる裏打ち材の抄合わせガラス繊維不織布を提供する事を目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that can give a resist coating showing a high dynamic contact angle during exposure in an immersion exposure process, thereby showing excellent draining capability on the surface of the resist coating as well as high solubility with an alkali developing solution and with a rinsing liquid, and suppressing occurrence of a development defect.例文帳に追加

液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことにより、レジスト被膜表面が優れた水切れ性を示す一方で、アルカリ現像液及びリンス液に対する高い溶解性を示し、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To produce a polished substrate for a magnetic memory disk having small maximum projection roughness Rp, small waving Wa and enhanced flatness FT of the surface, freed of contaminants such as an abrasive slurry remaining after mechanical polishing and blotches of a detergent and capable of giving a defect-free high density magnetic memory disk.例文帳に追加

基板表面の最大突起粗さＲｐ、うねりＷａが小さく、向上した平坦度ＦＴをそなえ、機械的ポリッシュ加工により表面に残留した研磨スラリー、洗剤シミなどの汚れが除去されて、欠陥のない高密度化の磁気メモリーディスクを得ることを可能とする磁気メモリーディスク用ポリッシュ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve the defect that the smoothness in the cut face of low carbon, sulfur free-cutting steel, in particular, the free-cutting steel obtained by an addition of a large quantity of sulfur of ≥0.4%, the machinability of which equals to that of a lead free-cutting steel and to provide a low carbon, sulfur free-cutting steel having small surface roughness.例文帳に追加

低炭素イオウ快削鋼、とくに０．４％以上の多量のイオウを添加して鉛快削鋼に匹敵する被削性を実現した快削鋼において、この快削鋼が切削面の平滑性において鉛快削鋼に劣るという欠点を改善し、表面粗さが良好なレベルにある低炭素イオウ快削鋼を提供すること。 - 特許庁

The processing device 3 provides a first inspection domain in the direct irradiation area on the picked-up image picked up by the imaging device 2, and sets a second inspection domain in the diffused light irradiation area, and detects a defect related to irregularities on the inspection surface B by using brightness information of at least either of the first inspection domain and the second inspection domain.例文帳に追加

処理装置３は、撮像装置２で撮像された撮像画像において直接照射エリアに第１の検査領域を設けるとともに拡散光照射エリアに第２の検査領域を設定し、第１の検査領域および第２の検査領域の少なくとも一方の輝度情報を用いて、被検査面Ｂの凹凸に関する欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide equipment for manufacturing hot dip metal coated steel strip and a method of manufacturing hot dip metal coated steel strip capable of reducing the occurrence of splash and top dross defect even at the usual plate passage speed and even at the high speed plate passage speed and capable of stably manufacturing a hot dip metal coated steel strip excellent in surface appearance.例文帳に追加

通常通板速度においても、また高速通板時においても、スプラッシュおよびトップドロス欠陥の発生を低減し、表面外観に優れる溶融金属めっき鋼帯を安定して製造できる溶融金属めっき鋼帯製造設備及び溶融金属めっき鋼帯の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a trench embedding composition excellent in embedding property to a trench (groove) having an opening width of a nanometer level on a substrate surface and a large aspect ratio capable of suppressing the generation of a defect such as a void, and suitable for manufacturing an isolation structure having excellent electrical insulation properties, and to provide a method for manufacturing a trench isolation structure using the composition.例文帳に追加

基板表面上のナノメートルレベルの開口幅を有し、アスペクト比が大きいトレンチ（溝）への埋め込み性に優れ、ボイドなどの欠陥の発生が抑制され、電気的絶縁性に優れたアイソレーション構造を製造するのに好適なトレンチ埋め込み用組成物、および該組成物を用いたトレンチ・アイソレーション構造の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a substrate having a multilayer reflection film suppressed the generation of particles caused by the peeling of the conductive film and abnormal discharge at the electrostatic chucking of substrate provided with the conductive film, a high quality reflection type mask blanks for exposure having less surface defects caused by particles, and a high quality reflective type mask for exposure having no defect pattern caused by particles.例文帳に追加

導電膜を設けた基板の静電チャック時の導電膜の膜剥れや異常放電によるパーティクルの発生を抑制した多層反射膜付き基板、パーティクルによる表面欠陥の少ない高品質の露光用反射型マスクブランクス、及びパーティクルによるパターン欠陥のない高品質の露光用反射型マスクを提供する。 - 特許庁

A method for inspecting a ceramic sheet (excluding a ceramic sheet for use as a solid electrolyte film in a solid oxide fuel cell) includes: detecting warpage in the ceramic sheet with a trigonometrical survey displacement sensor; and detecting a defect present on the surface of and in the inner part of the ceramic sheet with a transmissive photoelectronic sensor.例文帳に追加

本発明に係るセラミックシート（但し、固体酸化物形燃料電池の固体電解質膜用セラミックシートを除く）の検査方法は、当該セラミックシートの反りを三角測距式変位センサーで検出する工程；および、次に、セラミックシートの表面および内部に存在する欠陥を透過型光電センサーで検出する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an active energy ray-curable composition which is most suitable for forming an active energy ray curing adhesive layer composing a back surface protective sheet for a solar cell, having excellent adhesivity and wet heat resistance, having an excellent yield in the production thereof, having an excellent productivity because of the unnecessity of aging and being free from the appearance defect and delamination by the generation of air bubbles in an adhesive layer.例文帳に追加

太陽電池用裏面保護シートを構成する活性エネルギー線硬化接着層の形成に最適で、接着力、耐湿熱性に優れ、さらに歩留まりがよく、エージングを不要にすることで生産性に優れ、接着剤層中の気泡発生による外観不良やデラミネーションが生じない活性エネルギー線硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

The liquid crystal display device includes: a liquid crystal panel 2; a backlight 6 irradiating the liquid crystal display panel 2 with light from the rear surface side thereof and constituted of an LED panel; a control part controlling luminance of each of LEDs 63 of the LED panel in a predetermined set value; and an input I/F part in which position information of a pixel 21a in which the bright spot defect is generated is input.例文帳に追加

液晶表示装置は、液晶パネル２と、液晶パネル２にその背面側から光を照射するＬＥＤパネルで構成されたバックライト６と、ＬＥＤパネルの各ＬＥＤ６３の輝度を予め定められた設定値とする制御部と、輝点不良が生じた画素２１ａの位置情報が入力される入力Ｉ／Ｆ部とを備える。 - 特許庁

The polymer film to be used as the liquid crystal orientation support base plate capable of outstandingly reducing a defect of orientation of the liquid crystal film can be manufactured by feeding out the polymer film and a polishing film at an unequal speed and polishing a film surface of the polymer film by contacting it such that both films have a relative speed on a guide roll.例文帳に追加

高分子フィルムおよび研磨フィルムを非等速で送り出し、ガイドロール上で両フィルムが相対速度を持つように接触させることによって高分子フィルムのフィルム表面を研磨することにより、液晶フィルムの配向欠陥を極めて低減することができる液晶配向支持基板となる高分子フィルムを製造することができる。 - 特許庁

To provide a vacuumizing mold structure rich in durability, removing such a defect that a conventional vacuumizing mold structure has no durability and it is difficult to bring a cavity to a high vacuum degree for a short time and performing molding in such a state that the cavity is brought to a high vacuum degree to obtain a molded product having a highly accurate dimension and excellent in surface transfer properties.例文帳に追加

従来の真空引き用金型構造にあった耐久性の無い短時間でキャビティを高真空度にすることが困難であったという欠点を取除き、キャビティを高真空度にして成形し、高精度寸法で表面転写性の優れた成形品を得る耐久性に富んだ真空引き用金型構造を提供すること。 - 特許庁

To remove defect causing objects of edge sections while maintaining friction force and sliding durability of a magnetic recording medium without removing the top coating of the surface of a magnetic recording medium 12 which is made by successively forming a ferromagnetic and metallic thin film layer, a protective film layer, and a top coating layer on a non-magnetic supporting body.例文帳に追加

非磁性支持体上に強磁性金属薄膜層、保護膜層およびトップコート層を順次形成して成る磁気記録媒体１２において、磁気記録媒体の表面のトップコートを除去することなく、磁気記録媒体としての摩擦力、摺動耐久性を維持しながらエッジ部の欠陥原因物を除去することができるようにする。 - 特許庁

When a defect such as peeling occurs on a covered sheet 4 by the circulating movement of the handrail 3 by the operation of the passenger conveyor, reflected energy wave is not detected though projected energy wave from the projection part 13 of a detector 12 is reflected on a projection surface 10 to automatically detect the occurrence of the abnormality of the covered sheet 4.例文帳に追加

乗客コンベヤーの運転による移動手摺３の循環移動により被覆シート４に剥がれ等の不具合が発生している状態では、検出器１２の投射部１３からの投射エネルギー波が反射面１０で反射するものの反射エネルギー波が検出されず、これにより被覆シート４の異常発生を自動的に検出する。 - 特許庁

In electron irradiation observation from a normal direction on the surface of a wafer WF using a first column 8 of a scanning electron microscope; when it is determined that a defect is caused by releasing, an edge of the wafer WF is moved to an imaging position of the second column 16 of the scanning electron microscope by an XYθ stage 24, and the edge of the wafer WF is observed obliquely.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡の第一カラム８によるウェハWF表面の法線方向からの電子照射観察において、欠陥がはがれに起因すると判定される場合に、ＸＹθステージ２４によってウェハWFのエッジを走査型電子顕微鏡の第二カラム１６の撮像位置に移動し、斜方からウェハWFのエッジを観察する。 - 特許庁

To provide a method for measuring defects in a polymer film which can correctly reflect the planarity required for the quality, if the polymer film is used as a product, can permanently and frequently maintain the accuracy, prevents the planarity from being altered, even if an area of a to-be-inspected surface is large, and conveniently and efficiently measures the defect.例文帳に追加

ポリマーフィルムを製品として使用する場合の品質として求められる平面性を正しく反映することができ、恒常的に高頻度で精度を保つことができ、大面積の検査面であっても、その平面性を変質させずに簡便に効率良く測定することができるポリマーフィルムの欠陥の測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a testing device for determination of a display defect including display irregularity and the like to be appeared on a display surface of a plane display device and a manufacturing method of the plane display device using this which are capable of making determination of display irregularity and the like precisely and reliably without being affected by skill level and some difference of operation conditions.例文帳に追加

平面表示装置の表示面に表れる表示ムラその他の表示欠陥を判定するのに用いる検査具、及びこれを用いる平面表示装置の製造方法において、表示ムラ等の判定を、熟練度や多少の作業条件の違いに左右されることなく、高い精度及び信頼度にて行うことができるものを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a silicon substrate with a lifetime of 500 μsec or more that includes neither oxygen precipitates nor defects (RIE defect) detected by an RIE method such as COP or OSF at a depth of at least 1 μm from a surface serving as a device manufacture region, and to provide the silicon substrate manufactured by such method.例文帳に追加

デバイス作製領域となる表面から少なくとも１μｍの深さに、酸素析出物、ＣＯＰ、ＯＳＦ等のＲＩＥ法により検出される欠陥（ＲＩＥ欠陥）が存在せず、かつ、ライフタイムが５００μｓｅｃ以上のシリコン基板の製造方法及び当該方法により製造されたシリコン基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a medical surface-nanoscale processed titanium promoting the proliferation and the differentiation of osteoblastic cells, which performs osteoanagenesis by being packed into a joining part between an artificial bone and a bone, reinforcing material for a fractured bone part, various types and shapes of dental implant materials, a mesh-type reinforcing material and a screw and further into an osseous defect site of a jawbone.例文帳に追加

人工関節と骨との接合部や骨折部への補強材、各種形状の歯科インプラント材、メッシュ型補強材およびネジ、更には顎骨などの骨欠損部に填入することにより、骨再生を図ることができるようにした骨芽細胞系細胞の増殖と分化を促進する医療用ナノ表面加工チタンを提供する。 - 特許庁

To provide a vehicle floor material that is excellent in wear resistance and shock resistance, exerts durability over a long time and is much lighter than a steel plate, wherein the characteristics can be exerted and repaired in a state that the vehicle floor is placed on the vehicle even when a woody material with defect such as lesions on its surface is used.例文帳に追加

耐摩耗性や耐衝撃性に優れ、長期間に亘って耐久性を発揮し、しかも鋼板に比べて圧倒的に軽い車両用床材であって、表面に傷等の欠陥のある木質材料を用いた場合でも上記特性を発揮させることが可能で、車両に載せた状態で補修することも可能な車両用床材を提供すること。 - 特許庁

To provide parison for a balloon that helps stably manufacture a balloon catheter without causing failure to expand, explosion at the moment of expansion, and does not cause an appearance defect such as a split, a crack, a pinhole, a dent or the like on the surface of a balloon even if the balloon is formed, when carrying out biaxial drawing blow molding in the manufacture of a polyamide elastomer balloon.例文帳に追加

本発明は、ポリアミドエラストマー製のバルーン作製において、二軸延伸ブロー成形をする際に、膨らまなかったり、膨らんだ途端に破裂するようなことがなく、また成形できてもバルーン表面に割れ、ひび、ピンホール、くぼみ等の外観不良を生じない、安定してバルーンカテーテルを作製できるバルーン用パリソンを提供する。 - 特許庁

Resin layers are formed by packing a resin to the circumferences of the elements arranged on the front surface of a release material layer and the elements and the peeling surfaces of the resin layers are formed flush with each other by peeling the resin layers from the release material layer, by which electrode pads and wiring are easily formed while the defect of connection is suppressed.例文帳に追加

本発明は、離型材層の表面に配置された素子の周囲に樹脂を充填して樹脂層を形成し、前記樹脂層を前記離型材層より剥離することにより前記素子と前記樹脂層の剥離面を同一平面に形成することにより、接続不良を極力抑えながら電極パッド及び配線を容易に形成することができる。 - 特許庁

By attaching an ultrasonic receiver which receives SH wave and an ultrasonic transmitter which sends SH wave through a coupling medium on an exposed surface of a concrete structure 11 of which the part is laid underground, and by analyzing the pattern of the SH wave the receiver receives, the position or size of a defect of the concrete structure 11 can be detected.例文帳に追加

地盤にその一部が埋設されたコンクリート構造物１１の露出面にＳＨ波を受信する超音波受信子とＳＨ波を発信する超音波発信子とを接触媒質を介して密着させ、前記受信子で受信されるＳＨ波のパターンを解析してコンクリート構造物１１の欠陥の位置やサイズを検出する。 - 特許庁

In the semiconductor multilayer film comprising an Si single crystal substrate, and an Si_1-XGe_X (0<X≤1) film formed thereon, the Si_1-XGe_X film is preferably formed by magnetron sputtering method such that the surface defect density on the Si_1-XGe_X film becomes 10^4/cm^2 or less.例文帳に追加

Ｓｉ単結晶基板と、このＳｉ単結晶基板上に形成されたＳｉ_１−ＸＧｅ_Ｘ（０＜Ｘ≦１）膜とを具えた半導体積層膜において、前記Ｓｉ_１−ＸＧｅ_Ｘ膜は好ましくはマグネトロンスパッタリング法で形成し、前記Ｓｉ_１−ＸＧｅ_Ｘ膜の表面欠陥密度が１０^４／ｃｍ^２以下となるようにする。 - 特許庁