「surface roughness measurement」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a method capable of facilitating measurement of the degree of roughness of an underwater ship propeller, even with a small measurement surface and a curved surface.例文帳に追加

船舶プロペラの水中での粗度測定を、小さな測定面及び曲面でも簡単に計測可能な方法を提供する。 - 特許庁

A light-diffusing layer 2 having a rough surface having ≥2.0 μm arithmetic average roughness and/or ≥10.0 μm ten point average roughness obtained by the three-dimensional surface roughness measurement is laminated on a transparent supporting body 3.例文帳に追加

３次元表面粗さ測定における算術平均粗さが２．０μｍ以上又は／及び十点平均粗さが１０．０μｍ以上であることを特徴とする凹凸表面を有する光拡散層２を透明支持体３上に積層する。 - 特許庁

To provide a surface roughness measuring instrument capable of performing continuous automatic surface roughness measurement of a plurality of wafers, thereby improving measurement efficiency.例文帳に追加

本発明は、複数枚のウエハの表面粗さの測定を連続で自動的に行うことができ、測定効率を向上させることができる表面粗さ測定装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Average surface roughness Ra of the surface of the substrate 81 side on which the dielectric films are provided is made equal to or less than 0.50 nm when the roughness is obtained by measuring a plurality of measurement points having measurement distances equal to or less than 100 nm.例文帳に追加

光学基板８１の誘電体膜を設ける側の表面を測定点間距離が１００ｎｍ以下の複数の測定点を測定することにより得られた平均表面粗さＲａが０．５０ｎｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The method for obtaining the roughness of the substrate and the device for obtaining the roughness of the substrate include: a first step of obtaining design information on the patterns formed on the substrate; and a second step of obtaining a surface roughness measurement region where the surface roughness of the substrate can be obtained by using the design information.例文帳に追加

基板に形成されたパターンに関する設計情報を得る第１のステップと、前記設計情報を用いて、前記基板の表面粗さを得ることができる表面粗さ測定領域を得る第２のステップとを有する基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置である。 - 特許庁

A photoreceptor support subjected to surface treatment by bite processing in which surface roughness Rz obtained by actual measurement or surface roughness Z obtained by calculation is a predetermined value, is used.例文帳に追加

実測による表面粗さＲｚ又は計算上の表面粗さＺを所定値とするバイト加工による表面処理を行った感光体用支持体を用いる。 - 特許庁

To provide a surface roughness evaluating method for sensitively and accurately comprehending a local change or variation of a surface to be measured, in surface roughness measurement of a component for an image forming device such as a base substance for an electrophotography photoreceptor.例文帳に追加

電子写真感光体用基体等の画像形成装置用部品の表面粗さの測定において、測定対象面の局所的な変化や変異を感度良くかつ正確に把握可能にすること表面粗さ評価方法を提供する。 - 特許庁

The step for calculating the skewness calculates the skewness for indicating a deviation of surface roughness data of the work in the height direction from a surface roughness measurement result of the ultrasonic-bonded work.例文帳に追加

スキューネスを算出する段階は、超音波接合されるワークの表面粗さ測定結果から、ワークの表面粗さデータの高さ方向における偏り度合いを示すスキューネスを算出する。 - 特許庁

In a glass substrate for an information recording medium, variability of surface roughness (Ra), which is calculated from measurement results of surface roughness (Ra) obtained from 10 or more fields of 10 μm square using an atomic force microscope, is less than 3%.例文帳に追加

情報記録媒体用ガラス基板は、原子間力顕微鏡を使用して、表面粗さ（Ｒａ）を１０μｍ四方の視野で１０視野以上測定した測定結果より算出される表面粗さ（Ｒａ）のばらつき率は、３％以下である。 - 特許庁

To inexpensively provide a measurement condition setting device capable of easily setting a condition for measuring a surface roughness state.例文帳に追加

表面粗さ形状測定の測定条件が容易に設定できる測定条件設定装置を安価に提供する。 - 特許庁

A side surface 10 of another notch 4 has an average roughness valve of not more than 10μm in a measurement section of 4.8 mm.例文帳に追加

別の切欠き４の側面１０が、４．８ｍｍの測定区間において１０μｍ以下の平均粗さ値を有しているようにした。 - 特許庁

The evaluation value of the surface roughness is obtained by setting a plurality of points for measurement on the surface of the inner wall and adding absolute values of the amount of inclination on the surface of the inner wall at the respective points for measurement by prescribed region.例文帳に追加

面粗さの評価値は、内壁部表面に複数の測定点を設定し、各測定点における内壁部表面の傾き量の絶対値を所定領域ごとに加算した値とする。 - 特許庁

To improve an yield due to variations in film thicknesses and film qualities among wafers by enabling measurement of surface roughness of the wafer with a pattern having fine irregular patterns in a midway of wafer working, in a method for obtaining roughness of a substrate and a device for obtaining the roughness of the substrate.例文帳に追加

基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置において、ウェハ加工途中の微細な凹凸のパターンを有するパターン付きウェハの表面粗さを測定することを可能にすることで、ウェハ間の膜厚や膜質のばらつきによる歩留まりを向上させることを目的とする。 - 特許庁

To provide a surface tracking type measuring instrument which can have its measurement range expanded while maintaining a measuring force, response, and resolution permitting surface roughness measurement.例文帳に追加

表面粗さ測定が可能な測定力、応答性、分解能を維持しつつ、測定範囲を拡大することができる表面追従型測定機を提供する。 - 特許庁

By paying attention to the fact that film reduction of the resist pattern is accompanied by surface roughening (roughness) of a resist upper surface, a film reduction index value is calculated by quantifying the degree of roughness of a portion corresponding to the resist upper surface, on an electron microscope image of the resist pattern used in conventional line width measurement.例文帳に追加

レジストパターンの膜減りがレジスト上面の面荒れ（ラフネス）を伴うことに着目し，従来の線幅計測に用いているレジストパターンの電子顕微鏡像上で，レジスト上面に相当する部位のラフネスの程度を定量化することによって膜減り指標値を算出する。 - 特許庁

To allow shape analysis and surface roughness analysis on the basis of the output of a detector for measuring the surface roughness of a workpiece, thereby eliminating time and effort to exchange the detector with one for shape measurement, and hence to improve measurement efficiency and to allow analysis under the same environmental conditions, thereby allowing high-precision measurement and analysis.例文帳に追加

本発明の目的は、ワークの表面粗さを測定する検出器の出力に基づいて、形状解析と表面粗さ解析を行えるようにして、検出器を形状測定用に交換する手間を不要とし、測定能率を向上させると共に同一環境条件下での解析を可能として測定・解析の高精度化を可能とする。 - 特許庁

To provide a linear beam of light data processor capable of simultaneously realizing profile measurement and surface roughness measurement accurately in wide range by using a light-section method.例文帳に追加

光切断法を用いて、計測精度よく広範囲の形状計測と表面粗さ計測とを同時に実現することができる線状光データ処理装置を提供する。 - 特許庁

The roughness of the surface of the member for processing a semiconductor which is used in a semiconductor manufacturing process is 150/cm or higher in peak count (Pc), with a dead zone width of 0.3μm and a measurement length of 4mm, when a surface roughness measuring device is used.例文帳に追加

半導体製造工程において用いられる半導体処理用部材において、表面の表面粗さが、表面粗さ測定機を用いた不感帯幅を０．３μｍとし測定長を４ｍｍとした際のピークカウント（Ｐｃ）で１５０／ｃｍ以上であることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a tactile sensor which has simple structure and which, like a human finger, can simultaneously recognizing surface hardness and surface roughness of an object by stroking the object, and to provide a surface form measurement system using the same, and a surface form measurement method.例文帳に追加

構造が簡単で、人間の指のように対象物を撫でることにより対象物の表面硬さと表面粗さを同時に認識することができる触覚センサとそれを用いた表面形態計測システム並びに表面形態計測方法を提供することである。 - 特許庁

The surface of SiC epitaxial substrate which is subjected to such a pretreating method is made free of the outstanding ruggedness and the Ra value (average value of surface ruggedness) is 40 nm based on the measurement of surface roughness meter.例文帳に追加

このような前処理方法を行ったＳｉＣエピタキシャル基板表面には目立った凹凸はなく、表面粗さ計で測定したところ、Ｒａ値（表面凸凹の平均値）が４０ｎｍであった。 - 特許庁

To provide a structure capable of performing accurate measurement by a measuring instrument for measuring the angle of inclination, flatness, surface roughness, etc., of an inspected surface by forming an image by reflected light from the inspected surface.例文帳に追加

被検査面からの反射光を結像させ、その像により傾斜角度、平面性や面の荒さ等を測定する測定装置において、これらの測定を正確に行うことのできる構成を提案すること。 - 特許庁

The light-emitting surface 21b of the light-diffusing plate 21 has a surface roughness, in a range where glossiness in the measurement of the light-emitting surface 21b at 60° is 70% or higher, and 110% or lower.例文帳に追加

光拡散板２１の光出射面２１ｂが、該光出射面２１ｂの６０°測定における光沢度が７０%以上１１０%以下の範囲の面粗さを有する。 - 特許庁

To eliminate a negative effect of vibration applied from outside to a workpiece and a measuring apparatus on measured data in surface roughness and shape measurement for measuring the surface shape of the workpiece by sliding a probe on the surface of the workpiece.例文帳に追加

触針を被測定物の表面にて摺動させて表面形状を測定する表面粗さ／形状測定において、外部から被測定物や測定装置に加えられた振動が、測定データに与える影響を除去する。 - 特許庁

A mirror 1, which is used in a vacuum environment, arranges a cooling interface section 11 at its back side for cooling off the mirror and a measurement surface section 12 for positioning the mirror, wherein surface roughness of the measurement surface section 12 is less rough than the cooling interface section 11.例文帳に追加

真空環境で使用するミラー１であり、ミラーの裏面にミラーを冷却するための冷却インタフェース部１１と、ミラーの位置決めを行うための計測面部１２と、を配置し、計測面部１２の表面粗さが冷却インタフェース部１１よりも小さいことを特徴とするミラー。 - 特許庁

To provide an austenitic stainless steel pipe excellent in water vapor oxidation resistance by determining quality of shot processing based on measurement of surface roughness on the inner surface of the pipe.例文帳に追加

管内面の表面粗さの測定によりショット加工の良否を判断し、耐水蒸気酸化性に優れたオーステナイト系ステンレス鋼管を得ること。 - 特許庁

To provide a surface inspection device capable of searching for a flat inspection range allowing high precision nondestructive measurement of surface roughness of a wafer with pattern without relying on visual observation.例文帳に追加

パターン付きウェハの表面粗さを高精度で非破壊に測定できる平坦な検査範囲を、目視によらず探索できる表面検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a non-contact type worked surface evaluator for giving a highly reliable measurement result, having no restraint imposed thereon as to a measuring object, and moreover, being used for evaluating roughness, etc. of a member surface in a relatively short period of time.例文帳に追加

測定結果に高い信頼性が得られ、測定対象の制限を受けることがなく、しかも比較的短時間のうちに部材表面の粗さ等を評価できる非接触式の加工表面評価装置を提供する。 - 特許庁

In measurement conforming to JIS B 0601, surface roughness Ra of both the front and rear of the base film is not more than 0.8 μm and that Ra of at least one surface is not less than 0.05 μm (1).例文帳に追加

１）ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠して測定したときの、基材フィルムの表裏両面の表面粗さＲａが０．８μｍ以下であり、かつ少なくとも一方の面の表面粗さＲａが０．０５μｍ以上である。 - 特許庁

To provide a surface property measuring apparatus capable of simply, quickly and accurately measuring surface roughness or waviness of a curved surface in an article having the curved surface, and to provide a computer program for surface property measurement which is applied to the surface property measuring apparatus.例文帳に追加

曲面を有した物品における曲面の表面の粗さまたはうねりを簡単かつ短時間に精度良く測定することができる表面性状測定装置および同表面性状測定装置に適用される表面性状測定用コンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

Reflectance and adhesion with a sealing material are improved by making surface roughness Ra in measurement by a stylus surface roughness meter to be 0.010 μm or above and surface roughness Sa in measurement by an atomic force microscope to be 50 nm or below in the LED component material.例文帳に追加

金属基材上の、少なくとも片面もしくは両面に、一部もしくは全面に、電析によりめっき皮膜を析出させた後に、前記めっき皮膜の表面平滑化を加工して得られる、ＬＥＤ用部品材料において、針式表面粗さ計による測定での表面粗さＲａを０．０１０μｍ以上であり、かつ原子間力顕微鏡による測定で表面粗さＳａが５０ｎｍ以下であることで、反射率と封止材との密着性を向上させたことを特徴とするＬＥＤ用部品材料。 - 特許庁

The present invention is able to cope with the opaque samples having various sizes and the surface roughness, and is able to shorten a measuring time by the simultaneous measurement for the obverse and reverse faces.例文帳に追加

本発明では、様々なサイズや表面粗さを持つ不透明な試料に対応可能ということと、表裏面同時計測による測定時間の短縮が可能である。 - 特許庁

Measurement-required positions of the measuring object are moved to a measuring position measured by a surface roughness measuring sensor 6 respectively, without moving the stage 5 to a direction along the laid rails 3, 4 on the rails 4, 4.例文帳に追加

よって、ステージ５を、架設レール３，４上で該架設レール３，４に沿う方向に移動させることなく、測定対象物の測定必要箇所をそれぞれ表面粗さ測定センサ６による測定可能位置に移動させる。 - 特許庁

In the part for contact type measurement for measuring a dimension, a shape, an angle or surface roughness, at least the portion coming into contact of an object to be measured of the part is formed of a hard fragile material dispersed carbide alloy.例文帳に追加

寸法、形状、角度、表面粗さ等を測定する接触式測定用部品において、該測定用部品の少なくとも被測定物に接触する部分を硬脆材料分散超硬合金で形成する。 - 特許庁

As the degree of brilliance is generally assumed to depend upon a figuration factor such as surface roughness, the features of the upper and lower surfaces can be sufficiently recognized even by simple measurement.例文帳に追加

光沢度は、一般に、表面粗さ等の形状ファクタに依存すると考えられるので、簡単な計測ではあっても、上面及び下面の特性を十分把握可能である。 - 特許庁

To provide a measurement technique of surface roughness, and to provide a device thereof which can be built into manufacturing lines as inspection, since a high accuracy and short time inspection is possible.例文帳に追加

高精度、且つ短時間で検査ができるので製造ラインに組み込むことができる面粗さ測定方法およびその装置を目的とするものである。 - 特許庁

This rhenium tungsten ribbon crimp component has attached the terminal, to at least one end of the rhenium tungsten ribbon by crimping fixing, without using welding, where the arithmetic average surface roughness Ra of the rhenium tungsten ribbon by optical surface roughness measurement is 0.10-0.80 μm.例文帳に追加

レニウムタングステンリボンの少なくとも一方の端部に溶接によらず、かしめ固定により端子が取り付けられたレニウムタングステンリボンかしめ部品であって、前記レニウムタングステンリボンの光学式表面粗さ測定による算術平均表面粗さＲａが０．１０μｍ以上０．８０μｍ以下であるもの。 - 特許庁

A sample surface roughness and/or an attenuation depth are measured by changing a primary ion incident angle by using incidence energy as a parameter, and, in a range of a domain wherein an incidence energy is high, an incident angle range wherein the sample surface roughness and/or the attenuation depth have each minimal value is found out in the range, and SIMS measurement is performed under this condition.例文帳に追加

入射エネルギーをパラメータとして試料表面粗さ、および／または減衰深さを、一次イオン入射角度を変化させて測定し、入射エネルギー領域が高い領域の範囲において、かつその範囲で試料表面粗さ、および／または減衰深さが極小値をもつ入射角度範囲を見出し、その条件下でＳＩＭＳの測定を行う。 - 特許庁

To decrease or eliminate striae in a glass substrate for a mask blank or adverse influences by reflection on the back surface, to measure a roughness pattern of the objective surface of a glass substrate with high accuracy, and to control flatness with extremely high accuracy based on the measurement result to achieve high flatness.例文帳に追加

マスクブランクス用ガラス基板の脈理や裏面の反射による悪影響を低減又は除去して、ガラス基板の被測定面の凹凸形状を精度よく測定し、この測定結果にもとづいて、極めて高精度に平坦度を制御し、高平坦度を実現する。 - 特許庁

When the surface form of the substrate 21 is measured in the measurement range of four quarters whose one side is 5μm by using an atomic force microscope, the number of ridges of textures which are observed at a position higher than the average line of measured roughness curve by 1.5nm is 200 or less.例文帳に追加

同情報記録媒体用ガラス基板２１の表面形状を、原子間力顕微鏡を使用し、１辺が５μｍ四方の測定範囲内で測定したとき、測定された粗さ曲線の平均線よりも１．５ｎｍ高い位置で観測されるテクスチャーの尾根の数は２００個以下である。 - 特許庁

The cutting blade, practically, does not comprise a radius part of the cutting blade, and the film is eliminated by cutting to a part close to the cutting blade on the flank, and the film on the rake face has surface roughness less than 0.3 μm over 0.25 mm of measurement length.例文帳に追加

前記切刃が実質的に切刃半径部を含まず、前記被膜が逃げ面上の少なくとも前記切刃の近傍までの研削加工により除去され、且つ前記すくい面上の前記被膜が０．２５ｍｍの測定長さに渡って０．３μｍ未満の表面粗さを有する。 - 特許庁

Thus, when detecting vibration, the low-repulsion rubber is interposed between the vibration pickup and the measuring object 10, thereby absorbs an influence of roughness of the contact surface or the like by the low-repulsion rubber, to thereby enable stable measurement without occurrence of the contact resonance.例文帳に追加

これにより、振動を検出する際には、振動ピックアップと被測定物１０の間に低反発ゴムが介在することになり、接触面の粗さなどの影響を低反発ゴムが吸収するため、接触共振を生じることなく安定した測定ができる。 - 特許庁

The reflector layer has at least one among an electrical conductivity exceeding about 5.0×10 (Ω.cm) an RMS surface roughness below about 1.0 nm in measurement by an atom force microscope and a refractive index below about 0.5 at a read-out wavelength.例文帳に追加

反射体層は、約５．０×１０^4（Ω・ｃｍ）^-^1を超える導電率、原子間力顕微鏡による測定で約１．０ｎｍ未満のＲＭＳ表面粗さ、および読出波長において約０．５未満の屈折率のうちの少なくとも１つを有する。 - 特許庁

To provide a surface roughness measuring device having a simple and small-sized device constitution, capable of performing stable measurement even when an inspection object is moved, vibrated or the like, and measuring accurately a fine change of detection light.例文帳に追加

簡素、小型の装置構成でもって、被検査体の移動、振動等がある場合においても安定した計測が可能であり、検出光の微小な変化を正確に計測する事ができる表面粗さ測定装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the cylinder liner for an internal combustion engine cast in the cylinder block made of a light alloy, a thermal spray coating film of aluminum or aluminum alloy is formed on an outer circumference surface of the cylinder liner and surface roughness of the thermal spray coating film is maintained in a range of 40 - 140 μm when measured with a measurement method provided by JIS B0601 (2001).例文帳に追加

軽合金からなるシリンダブロックに鋳包まれる内燃機関用のシリンダライナにおいて、当該シリンダライナの外周面に、アルミニウムまたはアルミニウム合金を溶射してなる溶射皮膜を形成し、かつ、当該溶射皮膜の表面粗さＲａを、ＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１）に規定される測定方法で、４０〜１４０μｍとする。 - 特許庁

The protective film for optical films having fine irregularities of a nano-meter order includes a substrate and an adhesive layer formed on the substrate and having a surface roughness Ra of ≤0.030 μm and a logarithmic damping factor rising temperature of ≥-35°C, measured by the rigid pendulum measurement.例文帳に追加

本発明は、ナノメートルオーダーの微細凹凸を有する光学フィルムに用いられる光学フィルム用保護フィルムであって、基板と、上記基板上に形成され、表面粗さＲａが０．０３０μｍ以下であり、剛体振り子測定における対数減衰率上昇温度が−３５℃以上である粘着剤層とを有することを特徴とする光学フィルム用保護フィルムを提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁