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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > surface-defectの意味・解説 > surface-defectに関連した英語例文

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surface-defectの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2108



例文

The device comprises a light source 14 irradiating a light on a PTP sheet, having a printed part on its surface, cameras 11 and 12 which selectively image infrared light in a reflected light from the PTP sheet, a seal defect deciding program 22 which the seal defect of the PTP sheet is detected, by calculating a photographed data taking by the cameras 11 and 12.例文帳に追加

表面に印刷部分の存在するPTPシートに光を照射する光源14と、PTPシートから反射する反射光のうち赤外線光を選択的に撮像するカメラ11,12と、カメラ11,12が撮像した映像データを演算することにより、PTPシートのシール不良を検出するシール不良判断プログラム22とを有している。 - 特許庁

A column electron microscope combined device has a structure of arranging: an electron microscope capable of beam tilting for obtaining images by irradiating charged particle beams on an observation defect and detecting electrons emitted from a surface of the observation defect; and compact column electron microscopes enabling imaging from an arbitrary angle on a column of the electron microscope.例文帳に追加

本発明は、上記目的を達成するために、荷電粒子ビームを観察欠陥に照射し、観察欠陥の表面から放出される電子を検出して画像を取得するビームチルトが可能な電子顕微鏡と、当該電子顕微鏡カラムに任意の角度から撮像可能とする小型カラム電子顕微鏡を複数配置した構造とする。 - 特許庁

To provide a silicon wafer imparting gettering ability of an epitaxial wafer and without producing crystal defect on an epitaxial growth layer of a surface by providing a place near a device active area as a gettering site due to the crystal defect and high concentration injection atom layers by ion implantation immediately under the epitaxial layer.例文帳に追加

デバイス活性領域に近い場所において、つまり、エピタキシャル層直下のイオン注入による結晶欠陥と高濃度注入原子層により、ゲッタリングサイトとして設けることで、エピタキシャルウエハのゲッタリング能力を付与するとともに表面のエピタキシャル成長層に結晶欠陥を発生させないシリコンウエハの提供を目的とする。 - 特許庁

In inspection of the bare silicon type semiconductor wafer, the semiconductor wafer is evaluated by classifying a projecting defect from a recessed defect by using a laser surface inspection device equipped with one low-angle incident system and two light receiving systems, to thereby enable to evaluate the semiconductor wafer by classifying accurately the adhering particles from the COP on the bare silicon type semiconductor wafer.例文帳に追加

ベアシリコン半導体ウエーハの検査において、1つの低角度入射系と、2つの受光系とを備えたレーザー表面検査装置を用い、凸状欠陥と凹状欠陥を分類して半導体ウエーハを評価することにより、ベアシリコン半導体ウエーハの付着パーティクルとCOPを正確に分類して半導体ウエーハを評価することができる。 - 特許庁

例文

To prevent a gear disposed at the rear of a game board from limiting a layout when loading an LED and an electronic component, etc., loaded on a printed board in a gear mechanism for transmitting driving force to a movable board surface component, to visually confirm the attaching defect of the gear easily, and to facilitate a work for eliminating the attaching defect.例文帳に追加

可動盤面部品に駆動力を伝達するためのギヤ機構において、遊技盤の後方に配置されたギヤがプリント基板上に搭載されたLED、電子部品等を搭載する際のレイアウト制限をもたらすことを防止すると共に、ギヤの取付け不良を目視で容易に確認したり、取付け不良を解消するための作業を容易化する。 - 特許庁


例文

To provide a method for casting molten stainless steel performing an electromagnetic stirring by which the yield of good cast slab is improved and the cast slab excellent in the quality can stably be produced by preventing defect caused by blow hole and inclusion developed on the surface of the cast slab and inclusion defect in the inner part of the cast slab when the molten stainless steel is cast by using a vertical-bending type continuous caster.例文帳に追加

垂直曲げ型の連続機を用いてステンレス溶鋼を鋳造する際に鋳片の表面に生じる気泡や介在物に起因する欠陥と、鋳片の内部の介在物欠陥を防止して良鋳片の歩留まりを高め、品質に優れた鋳片を安定して製造することができる電磁攪拌を行うステンレス溶鋼の鋳造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a high-quality silicon single crystal wafer and a silicon single crystal wafer, which can be appropriately used for forming the operating area of a semiconductor device, by eliminating a grown-in crystal defect over all the surface and internally forming the oxygen deposition bulk micro-defect (BMD) of density sufficient for presenting an IG effect.例文帳に追加

全面にわたってグローン・イン結晶欠陥がなく、かつ、内部にはIG効果を発揮するために十分な密度の酸素析出バルク微小欠陥(BMD)が形成されることにより、半導体素子の動作領域の形成に好適に用いることができる、高品質なシリコン単結晶ウエハを製造する方法およびシリコン単結晶ウエハを提供する。 - 特許庁

To provide a method for casting molten stainless steel using a vertical-bending type continuous caster with which a cast slab excellent in the quality can stably be produced at high speed casting by preventing defect caused by blow holes and inclusion produced on the surface of the cast slab and inclusion defect in the inner part of the cast slab when the molten stainless steel is cast by using the vertical-bending type continuous caster.例文帳に追加

垂直曲げ型の連続機を用いてステンレス溶鋼を鋳造する際に鋳片の表面に生じる気泡や介在物に起因する欠陥と、鋳片の内部の介在物欠陥を防止して品質に優れた鋳片を高速鋳造で安定して製造することができる垂直曲げ連鋳機を用いたステンレス溶鋼の鋳造方法を提供する。 - 特許庁

A divided zone in the circumferential direction of an optical disk is associated with a rotation control pulse generated corresponding to the rotation of a spindle motor for the rotation of the optical disk to specify the position of a defect part on the recording surface of the optical disk based on the rotation control pulse and to discriminate whether to avoid the position of the defect part in recording or reproducing.例文帳に追加

光ディスク回転用のスピンドルモータの回転に対応して発生する回転制御パルスに、光ディスクの周方向の分割ゾーンを対応付け、該回転制御パルスに基づいて該光ディスクの記録面上の欠陥部位置を特定するとともに、記録または再生時に該欠陥部位置を回避するか否かを判別する。 - 特許庁

例文

To provide a method of repairing a reactor structure, and the reactor structure, capable of suppressing progression of a crack-shaped defect by suppressing corrosion of a metal material constituting the structure inside a repaired crack, when a crack-shaped defect part is generated on the metal surface of the reactor structure and its repair welding is performed.例文帳に追加

原子炉構造物の金属表面に亀裂状欠陥部が生じてその補修溶接を行なう場合に、補修亀裂内部の構造物を構成する金属材料の腐食を抑制し、亀裂状欠陥の進展を抑制することが可能な原子炉構造物の補修方法、及び原子炉構造物を提供することを目的とする。 - 特許庁

例文

A wafer chuck rotatable 360° and an X-Y stage with a movable distance which is a half of the diameter of a semiconductor wafer are provided, and the regions provided by dividing a semiconductor wafer 1 into four is rotated with a wafer chuck, according to wafer's defect position coordinate and the four regions are observed sequentially with a fixed microscope 2, for defect review on the entire wafer surface.例文帳に追加

360度回転可能なウェハチャックと半導体ウェハ直径の半分の可動距離をもつX−Yステージとを有し、半導体ウェハ1を4分割した領域をウェハの欠陥位置座標に応じてウェハチャックを回転して、この4つの領域を順次固定された顕微鏡2により観察して、ウェハ全面の欠陥レビューを行うようにしている。 - 特許庁

To provide a bar coating method which can obtain a stable and excellent coating surface having no coating defect and a uniform film thickness on a long belt-shaped support without changing the composition of a coating liquid and requiring the troublesome control of a bar.例文帳に追加

塗布液の組成を変えることなく、バーの煩雑な管理を必要とせず、長尺帯状支持体に、塗布欠陥もなく、膜厚も均一な安定、且つ良好な塗布面が得られるバー塗布方法の提供。 - 特許庁

To provide a conductive roller whose image defect such as a vertical stripe or white fogging is eliminated by preventing the filming of toner on the surface of the conductive roller.例文帳に追加

電子写真方式の複写機、プリンターの高速化において、トナーの低融点化は必須であるが、トナーが溶けやすいため、ローラ表面にトナーが付着し、カブリや縦スジ等の画像不良が発生することが問題となる。 - 特許庁

To prevent the clogging of a nozzle at the time of continuously casting even in the case that gas-blowing is not performed and also, the generation of a surface defect and rust caused by inclusions in a product plate at the time of melting chromium-containing steel.例文帳に追加

含クロム鋼の溶製に際し、ガス吹き込みを行わなくても連続鋳造時におけるノズルの詰まりを防止すると共に、製品板において、介在物に起因した表面欠陥や錆の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a solid-state imaging apparatus manufacturing method which can reduce a junction leakage current on a floating diffusion layer with a silicide formed on its surface, and control the development of a white defect etc. and a solid-state imaging apparatus.例文帳に追加

表面にシリサイドが形成された浮遊拡散層での接合リーク電流を低減し、白キズ等の発生を抑制することができる固体撮像装置の製造方法および固体撮像装置を提供する。 - 特許庁

The matting agent particles 200P applied excessively are blown off by the air during seasoning in a paper discharge unit 192, thereby reducing an image defect such as a white spot when the rear surface is printed.例文帳に追加

排紙ユニット192でシーズニングを行うと過剰に付与されたマット剤粒子200Pはシーズニング中の風によって吹き飛ばされ、裏面を印刷する際に白抜けなどの画像故障が生じる虞は少なくなる。 - 特許庁

To provide a diode with reverse recovery characteristics is excellent, and breakdown voltage never deteriorates since no defect is generated on the upper main surface of a Si substrate even when wires are bonded onto an anode electrode and a manufacturing method of the same.例文帳に追加

逆回復特性が良好で、また、アノード電極上にワイヤがボンディングされる際にもSi基板の上主面内に欠陥が生じないため耐圧が低下しない、ダイオードおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

When there is some unbalance, e.g. a defect of such as a drill hole, on the surface of a coin 1 passing the carrier 1 oppositely to the right and left coils A1, A2 and B1, B2, unbalance voltage ΔV is generated.例文帳に追加

硬貨1が通過して、検出コイルA1、A2(又はB1、B2)の左右のコイルと対向する硬貨1の表面に何らかのアンバランス、例えばキリ穴等の欠陥があると、アンバランス電圧ΔVが発生する。 - 特許庁

To suppress the release of reaction gas to the working environment, further, to suppress the retainment of reaction gas in a gap flow channel between the cylinder inner wall surface and an electrode, and to prevent failures such as a defect in conducting.例文帳に追加

作業環境への反応ガスの放出を抑制できると共に、シリンダ内周面と電極間の隙間流路に反応ガスが滞留することを抑制して通電不良等の不具合を防止できること。 - 特許庁

To provide mold powder for use in continuous casting of steel which produces a surface defect-free slab of sound quality without incurring operational troubles such as breakout even when the slab is a round slab with a small cross-sectional size.例文帳に追加

小断面サイズの丸鋳片においても、ブレークアウト等の操業トラブルが発生せず、表面欠陥のない健全な品質の鋳片を得ることができる鋼の連続鋳造に用いるモールドパウダーを提供すること。 - 特許庁

To provide a vapor phase growth equipment and a vapor phase growth method with the equipment, which enable to control defect caused at a particle surface and to grow a thin film having a uniform composition.例文帳に追加

パーティクル等の表面欠陥の発生を有効に抑制することができ、均一な組成の薄膜を成長させることのできる気相成長装置およびその装置を適用した気相成長方法を提供する。 - 特許庁

To provide an antimony-doped single silicon crystal wafer having a small crystal defect density on the surface of the wafer and having a high gettering ability, and to provide an epitaxial wafer made to grow using the antimony-doped silicon wafer as a substrate wafer.例文帳に追加

アンチモンドープシリコンウエーハであって、ウエーハ表面の結晶欠陥密度が少なく、ゲッタリング能力が高いアンチモンドープシリコンウエーハ及び該ウエーハを基板ウエーハに用いて成長されたエピタキシャルウエーハを提供する。 - 特許庁

When the methylpolysiloxane composed of hydrophobic groups of Si-CH_3 bonds is used as the interlayer dielectric, the surface of the interlayer dielectric is damaged in an etching process and the carbon concentration is decreased due to defect of methyl group.例文帳に追加

Si−CH_3結合たる疎水基からなるメチルポリシロキサンを層間絶縁膜に用いた場合、エッチング工程等において前記層間絶縁膜表面がダメージを受け、メチル基の欠陥により炭素濃度が減少する。 - 特許庁

Alternatively, the light-transmitting member is a light-transmitting member made of titanium-containing molten quartz glass and is characterized in that the concentration of oxygen defect structures is10^-3 mol/L or lower in its surface region.例文帳に追加

チタンを含有する溶融石英ガラスよりなる光透過部材であって、当該光透過部材は表面層領域において、酸素欠陥構造の濃度が6×10^−3mol/L以下であることを特徴とする。 - 特許庁

A part on the surface of the formed product formed with the casting or the die casting is partially pressurized and the plastic deformation is developed in the formed product, and the pore defect formed in the inner part of the formed product is collapsed.例文帳に追加

鋳造またはダイカストにより成形された成形品の表面の一部分を加圧手段で部分加圧し、成形品に塑性変形を起こさせ、成形品の内部に形成されている空孔欠陥を圧潰する。 - 特許庁

Since the reflected beam from the sample surface is detected by each light receiving element (19) separated by a light shielding member, a con-focal optical system is established, resulting in higher resolution for defect detection.例文帳に追加

さらに、試料表面からの反射ビームは、遮光部材により分離された各受光素子(19)により受光されるので、コンフォーカル光学系が構成され、この結果、欠陥検出の分解能が一層高くなる。 - 特許庁

To provide a method for evaluating crystallinity of a titanium oxide particle having higher crystallinity in comparison with a previous one and excellent decomposition power by photocatalytic action, and a method for measuring surface defect density of the same particle.例文帳に追加

従来の酸化チタン粒子に比べ結晶性が高く、光触媒作用による分解力に優れる酸化チタン粒子の結晶性評価方法、及び酸化チタン粒子の表面欠陥密度測定方法の提供。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing pad capable of making compatible both the improvement of the flatness of a surface to be polished and the reduction of a polishing defect (scratch) in CMP, and a chemical mechanical polishing method using the pad.例文帳に追加

CMPにおける被研磨面の平坦性の向上と研磨欠陥(スクラッチ)の低減とを両立させることができる化学機械研磨パッド、および該化学機械研磨パッドを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ball-type constant velocity joint capable of elongating life of a retainer by avoiding generation of a sliding defect of the retainer and an inner ring even when swelling occurs on an outer peripheral surface of the inner ring.例文帳に追加

内輪の外周面に盛り上がり部が発生した場合においても、保持器と内輪との摺動不良の発生を回避して、保持器の長寿命化を図り得るようにしたボール型等速ジョイントを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern profile detecting device or method that is capable of detecting at a high-speed a shaping defect in a pattern profile of a patterned media surface and a stamper as well as a production line for patterned media disks.例文帳に追加

本発明は、本高速でパターンドメディア表面やスタンパのパターン形状の整形不良を検査できるパターン形状検査装置または検査方法並びにパターンドメディアディスク製造ラインを提供することである。 - 特許庁

To provide a high-luminance and high-definition image display device capable of preventing generation of an optical defect such as a white spot while restraining deterioration of luminance performance in the image display device using a surface light source device with an edge light method.例文帳に追加

エッジライト方式の面光源装置を用いた画像表示装置において、輝度性能の低下を抑えつつ白点などの光学欠陥の発生を防止し、高輝度かつ高品位な画像表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a barrier film capable of suppressing an environmental load and having an excellent gas barrier property by effectively utilizing a natural resource and suppressing the generation of a defect in a barrier layer caused by fine irregularity on the surface of a film substrate.例文帳に追加

天然資源を有効利用し、かつフィルム基材表面の微細な凹凸に起因するバリア層内の欠陥の発生を抑制することで、環境負荷を抑え優れたガスバリア性を有するバリアフィルムを提供する - 特許庁

In this crystal system, the surface mode can be effectively outputted by confining input light (hv) in ends of the three-dimensional photonic crystal (2), by controlling the physical properties of the system, for example, making the thickness of the defect layer proper.例文帳に追加

この結晶システムでは、欠陥層の厚さを好適なものとするなど、システムの物性を制御することで、入力光(hv)を3次元フォトニック結晶(2)の端部に閉じ込め、表面モードを効果的に出力(hv')できる。 - 特許庁

To provide a method for producing an inkjet recording material having good pearl gloss by suppressing occurrence of surface defect in particular in regard to the method for producing the inkjet recording material using pearlescent pigment.例文帳に追加

真珠光沢顔料を用いたインクジェット記録材料の製造方法に関し、特に表面欠陥の発生を抑制し、良好な真珠光沢を有するインクジェット記録材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoelectric conversion element capable of reducing the amount of defect on the front surface of a semiconductor substrate of a texture structure, and increasing an incident light amount as much as possible by suppressing an increase in reflection rate of an incident light.例文帳に追加

テクスチャ構造による半導体基板の表面欠陥量を減少でき、しかも、入射光の反射率の増加を抑制して入射光量を極力増大できる光電変換素子を提供する。 - 特許庁

To provide an extrusion molding method and an extrusion molding apparatus by and with which an excellent molded product is molded without causing molding defect or the deterioration in surface properties of the molded product even when the extrusion amount is reduced.例文帳に追加

押出量を絞っても、成形不良の発生や成形品の表面性を低下させることなく良好な成形品を成形することが可能な押出成形方法、および押出成形装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device capable of measuring an welded condition of a magnetic body such as steel, and an internal structure thereof, such as an internal defect, with a nondestructive means, without being influenced by a surface condition, and to provide a method therefor.例文帳に追加

鋼板等の磁性体の溶接状態や内部欠陥等の内部構造を,非破壊で,かつ,表面状態の影響をなるべく受けずに内部構造を測定できる装置および方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a defect prevention method for reducing surface defects which occur by insufficient flame scarfing and rolling after that by forming the stable shape of a rolled stock in a blooming step.例文帳に追加

分塊圧延工程で、安定した圧延材形状を造りこむことにより、不十分な溶削やその後の圧延により発生する表面欠陥を低減するための疵防止方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for inspecting defects in a three-dimensional shape capable of accurately executing defect inspection on a work surface without changing settings according to temperature changes or actively controlling a temperature environment.例文帳に追加

温度変化に応じて設定を変えたり、温度環境を積極的に制御したりしなくても、ワーク表面の欠陥検査を的確に実行することのできる三次元形状の欠陥検査方法を提供すること。 - 特許庁

A defect correction device 1 has a stage 2 having a work W placed thereon and is so configured that a surface of the work W is observed by a CCD camera 6, and defects can be removed by laser light from a laser light source 7.例文帳に追加

欠陥修正装置1は、ワークWを載置するステージ2を有し、ワークWの表面をCCDカメラ6で観察すると共に、レーザ光源7からのレーザ光で欠陥を除去できるように構成されている。 - 特許庁

In another embodiment, the device includes a robot 114 or 130 having a substrate support surface and the sensor configuration which senses the substrate nearby at least the two parallel ends for detecting the defect of the substrate.例文帳に追加

他の実施形態において、装置は、基板サポート表面を有するロボット114又は130と、基板の欠陥を検出するための、少なくとも2つの平行な端部近傍で、基板をセンシングするセンサ構成とを含む。 - 特許庁

To provide an optimized method of manufacturing a silicon wafer capable of obtaining a silicon wafer having a low defect density especially in a region near the surface and an oxygen doping concentration of at least10^17/cm^3.例文帳に追加

特に表面近傍の領域において低欠陥密度を有する酸素ドーピング濃度が少なくとも4×10^17/cm^3であるシリコンウエハを得ることができる、シリコンウエハの最適化された製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of leakage current due to a crystal defect, in a semiconductor device having a plurality of second-conductivity-type regions that are selectively formed in a surface portion of a first-conductivity-type semiconductor layer.例文帳に追加

第1導電型の半導体層の表面部分に選択的に形成された複数の第2導電型領域を備える半導体装置において、結晶欠陥に起因するリーク電流の発生を抑える。 - 特許庁

Thereby an extremely thin interface oxide film having high in-plane uniformity of film thickness and less defect is obtained by performing a low oxygen partial pressure oxidation while the surface of a silicon layer is protected by the chemical oxide film.例文帳に追加

これにより、シリコン層の表面をケミカル酸化膜で保護した状態で低酸素分圧酸化を行うことで、膜厚の面内均一性が高くて且つ欠陥の少ない極めて薄い界面酸化膜を得る。 - 特許庁

Thus, even when there is a residual matter of laser work, crack or a crystal defect on the inner surface of the pierced hole, a satisfactory insulation film can be formed and a satisfactory semiconductor device can be formed.例文帳に追加

これにより貫通孔の内面にレーザ加工による加工残存物およびクラックや結晶欠陥がある場合でも、良好な絶縁膜を形成する事ができ、良好な半導体装置を形成する事ができる。 - 特許庁

To provide an electrostatic charge image developing toner capable of effectively preventing the occurrence of photoreceptor contamination and flaws on a photoreceptor surface, suppressing an image quality defect for a long period, and providing excellent fixability and blocking resistance.例文帳に追加

感光体汚染や、感光体表面の傷の発生を効果的に防止でき、画質欠陥を長期にわたって抑制するとともに、定着性、耐ブロッキング性に優れた静電荷像現像用トナーと提供する。 - 特許庁

To prevent satisfactory ohmic contact between a p-type nitride semiconductor and metal even if a defect occurs on the surface of the p-type nitride semiconductor worked by using a dry etching method and metal is deposited.例文帳に追加

ドライエッチング法を用いて加工したp型の窒化物半導体の表面に欠陥が発生し、金属を蒸着しても、p型の窒化物半導体と金属の間には良好なオーミック性接触が形成されない。 - 特許庁

To suitably suppress yellowing and defect of the surface of a formed glass substrate by properly controlling the supply quantity of hydrogen in a float bath according to formation conditions such as temperature distribution or the like in the float bath.例文帳に追加

フロートバス内の水素供給量を当該フロートバス内の温度分布等の成形条件に合わせて適正に調整することで、成形されたガラス基板表面の黄変及び欠陥を好適に抑制する。 - 特許庁

By preparing a non-foamed skin layer in the whole periphery of a foamed layer, under having superior characteristics of the foamed plastic such as heat insulation, impact resistance and processability or the like, a defect such as a low strength part or the like is diminished on the surface.例文帳に追加

発泡層の外周面全体に無発泡のスキン層を設けると、断熱性、耐衝撃性、加工性などに優れる発泡プラスチックの特徴を有しながら、表面に低強度部分などの欠点が無くなる。 - 特許庁

例文

Dispersion of the additive 21 in the rubber band 16 at packing or unpacking is prevented and the occurrence of a surface defect such as a cissing failure or the like at coating in the next process caused by the additive 21 can be restrained.例文帳に追加

ゴムバンド16中の添加剤21が梱包時や開梱時に飛散することがなくなり、添加剤21に起因する次工程での塗布時におけるハジキ故障等の面状欠陥の発生が抑えられる。 - 特許庁




  
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