| 意味 | 例文 |
surface-defectの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2108件
Thereby, visibility of the substrate 1 for the magnetic recording medium is enhanced, sensing of the substrate for the magnetic recording medium by a ray such as a laser light is made easy and detection of a defect and the like is made easy in a surface appearance inspection step.例文帳に追加
これにより、磁気記録媒体用基板1の視認性が向上し、レーザ光などの光線による磁気記録媒体用基板の検知が容易になり、さらに、表面外観検査工程において欠陥などの検出が容易になる。 - 特許庁
To provide electronic parts with bump electrodes and its manufacturing method in which an open defect is adequately reduced in the manufacturing method, while there is provided a surface protecting insulation films having a substantial thickness and bump portions with sufficient heights.例文帳に追加
充分な膜厚の表面保護用絶縁膜および充分な高さのバンプ部を具備しつつ、製造過程においてオープン不良の発生が適切に低減されるバンプ電極付き電子部品、および、その製造方法を提供すること。 - 特許庁
Also, the defect of cracking can be prevented from occurring in and near the stopper surface 12a without causing an increase in the weight of the front end structure of the vehicle and that in production cost by complicating the front end structure of the vehicle.例文帳に追加
また、車両の前端構造を複雑にして車両の前端構造の重量増及び製造原価上昇を招くことなく、ストッパ面12a及びその近傍に亀裂が発生する等の不具合が生じることを防止できる。 - 特許庁
To provide a Ti-Al intermetallic compound which prevents its own surface from being oxidized, has a uniform composition as a whole, superior hot strength, and improves a room temperature brittleness that has been a defect of an intermetallic compound, and to provide a simple manufacturing method therefor.例文帳に追加
表面酸化を防止し、全体として均一組成を有して高温強度に優れ、金属間化合物の欠点である室温脆性をも改善したTi−Al系金属間化合物を簡便な方法で提供する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus which is free of an image defect such as image unevenness or inner absence of an obtained visible image and has long use life by applying a lubricant with superior spreadability over the surface of an image carrier.例文帳に追加
像担持体の表面に優れた展延性を有する潤滑剤を塗布することにより、得られる可視画像において画像ムラや中ヌケなどの画像欠陥が発生せず、また、使用寿命の長い画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
To provide an aluminum alloy having good forgeability, excellent wear resistance and heat resistance, little surface defect at the continuous casting time and easily controlling the size of intermetallic compound and excellent in the uniformity in the inner structure.例文帳に追加
鍛造性が良く、耐摩耗性及び耐熱性に優れ、連続鋳造時に表面欠陥が少なく、金属間化合物の大きさを小さく制御するのが容易で内部組織の均一性に優れたアルミニウム合金の提供を目的とする。 - 特許庁
To provide a method for producing an epitaxial wafer of high surface flatness while reducing crystal defect in an SiC epitaxial wafer, the SiC epitaxial wafer obtained by it and a semiconductor device produced on the wafer.例文帳に追加
SiCエピタキシャルウエハ中の結晶欠陥を低減しながら表面の平坦性の高いエピタキシャルウエハを作製する方法、これによって得られたSiCエピタキシャルウエハ、及び同ウエハ上に作製された半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a heat treatment method of a silicon wafer which is capable of suppressing worsening of surface roughness even when rapid thermal processing (RTP) is performed at a high temperature with a high void defect annihilation power and which is further capable of suppressing occurrence of a recessed pit.例文帳に追加
ボイド欠陥の消滅力が高い高温下でRTPを行っても、表面粗さの悪化を抑制することができ、更に、凹形状のピットの発生も抑制することができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁
Thereby, on the ashing process of a photosensitive layer, etching ratio on a part where wiring is positioned is equalized to the etching ratio on a part where the wiring is not positioned and, therefore, the advantage of preventing a defect from occurring on the surface of the wiring can be obtained.例文帳に追加
ここれにより、感光層をアッシングする工程で、配線が位置した部分と、そうではない部分に対するエッチングの比率を合わせることができるために、配線の表面に欠陥が発生する不良を防げる長所がある。 - 特許庁
To provide a manufacturing method capable of providing a high-reliability component with lead terminals by preventing a defect caused by the intrusion of flux into the component with lead terminals by improving adhesion between a surface-treated metal wire and a body.例文帳に追加
表面処理金属線と本体との密着性を向上させて、フラックスがリード端子付部品の内部へ浸入することによる不良の発生を防ぎ、信頼性の高いリード端子付部品が得られる製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a lens array element which suppresses occurrence of a defect in accuracy caused by releasing property when it is molded by using a metallic mold concerning a reference surface provided at an end face of a rectangular plate shape for the purpose of optical alignment.例文帳に追加
光学的な位置合わせのために矩形板状の端面に設けられる基準面について、金型を用いて成形される際の離型性に起因する精度不良の発生が抑制されたレンズアレイ素子を提供する。 - 特許庁
A threshold set when the internal defect of the bandlike body S is detected is set to be varied along a plate thickness direction of the bandlike body S, and a threshold in a surface layer position in the plate thickness direction is thereby made small compared with the center position in the plate thickness direction.例文帳に追加
帯状体Sの内部欠陥を検出する際に設定するしきい値を、帯状体Sの板厚方向において変化するように設定して板厚中心位置に比べ板厚表層位置でのしきい値を小さくする。 - 特許庁
The defect is introduced in the surface oxide film by allowing the aluminium foil which is useful in etching to be subjected to a bending process or a repetitive bending process suitably at the curvature of 0.5 mm-7 mm by use of bending rollers 2, 2a, and 2b.例文帳に追加
エッチングに供されるアルミニウム箔に、曲げローラ2、2a、2bなどにより好適には曲率0.5mm〜7mmで曲げ加工あるいは繰り返し曲げ加工を施してその表面酸化皮膜に欠陥を導入する。 - 特許庁
To sample quickly a slice specimen processed for analyzing by observation, instrumental analysis or the like by means of TEM or STEM, a foreign matter or a defect existing on the surface of a semiconductor wafer or the like or inside thereof.例文帳に追加
本発明の目的は、半導体ウェハ等の表面や内部にある異物や欠陥などをTEMもしくはSTEMで観察や分析など解析するために加工された薄片試料を迅速に採取することに関する。 - 特許庁
To provide a method for forming electric wiring or an electrode for a liquid crystal display, which is made from a copper thin film, is superior in adhesiveness to the surface of a glass substrate and does not have such a thermal defect as a hillock and a void.例文帳に追加
ガラス基板表面に対する密着性に優れ、さらにヒロックおよびボイドなどの熱欠陥が発生することのない銅薄膜からなる液晶表示装置用配線および電極の形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a small surface mounted antenna in which the defect of a capacitive coupling system is diminished while the independence of adjusting a resonant frequency and a matching characteristic is maintained in the same degree as those of a reverse F antenna and the capacitive coupling antenna system.例文帳に追加
共振周波数や整合特性の調整の独立性は逆Fアンテナや容量結合方式と同様に保ちながら、容量結合方式の欠点が改善された小型の表面実装型アンテナを提供する。 - 特許庁
To provide a method for uniformly forming a comparatively-thin plated nickel layer on an uneven pattern on the outer surface of a main body of a die while inhibiting a defect such as a plating spot from being produced thereon; and a production apparatus therefor.例文帳に追加
めっき斑等の欠陥の発生を抑えつつ、金型本体の外周面の凹凸パターン上に比較的薄いニッケルめっき層を均一に形成できるニッケルめっき金型の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁
To solve a problem of defect being generated due to the lack of a tapered part pressed by a polishing cloth and to prevent peeling from the tapered part when performing mirror polishing of SOI wafer having a bonding interface on the tapered part of a bevel surface.例文帳に追加
ベベル面のテーパー部に接着界面を有するSOIウェーハの鏡面研磨を行っていく上で、研磨布に押圧されたテーパー部が欠落して不良が発生する問題を克服し、テーパー部からの剥離を防ぐこと。 - 特許庁
To provide a member for fixation that can prevent toner from remaining and wax from remaining on a surface during long-period use, can suppress sticking of paper powder etc. on the surface, and further suppress modification of the surface due to a heat history to prevent occurrence of an image defect, a fixing device using the member for fixation, an image fixing method, and an image forming device.例文帳に追加
長期の使用に亘って、表面に、トナーが残留することを防ぐと共にワックスが残留することも防ぎ、また、表面に紙粉等が付着することを抑え、更には、熱履歴による表面の改質も抑えることができ、画像欠陥の発生を防止可能な定着用部材、該定着用部材を用いた定着装置、画像定着方法、及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
A molded member (resin molding) having a circular cross-section cylindrical part 101 whose an outer peripheral face becomes a sealing surface is rotated around an axis of the member and resin 102 with fluidity is flowed on the sealing surface and coated so that the seal surface is formed with continuity and defect-free by curing the coated resin with heat or irradiating an ultraviolet ray.例文帳に追加
外周面がシール面となる断面円形状の円柱部101を有するモールド部材(樹脂成形品)をその軸を中心として回転させながら流動性のある樹脂102をシール面に流下しながら塗布し、その塗布した樹脂を熱または紫外線照射することで硬化させることにより、シール面を連続性のある欠陥のないシール面に整形する。 - 特許庁
To provide a dip coating method by which a covering layer having no surface defect can be formed when the covering layer of an electrically conductive member surface is formed and thickness of the covering layer of the electrically conductive member surface can be uniformly controlled with great simplicity at both an upper part and a lower part when dipped and to provide a roller for an electrophotographic apparatus manufactured by the dip coating method.例文帳に追加
本発明の目的は、上記に鑑みてなされたものであって、導電性部材の表面被覆層を形成する際、表面欠陥の無い被覆層を形成すると共に、極めて簡便に導電性部材表面の被覆層の厚さを浸漬時の上下について均一にコントロールすることができる浸漬塗工方法及び電子写真装置用ローラを提供することである。 - 特許庁
This phosphor powder is obtained by preparing a core material through a solution preparation and its reaction process, then mixing the core material with an activator and a co-activator, subjecting it to a burning process and a removing process in which a surface crystalline defect layer or a surface strain layer formed in the burning process is removed, and then carrying out a surface treatment.例文帳に追加
このような蛍光体粉末は、溶液の調整工程及び反応工程を経てコア材を製造した後、該コア材を付活剤及び共付活剤と混合し、次いで焼成工程後、焼成品の表面に形成された表面結晶欠陥層あるいは表面歪み層を除去する除去工程を設け,その後表面処理することにより製造される。 - 特許庁
A holding means holds a processed surface of a substrate downward, a film is formed by spraying a gas supplied from a gas supplying means through a gas introduction means on the laser irradiation point with radiating the laser beam on the processed surface downward from the substrate, and corrects the clear defect of the pattern film on the substrate.例文帳に追加
保持手段で基板の加工面を下向きに保持し、基板の下方から基板の加工面に対してレーザ光を照射するとともに、ガス供給手段から供給されるガスをガス導入手段を通じて基板のレーザ照射部に吹き付けて、基板上に膜を形成し、基板上のパターン膜の白欠陥を修正する。 - 特許庁
While the surface of the semiconductor wafer W is held at a nearly constant processing temperature T2, even a position a little deeper than the surface is raised in temperature to some extent, so the activation of implanted ions and the recovery of an introduced defect are both achieved without thermally damaging the semiconductor wafer W.例文帳に追加
半導体ウェハーWの表面温度を概ね一定の処理温度T2に維持しつつも、表面よりやや深い位置をもある程度昇温することができるため、半導体ウェハーWに熱的なダメージを与えることなく、注入されたイオンの活性化および導入された欠陥の回復の双方を行うことができる。 - 特許庁
To avoid exposing a portion of a compound turned up to the eyes of persons in a stage when the floor surface of a bathroom has been worked, to eliminate poor design or appearance due to a defect during molding to improve yield, and to simplify and make easier the positioning work for surface sheet and set work during molding.例文帳に追加
浴室の床面を施工した段階においてコンパウンドの回り込み箇所が目に触れることを防止でき、成形時の不備による意匠性や見栄えの悪さを解消し、歩留まりを良くすると共に、成形時における表面シートの位置決め作業、セット作業を簡単化、容易化できるようにする。 - 特許庁
To provide a chemical mechanical polishing method of a workpiece in a semiconductor device manufacturing process which can progress polishing at a sufficient polishing speed in a planarizing process of a surface to be processed by the chemical mechanical polishing, suppress surface defect such as dishing, and sufficiently suppress a cost in practical usage.例文帳に追加
化学機械研磨による被加工面の平坦化工程において十分な研磨速度で研磨進行し、ディッシング等の表面欠陥が抑えられ、現実の使用においてもコストを十分に抑えることが出来る、半導体デバイス製造工程における被加工体の化学的機械的研磨方法を提供する。 - 特許庁
The light-transmitting member is a light-transmitting member made of molten quartz glass containing titanium and is characterized in that the concentration of oxygen defect structures showing absorption at a wavelength in 163 nm is ≤6×10^-3 mol/L in 100 μm surface region from a light incident surface.例文帳に追加
この光透過部材は、チタンを含有する溶融石英ガラスよりなる光透過部材であって、当該光透過部材は、光入射面から100μmの表面層領域において、波長163nmに吸収を示す酸素欠陥構造の濃度が6×10^-3mol/L以下であることを特徴とする。 - 特許庁
To provide an exposure device collecting the light emitted from a plurality of light-emitting elements formed on a substrate through hologram to form a row of light concentration points on an exposed surface and forming desired number of rows of light concentration points on the exposed surface even if there is a defect in a portion of a plurality of light-emitting elements.例文帳に追加
基板上に形成された複数の発光素子からの射出光をホログラムにより集光させて被露光面に集光点列を形成する露光装置において、複数の発光素子の一部に欠陥があっても、被露光面において所望の個数の集光点列を得ることができる露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a configuration for securing a normal film formation region, which is free of a quality defect such as frame color unevenness and peeling, in a color filter formed on a pixel portion of a high-sensitivity solid-state imaging element in which a pixel portion whose surface position is low and a multilayer wiring portion whose surface position is high at a periphery thereof form a step.例文帳に追加
表面位置の低い画素部とその周囲の高い多層配線部とが段差を有する高感度の固体撮像素子の画素部上に形成するカラーフィルタにおいて、枠色ムラや剥がれ等の品質不良のない正常な膜形成領域を広く確保するための構成を提供すること。 - 特許庁
To provide a width-reducing die for a hot steel slab capable of enhancing the productivity of a hot rolling line, preventing the occurrence of any product surface defect attributable to a damage of a die, and considerably improving a die basic unit, by preventing any surface damage of the die of a plate width press device and considerably prolonging its lifetime.例文帳に追加
板幅プレス装置の金型の表面損傷を防止して寿命を大幅に延長することにより、熱間圧延ラインの生産性の向上、金型損傷に起因する製品表面欠陥の発生防止、金型原単位の大幅改善等を可能とする、熱間鋼スラブの幅圧下用金型を提供する。 - 特許庁
To provide a nozzle capable of preventing the occurrence of a surface shape defect of unvulcanized rubber on a mold winding core due to contact of a swelling part with the nozzle for improving the quality of a product tire even if a winding starting end and its vicinity of the unvulcanized rubber stuck to the surface of the mold winding core swell.例文帳に追加
成型巻芯の表面に貼着させた未加硫ゴムの巻き始端およびその近傍が膨張しても、その膨張部分が、口金に接触することに起因する、成型巻芯上の未加硫ゴムの表面形状不良の発生を防止して、製品タイヤの品質を向上することができる口金を提供する。 - 特許庁
A silicon substrate processing method, wherein hydrogen is introduced from the surface of a silicon substrate to inactivate the defect of the silicon substrate, comprises a process for heating the silicon substrate, a process for quickly cooling the silicon substrate, and a process for irradiating hydrogen against the surface of the silicon substrate.例文帳に追加
本発明のシリコン基板の処理方法は、シリコン基板の表面から水素を導入し、シリコン基板の欠陥を不活性化する処理方法であって、シリコン基板を加熱する工程と、シリコン基板を急冷する工程と、シリコン基板の表面に水素を照射する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
The method for reforming the surface quality of the copper wire or the copper alloy wire for manufacturing the ultrafine wire comprises the steps of: dissolving and removing the surface defect of the copper wire or the copper alloy wire; and plating it with copper or a copper alloy.例文帳に追加
極細線を製造するための銅線或いは銅合金線であって、前記銅線或いは銅合金線の表面欠陥を溶解除去した後、ついで銅めっき処理または銅合金めっき処理を行う極細線製造用の銅線或いは銅合金線の表面性状改質方法とすることによって、解決される。 - 特許庁
To obtain a method for producing a stripe electrode by forming a transparent conductive film on the upper surface side of a substrate and then striping the transparent conductive film in which occurrence of a defect in a reproduced image due to a protrusion formed on the upper surface of the stripe electrode is prevented.例文帳に追加
基板の上面側に透過導電膜を形成し、該透明導電膜をストライプ加工してストライプ電極を形成するストライプ電極製造方法において、透明導電膜の上面またはストライプ電極の上面に形成されている突起物に起因する再生画像の画像欠陥の発生を防止する。 - 特許庁
The steel plate surface inspection apparatus includes: a mist spray nozzle for spraying a fine mist to the steel plate immediately after casting to cool a surface of the steel plate; an imaging device for imaging radiation light from a cooled part during cooling or immediately after cooling; and a signal processor for detecting a defect occurring on the steel plate by image processing of a picked-up image.例文帳に追加
鋳造直後の鋼板に微細なミストをスプレーし表面を冷却するためのミストスプレーノズルと、冷却中又は冷却直後の冷却部分からの放射光を撮像する撮像装置と、撮像した画像を画像処理することにより前記鋼板に生じた欠陥を検出する信号処理装置とを具備する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus capable of surely preventing an image defect such as so-called "image flow" resulting from sticking of discharge product to the surface of an image carrier and capable of preventing a fault so-called "blade curl" referring to the backward curling of a cleaning blade disposed in contact with the surface of the image carrier.例文帳に追加
像担持体の表面に放電生成物が付着することに伴う所謂“像流れ" などの画像欠陥を確実に防止するとともに、像担持体の表面に当接するクリーニングブレードが裏返ってしまう所謂“ブレードめくれ" と呼ばれる不具合を防止することを可能とした画像形成装置を提供する。 - 特許庁
That is, a foreign substance defect on a photomask is removed and corrected by preparing a plurality of probes, simultaneously bringing at least two probes into contact with a foreign substance on a photomask surface, holding the foreign substance at least at three different positions, and parting the foreign substance away from the photomask surface.例文帳に追加
つまり、複数のプローブを用意し、そのうちの少なくとも2つのプローブをフォトマスク表面上にある異物に対して同時に接触させ、異物を少なくとも異なる3箇所で保持し、保持した前記異物をフォトマスク表面から遠ざけることにより、フォトマスク上の異物欠陥を除去して修正する。 - 特許庁
Further, the surface temperature of the semiconductor wafer W supported in point contact is relatively slow in temperature falling speed and the surface temperature is thereby held above an annealing temperature Ta for the time ta, so that the crystal defect introduced in the semiconductor wafer W during the impurity implantation can be recovered.例文帳に追加
さらに、点接触にて支持された半導体ウェハーWの表面温度の降温速度は比較的小さく、その結果表面温度がアニール温度Ta以上に時間ta維持されることとなり、不純物注入時に半導体ウェハーWに導入された結晶欠陥の回復をも行うことができる。 - 特許庁
The method comprises the steps of forming a strained Ge-containing layer on the front surface of an Si-containing substrate, implanting ions into the interface of the Ge-containing layer/the Si-containing substrate or under the interface, and forming the substantially-relaxed SiGe alloy layer, in which the flat surface defect density is decreased.例文帳に追加
本発明の方法は、Si含有基板の表面上に歪みGe含有層を形成するステップと、Ge含有層/Si含有基板の界面にまたは界面の下にイオンを注入するステップと、加熱を行って、平面欠陥密度が低下した、実質的に緩和したSiGe合金層を形成するステップと、を含む。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus that can form an image of high quality by preventing a defect in fixation by controlling the surface temperature of a heat roller always into a proper fixation temperature range even if a detection surface of a non-contact temperature sensor is stained with toner and oil, and further paper powder scattering during fixation.例文帳に追加
定着時に飛散するトナーやオイル、更には紙粉などにより、非接触式温度センサの検知面が汚れても、常に加熱ローラの表面温度を適正な定着温度範囲内に制御し、定着不良の発生を防止し、高品質の画像が得られる画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an inspection/analysis system which can use an infrared imaging device or both it and a laser imaging device to automatically measure the float or both the floats and cracks of wall surface in a single process and then automatically analyze the pick-up image to extract/determine a defect, in failure check of wall surface for tunnels, etc. by using an inspection vehicle.例文帳に追加
計測車によるトンネル等の壁面の不具合計測において、赤外線撮像装置或は該撮像装置とレーザ撮像装置の両方を使用して壁面の浮き或は浮きとひび割れの両方を1工程で自動計測し、撮像画像を自動解析して不具合を抽出・判定できるシステムを提供する。 - 特許庁
Thus, a state change on the surface of the nitride semiconductor and a change in a charging state of the surface defect level caused by the presence of hydrogen in the SiN protection film 180 are suppressed so that the gate leakage current and current collapse can be suppressed to a level for satisfying the high characteristic requirement of the commercial level.例文帳に追加
これによりSiN保護膜180中に水素が存在することで生じる窒化物半導体表面の状態変化と表面欠陥準位の荷電状態の変化が抑制され、ゲート漏れ電流と電流コラプスとをコマーシャルレベルの高い特性要求を満足するレベルまで抑制することが可能となる。 - 特許庁
Consequently, while the bonded strength (metallized strength) of the conductor 12 is ensured, the precipitation of a glass component or an inorganic additive onto the surface of the conductor 12 is suppressed, and its is possible to prevent generation of a swell or air bubbles on the surface of the conductor 12 and generation of a defect on an external appearance such as pinholes or the like.例文帳に追加
これにより、Au表層導体12の接合強度(メタライズ強度)を確保しながら、Au表層導体12の表面へのガラス成分や無機添加物の析出を抑えると共に、Au表層導体12の表面に膨れや発泡、ピンホール等の外観上の欠陥が生じることが防止される。 - 特許庁
This visual inspection device includes a linear light source 2 for obliquely illuminating the surface of an inspecting object 5 sent in a fixed direction, a line sensor type camera 1 for capturing reflected light on the surface of the inspecting object of the light from the light source, and an image processing circuit 3 for detecting a defect from the contrast of an output image from the camera.例文帳に追加
一定方向に送られる被検査物5の表面に斜光照明を行うライン状光源2と、該光源からの光の被検査物表面での反射光を捕らえるラインセンサ型カメラ1と、上記カメラの出力画像の明暗から欠陥を検出する画像処理回路3とからなる。 - 特許庁
An SiGe film is formed on the top surface of a substrate which is composed of a silicon single-crystal layer with a surface azimuth (111) or (110), a buried crystal defect is introduced into the substrate by ion injection and annealing, and a semiconductor film is formed on the SiGe film.例文帳に追加
表面が(111)又は(110)の面方位のシリコン単結晶層からなる基板上面にSiGe膜を形成し、イオン注入及びアニール処理を行って前記基板内に埋め込み結晶欠陥を導入し、前記SiGe膜上に半導体膜を形成することからなる半導体基板の製造方法。 - 特許庁
Belt-shaped light is radiated obliquely against the conveyance direction on the surface of an inspection object 10 conveyed in one direction, and the irradiation part on the inspection object is imaged by a linear imaging element 14 arranged similarly obliquely to obtain sequential video signals, and a surface defect of the inspection object is detected based on the video signals.例文帳に追加
一方向に搬送される被検査物10の表面に、帯状の光を搬送方向に対して斜めに照射すると共に、同じく斜めに配置したリニア撮像素子14により被検査物上の該照射部分を撮像して逐次ビデオ信号を得、該ビデオ信号に基づいて、被検査物の表面欠陥を検出する。 - 特許庁
In the method, the steel plate surface irradiated with light is photographed by a color camera, and at least one value of average luminance, maximum brightness, minimum brightness and brightness variance of each RGB component of the photographed color image is calculated, and the calculated value is compared with a prescribed set value, thereby determining the presence and/or the degree of the defect of the steel plate surface.例文帳に追加
光を照射した鋼板表面をカラーカメラにより撮像し、撮像したカラー画像のRGB各成分の平均輝度、最大輝度、最小輝度、輝度の分散の少なくとも一つの値を算出し、算出した値を所定の設定値と比較して、鋼板表面の欠陥の有無および/または程度を判定する。 - 特許庁
After performing crystal defect repair processing or crystal defect removal processing of the single crystal silicon layer, using stock gas at least containing silicon based gas, the stock gas is activated by plasma under the atmospheric pressure or near the atmospheric pressure to cause single crystal silicon layer epitaxial growth and a second impurity silicon layer is formed on the epitaxial grown surface side.例文帳に追加
単結晶シリコン層の結晶欠陥修復処理又は結晶欠陥除去処理を行った後、シラン系ガスを少なくとも含む原料ガスを用い、大気圧或いは大気圧近傍下で生成したプラズマにより原料ガスを活性化させ、単結晶シリコン層をエピタキシャル成長させ、該エピタキシャル成長させた表面側に第2不純物シリコン層を形成する。 - 特許庁
The characteristic of this measuring method is to excite a flexuously-vibrating ultrasonic (RAM wave) in a measuring body, measure the time difference of a repetitive wave caused by an inner defect extending in a flexuous vibration propagating direction parallel to the measuring body surface to measure the size of the inner defect on the measuring body using both the time difference and the flexuous vibration sound wave velocity.例文帳に追加
被測定体中に屈曲振動する超音波(ラム波)を励起し、被測定体表面に平行で屈曲振動伝播方向に伸びる内部欠陥によって起こる繰り返し波の時間差を計測し、その時間差と屈曲振動伝播速度から被測定体内部欠陥の大きさを測定することを特徴とする内部欠陥寸法の測定法方法。 - 特許庁
The heat treatment for compensating the oxygen defect in the Ta2O5 film is performed in an atmosphere containing N and O at low temperatures while generating nitrogen radials and oxygen radicals, by applying ultraviolet rays to rapidly end dangling bonds on the surface of the Si substrate by the generated nitrogen radicals and to compensate the oxygen defect in the Ta2O5 film by the generated oxygen radicals.例文帳に追加
前記Ta_2 O_5 膜中の酸素欠損を補償する熱処理を、NとOとを含む雰囲気中において、紫外光照射により窒素ラジカルと酸素ラジカルとを発生させながら低温で行い、発生した窒素ラジカルによりSi基板表面のダングリングボンドを速やかに終端させ、また発生した酸素ラジカルにより、Ta_2 O_5 膜中の酸素欠損を補償する。 - 特許庁
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