「thickness pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

On an Si substrate 4, a pattern oxidized film 3 is formed by thermal oxidization and the stopper film 2 of a film thickness x Å[x>1.2H/(S-1.2)] is formed by using a CVD technique.例文帳に追加

Ｓｉ基板４上に熱酸化によってパターン酸化膜３及びＣＶＤ技術を用いて膜厚ｘÅ［ｘ＞１．２Ｈ／（Ｓ−１．２）］のストッパ膜２を成膜する。 - 特許庁

To provide a device for sorting a micromirror device to obtain a drawing pattern with good linearity and no recess in a width or thickness direction, in a maskless exposure apparatus.例文帳に追加

マスクレス露光装置において、幅方向にも厚さ方向にも窪みのない直線性の良い描画パターンを得るためのマイクロミラーデバイス選別装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing optical waveguide parts which is simple and is low in cost and permits arbitrary control of the thickness in a perpendicular direction in pattern forming a core layer.例文帳に追加

簡便かつ低コストで、コア層のパターン形成において、垂直方向の厚さを任意に制御可能である、光導波路部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for printing capable of realizing a pattern with a good uniform film thickness, with good reproducibility and at a low cost, and a color filter prepared by this method for printing.例文帳に追加

本発明は、均一性の良い膜厚のパターンを、再現性よく、低コストで実現できる印刷方法及びその印刷方法で作製したカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To magnify a pattern at variable horizontal and vertical magnifications with respect to the longitudinal direction and the lateral direction of a substrate without changing the thickness, curvature or distance of parallel plates.例文帳に追加

基板の縦方向と横方向に対し、平行平板の厚み・曲率・間隔のいずれも変えることなく、任意の倍率で縦横変倍ができるようにすること。 - 特許庁

The thickness between the uneven pattern-forming surface 6 and its back face 7 is formed to reduce gradually toward an opening rim part Pe in an opening rim region Ae.例文帳に追加

また、凹凸パターン形成面６とその裏面７との間の厚みが口縁領域Ａｅにおいて口縁部Ｐｅ側ほど徐々に薄くなるように形成されている。 - 特許庁

To provide a method capable of coating the inside of grooves of a flat substrate, on which a fine pattern is formed by the grooves on the surface, with a paint in a precise thickness.例文帳に追加

表面に溝によって微細なパターンが形成された平板状の基板の当該溝の中に、正確な厚さでペイントを塗布することが可能な方法を提供する。 - 特許庁

The same effect is obtained by making the thickness of the wiring pattern (4) or of the connecting material (3) larger than the average grain diameter of the inorganic filler used in the core layer (8).例文帳に追加

また、配線パターン(4)厚み或いは接続材料(3)厚みをコア層(8)に用いる無機質フィラーの平均粒径より大きくすることで、同様の効果が得られる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a multilayer ceramic capacitor in which an electrode pattern having an arbitrary thickness can be formed with high accuracy.例文帳に追加

任意の厚みの電極パターンを高精度に形成することが可能な積層セラミックコンデンサの製造方法および積層セラミックコンデンサの製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer substrate, as well as its manufacturing method, that can be made thin, excellent in mass-production, has a pattern accuracy, a lamination accuracy, and an insulating layer thickness accuracy, and is highly reliable.例文帳に追加

薄型化が可能で、量産性に優れ、パターン精度、積層精度および絶縁層の厚さ精度が高く、信頼性の高い多層基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The wiring board 10 is provided with a conductor pattern comprising a lead 5 which is formed on an organic layer and has a thickness (t) greater than a width W.例文帳に追加

本発明の配線基板によれば、有機層上に形成された厚みｔが幅Ｗよりも大きいリード５からなる導体パターンを備えた配線基板１０である。 - 特許庁

The processed pattern 4 is preferably formed into surface roughness that has fine ruggedness with a process depth Ra in the pipe thickness direction set to ≤10 μm.例文帳に追加

この加工模様４が、管厚方向への加工深さＲａが１０μｍ以下に設定された微細凹凸を有する表面粗さに形成することが好ましい。 - 特許庁

To provide an image recognition apparatus and an image recognition method which can stably perform pattern matching for thin film members, having thickness variations from individual to individual.例文帳に追加

個々間で厚さにばらつきのある薄膜部材のパターンマッチングを安定して行うことができる画像認識装置及び画像認識方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A resist pattern, having a thick film region and a region with film thickness smaller than that of the thick film region is formed on the metal film, by using an exposure mask having a semitransparent section.例文帳に追加

金属膜上に半透部を有する露光マスクを用いて、膜厚の厚い領域と該領域よりも膜厚が薄い領域とを有するレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To ensure high sensitivity and an excellent pattern shape even in the case of a high dye content or a large film thickness.例文帳に追加

色素含有量が高い、あるいは膜厚が厚くとも、高感度で、且つパタ−ン形状が優れた感光性着色組成物、およびそれを用いたカラーフィルタの提供。 - 特許庁

And, thickness A of the mesh part 2 is set to 1 through 30 μm, and a depth B of a reentrant part 5 which has a plane form corresponding to a printing pattern form is set to 1 through 30 μm.例文帳に追加

また、メッシュ部２の厚みＡを１〜３０μmとし、印刷パターン形状に対応する平面形状を有する凹部５の深さＢを１〜３０μmとする。 - 特許庁

The thickness of the second insulating layer pattern to be used for wire patterning is reduced to the minimum and the filling margin of the gap between wires is increased.例文帳に追加

配線パターニングに使用される第２絶縁層パターンの厚さを最小限に縮めることができて配線と配線との間のギャップ埋立てマージンを増加させることができる。 - 特許庁

Two soldering portions 6 are so provided respectively in a conductor pattern 3, formed on an insulation board 2 as to attach thereto the two terminal portions of a copper plate 5 having a predetermined thickness by soldering.例文帳に追加

絶縁基板２上に形成された導体パターン３に半田付け部６を設け、所定の厚さを有する銅板５の両端部を半田付けにより取り付ける。 - 特許庁

Furthermore, since color filters of adjacent colors are separated by the color separating layer, highly accurate pattern can be formed without the risk of color mixture reduction in thickness.例文帳に追加

また、フィルタ分離層によって隣接する色のカラーフィルタが分離されているため、薄型化に際しても混色のおそれもなく高精度のパターン形成が可能となる。 - 特許庁

To provide a substrate for formation of a pattern film which permits equalization of the film thickness, its manufacturing method and an electro-optical device and electronic instrument using it.例文帳に追加

膜厚を均一化することができるパターン膜形成基板及びパターン膜形成基板の製造方法、並びに電気光学装置及び電子機器を提供する。 - 特許庁

To accurately measure the film thickness of a printed pattern, etc. on a surface of a glass substrate for a plasma display panel, and the resistance value of an electrode in a stable state using a single device.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の表面の印刷パターン等の膜厚と電極の抵抗値とを、安定した状態で正確に、一つの装置で測定する。 - 特許庁

An electroless plated high- concentration Ni-P film 30, which contains phosphorus at a rate of 7-12 wt.%, has a thickness of 3-10 μm, and covers a prescribed portion of the pattern 12 is provided.例文帳に追加

7〜１２重量％の濃度でリンを含有し、３〜１０μｍの膜厚でパターン１２の所定部分を覆う無電界高濃度Ｎｉ−Ｐメッキ膜３０を設ける。 - 特許庁

To provide a structure of a screen mask for allowing a thick printing film thickness and smoothness compatible in a thick coating screen printing of a solid pattern, and to provide a method for printing.例文帳に追加

この発明は、べたパターンの厚塗りスクリーン印刷において、厚い印刷膜厚と平滑性を両立させるためのスクリーンマスクの構造と印刷方法を提供する。 - 特許庁

To provide a colored radiation-sensitive composition capable of forming a coloring pattern which shows excellent film thickness uniformity, has excellent heat resistance, and reduces color migration and color unevenness.例文帳に追加

優れた膜厚均一性を示し、耐熱性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent a flaw from being generated in a pattern formed with a photo sensitive paste layer with small transmittance or a photosensitive paste layer having large thickness by a photolithography method.例文帳に追加

フォトリソグラフィ法によって透過性が小さい感光性ペースト層または膜厚の厚い感光性ペースト層などによって形成されたパターンに不備が発生するのを防止する。 - 特許庁

To provide an exposure method which does not cause a focus error for the amount of the thickness of a lower pattern, without necessity to consider the relation between the layout of the lower sensor and the position of a focus sensor.例文帳に追加

下層パターンのレイアウトとフォ−カスセンサ位置の関係を考慮する必要なく，下層パターンの膜厚分の焦点誤差を生じない露光方法を提供すること。 - 特許庁

First magnetic cores 9, whose thickness is substantially the same or slightly smaller than that of the coil pattern 6, are arranged at the central part on the front and rear surfaces thereof, while the cores are disposed with the insulation base material 5 being pinched.例文帳に追加

表裏面のコイルパターン６の中央部に、コイルパターン６の厚さとほぼ同じかあるいはやや薄い第１の磁性コア９を絶縁基材５を挟んで配置する。 - 特許庁

Then, the resist 42 is applied over the aluminum film 41 with a uniform thickness and is exposed to light and is developed to form a resist pattern 43 partially exposing the aluminum film 41.例文帳に追加

その後アルミ膜４１上に一様な厚さにレジスト４２を塗布し、露光及び現像して、アルミ膜４１を部分的に露呈するレジストパターン４３を形成する。 - 特許庁

To form a device pattern of uniform thickness on a substrate while reducing the production process and production cost in a device patterning method employing a liquid ejection head.例文帳に追加

液体吐出ヘッドを用いたデバイスパターン形成方法において、製造工程および製造コストを抑えつつ、基板上に均一な膜厚のデバイスパターンを形成可能にする。 - 特許庁

The laser beam is controlled with a digital micromirror device, and a pattern, with layer thickness values that are different between a reflective display section and a transmissive display section, is formed by controlling irradiation on the coloring resin layer.例文帳に追加

レーザー光はデジタル・マイクロミラー・デバイスにより制御され、着色樹脂層への照射量を調節して異なる膜厚を有するパターンを形成すること。 - 特許庁

To provide a processing method for a positive type photosensitive resin composition in which the film thickness of the unexposed part is not reduced even in thick film processing and a high sensitivity pattern is obtained.例文帳に追加

厚膜加工においても未露光部の膜減りがなく高感度のパターンを得ることができるポジ型感光性樹脂組成物の加工方法を提供する。 - 特許庁

A pattern detection electrode 15 comprising mutually facing comb-shaped detection electrodes 2 of thickness 1-100 μm is formed on an insulation substrate 1 made of a glass epoxy resin.例文帳に追加

ガラスエポキシ樹脂性の絶縁基板１上に、厚さ１〜１００μｍの互いに対向する櫛形の検出電極２,２からなるパターン検出電極１５を形成する。 - 特許庁

Variations in the thickness of the circuit pattern are averaged out, by preventing the locations of the nozzles of the head part 100b in the formation of a plurality of layers of circuit patterns from superimposing.例文帳に追加

複数層の回路パターンを形成するときのヘッド部１００ｂのノズル位置が重ならないようにすることで、回路パターンの厚みのばらつきを平均化する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a magnetic head suspension capable of uniformizing the thickness of a metallic plating layer within each prescribed area in forming a wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンの形成の際に金属めっき層の厚みを所定の各領域内で均一にすることができる磁気ヘッドサスペンションの製造方法を提供することである。 - 特許庁

By this resist pattern forming work, fine patterns 130 shallower than the thickness of a resist film are formed near the edge sections of the patterns 110 and 120.例文帳に追加

このレジストパターン形成作業において、レジストパターン１１０、１２０のエッジ部近傍にレジスト膜の膜厚に対して浅い深さを有する微細パターン１３０を形成する。 - 特許庁

To produce a decorative sheet in which the outline of the pattern of a metal film is sharp even when a water insoluble coating material is applied in an increased thickness in order to prevent whitening caused by the corrosion of the metal film.例文帳に追加

金属膜腐食による白化を防ぐために水不溶性塗料を厚くした場合でも金属膜の柄の輪郭がシャープな加飾シートを製造する。 - 特許庁

To provide a multiple pattern wiring board which is reduced in the variation of thickness of a plating layer deposited on interconnection conductors by electrolytic plating method, and to provide an electronic device.例文帳に追加

電解めっき法によって配線導体に被着されためっき層の厚みばらつきを低減した多数個取り配線基板および電子装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for fabricating an electronic device in which the profile and the film thickness of a micro pattern can be controlled with high precision through a simple process while suppressing damage on the device.例文帳に追加

簡単なプロセスで、かつデバイスへのダメージも少なく、微細化されたパターンの形状および膜厚を高精度に制御できる電子装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The heating device provided with a heating plate 23 and the protecting layer 34 formed at least at one face of the heating plate 23, is further provided with a film thickness measurement pattern 35 for measuring the film thickness of the protecting film 34.例文帳に追加

加熱板２３と、該加熱板２３の少なくとも一面に形成された保護層３４を有する加熱装置において、前記保護層３４の膜厚を測定する為の膜厚測定用パターン３５を有していることを特徴とする加熱装置。 - 特許庁

To provide a method for producing a mask blank for obtaining uniformity of desired film thickness in a plane of a resist film (≤100 Å) in a prescribed critical area, even when the critical area (substantial pattern forming area) for uniformity of film thickness in a plane of a resist film is enlarged.例文帳に追加

レジスト膜の面内膜厚均一性の保証エリア（実パターン形成領域）が拡大されても、所定の保証エリアで所望のレジスト膜の面内膜厚均一性（１００Å以下）を得るマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

An element structure 4 to be measured having the same pattern as that of a structure 2 being the object of the management, of the film thickness of the residual film of an inter-layer insulating film in a chip 1 and optical film thickness measuring patterns 5 and 6 are arranged in a scribe line 3 outside the chip 1 as a pair.例文帳に追加

チップ１内の層間絶縁膜の残膜の膜厚を管理する対象となる構造２と同じパターンの被測定対象素子構造４と、光学式膜厚測定パターン５，６とを１組にして、チップ１外のスクライブライン３に設ける。 - 特許庁

To provide a sewing machine with a bobbin thread requirement operating function capable of predicting the bobbin thread requirement necessary for sewing a pattern not only on the basis of the number of stitches but also under the considera tion of various conditions such as a thickness of a thread, and the thickness and stiffness of a sewing material.例文帳に追加

模様を縫うのに必要な下糸必要量を針数ばかりでなく、糸の太さ、被縫製物の厚み、固さ等の諸条件を考慮に入れて予測することができる下糸必要量演算機能を備えたミシンを提供すること。 - 特許庁

To protect wiring by an alloy film by forming the alloy film with a necessary minimum thickness to have the diffusion preventing effect against e.g. oxygen or copper in more uniform thickness all over the substrate while alleviating the dependency on a wiring pattern.例文帳に追加

例えば酸素や銅に対する拡散防止効果を有する必要最小限の膜厚の合金膜を、配線パターンへの依存性を軽減しつつ、基板の全域に亘ってより均一な膜厚で形成した合金膜で配線を保護する。 - 特許庁

Then the resist pattern 8 is removed, followed by the entire silicon nitride film 7 and the silicon oxide film 6 of about 0.2 nm or smaller in thickness are removed, and the semiconductor substrate 1 is treated by thermal oxidation to form gate insulating films which are different in thickness.例文帳に追加

この後、レジストパターン８を除去し、続いて窒化シリコン膜７の全てと約０. ２ｎｍ以下の厚さの酸化シリコン膜６とを除去し、次いで熱酸化処理を半導体基板１に施すことによって、厚さの異なるゲート絶縁膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank for obtaining uniformity of desired film thickness in a plane of a resist film (≤100Å) in a predetermined critical area, even when the critical area (substantial pattern forming area) for uniformity of film thickness in a plane of a resist film is enlarged.例文帳に追加

レジスト膜の面内膜厚均一性の保証エリア（実パターン形成領域）が拡大されても、所定の保証エリアで所望のレジスト膜の面内膜厚均一性（１００Å以下）を得るマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁