「thickness pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The thickness between an uneven pattern-forming surface 6 with the uneven pattern 5 formed and its back face 7 is formed to reduce gradually toward an outside edge part Po in an outside edge region Ao.例文帳に追加

凹凸パターン５が形成された凹凸パターン形成面６とその裏面７との間の厚みが外縁領域Ａｏにおいて外縁部Ｐｏ側ほど徐々に薄くなるように形成されている。 - 特許庁

The substrate 14 and the ejection head 33 move relatively in two orthogonal directions to form a pattern, and ejection is controlled such that the thickness of the pattern becomes larger than the surface roughness of the patterning surface.例文帳に追加

基板１４と噴射ヘッド３３は直交する２方向に相対移動してパターンを形成し、パターンの厚さをそのパターンが形成される面の表面粗さ以上の厚さとなるべく噴射制御する。 - 特許庁

A projected light pattern generating circuit 2 generates a projected light pattern, in which the size of dot, length and thickness of line, position and density are irregular, by using a uniform random number or a regular random number and supplies the same to a projector 3.例文帳に追加

投光パターン生成回路２は、一様乱数や正規乱数を用い、ドットのサイズ、線の長さや太さ、位置、濃度等が不規則な投光パターンを生成して投光器３に供給する。 - 特許庁

By this setup, the line width of the resist pattern is predicted by the use of the above function models, a feed forward control can be realized, and the line width of the resist pattern and the thickness of the resist film can be controlled with high accuracy.例文帳に追加

これにより、上記関数モデルによって、例えば線幅を予測することによりフィードフォワード制御が可能となり、精密な線幅制御及びレジスト膜厚制御を行うことができる。 - 特許庁

This molded article is a thermoplastic resin molded article with a thickness of 1-8 mm and has 1-15% interstices and an irregular flow pattern (a fractal pattern) is formed on the molded article by the interstices.例文帳に追加

厚みが１〜８ｍｍの熱可塑性樹脂成形品であって、１〜１５％の空隙を有し、該空隙により成形品に不規則流動模様（フラクタル模様）が形成されている模様を有する成形品。 - 特許庁

A liquid crystal panel 80 which adjusts transmittance in accordance with a region of the hologram pattern 33 is disposed on a part besides the region of the hologram pattern 33 among the one surface part in the thickness direction of a substrate 31.例文帳に追加

基板３１の厚み方向一表面部のうち、ホログラムパターン３３の領域を除く部分には、ホログラムパターン３３の領域に応じた透過率を調整する液晶パネル８０が設けられる。 - 特許庁

To provide a method for forming a masking pattern by which the fine masking pattern of high precision can be formed even when a photoresist film formed on a substrate surface has thickness of >15 μm.例文帳に追加

基板の表面に形成したフォトレジスト膜の厚みが１５μｍを超えるような厚膜であっても、微細で高精細なマスキングパターンを形成することができるマスキングパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The flexible connector 7 includes a metallic pattern 33 formed on one surface 41 of an insulating film 21 in opposition to the second terminal part 31 and having the same thickness as that of a first metallic wiring pattern 23.例文帳に追加

フレキシブルコネクタ７は、絶縁性フィルム２１の一方の面４１に第２の端子部３１と対向して形成され、第１の金属配線パターン２３と厚みが同じである金属パターン３３を含む。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high exposure sensitivity even in a large film thickness, ensuring a good pattern shape and excellent in heat resistance, a method for producing a pattern and electronic parts having high reliability.例文帳に追加

本発明は、厚い膜厚でも露光感度が高く、パターンの形状も良好な、耐熱性に優れるポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern design method for easily and rapidly designing a mask pattern free from a dimensional error caused by a difference of a resist film thickness due to the level difference part of a base layer.例文帳に追加

下地層の段差部によって生じるレジスト膜厚の相違が原因となる寸法誤差を解消したマスクパターンを容易にかつ迅速に設計することが可能なマスクパターンの設計方法を提供する。 - 特許庁

To form a high quality pattern with a high residual film ratio and a high contrast ratio, even if a mask substrate is composed of synthetic quartz with the thickness of 0.250 inch in forming a resist pattern with a chemically-amplified resist.例文帳に追加

化学増幅型レジストによるレジストパターン形成において、厚さ０．２５０インチの合成石英からなるマスク基板であっても、高い残膜率かつ高コントラストである、高品質なパターンを形成する。 - 特許庁

Since the first photoresist pattern 28 can be hardened by performing an ion- implanting process added to the first photoresist pattern 28, the thickness of the photoresist can be thinned.例文帳に追加

第１フォトレジストパターン２８にイオン注入工程を追加して第１フォトレジストパターン２８を硬化させることができるので、フォトレジストの塗布の厚さを従来の塗布の厚さより薄くすることができる。 - 特許庁

In the recording medium, information according to the state in a thickness direction of a convex-concave pattern of a thin film is recorded on a substrate by corona discharge on the substrate through a dielectric thin film having a convex-concave pattern on the surface.例文帳に追加

表面に凹凸を有する誘電体薄膜を通して基板にコロナ放電を行うことにより、基板に薄膜の凹凸の厚さ方向に応じた情報が記録される記録媒体である。 - 特許庁

In the permanent pattern forming method, a photosensitive composition is applied to the surface of a substrate so as to be a dry film thickness 1.2-3.0 times the hardened film thickness of a permanent pattern formed eventually on the substrate, which is dried to form a photosensitive layer, and is then exposed and developed.例文帳に追加

基材上に最終的に形成される永久パターンにおける硬化膜厚の１．２〜３．０倍の乾燥膜厚となるように前記基材の表面に感光性組成物を塗布し、乾燥して感光層を形成した後、露光し、現像する永久パターン形成方法である。 - 特許庁

Also, when the casing is in an extended state, the lower side circuit board 14 and the first ground pattern 15a are at non-opposed positions in the thickness direction of the casing, and the lower side circuit board 14 and the dividing position and the second ground pattern 15b are at opposed positions in the thickness direction of the casing.例文帳に追加

また、筐体が伸長状態にあるときに、下側回路基板１４と第１のグランドパターン１５ａとは、筐体の厚み方向において非対向位置にあり、下側回路基板１４と分断位置および第２のグランドパターン１５ｂとは、筐体の厚み方向において対向位置にある。 - 特許庁

A multilayer film made of a niobium oxide film with the film thickness of 5 nm and the refractive index of 2.30 and a silicon oxide film with the film thickness of 55 nm and the refractive index of 1.45 is formed on a lower layer side of the first light-transmitting electrode pattern 11 and the second light-transmitting electrode pattern 12.例文帳に追加

また、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の下層側には、膜厚が５ｎｍで屈折率が２．３０のニオブ酸化膜、および膜厚が５５ｎｍで屈折率が１．４５のシリコン酸化膜からなる多層膜が形成されている。 - 特許庁

A chip pattern and a pattern for measuring sensitivity are exposed on the resist (S1), the film thickness of a part on which the pattern for measuring sensitivity on the resist is exposed is measured (S2), and correction exposure is decided from the measured result and a resist film thickness and exposure table previously obtained (S3), then, correction exposure is performed with the correction exposure (S4).例文帳に追加

レジストにチップパターンおよび感度測定用パターンを露光し（Ｓ１）、次にレジストの感度測定用パターンが露光された部分の膜厚を測定し（Ｓ２）、次に上記測定結果と予め求めておいたレジスト膜厚・露光量テーブルとから補正露光量を決定し（Ｓ３）、次にこの補正露光量でもって補正露光を行う（Ｓ４）。 - 特許庁

The luminous layer is less in film thickness on the light pattern layer than at the circumference of the pattern layer, so the pattern layer is visible in a dark place by generating a difference in intensity of light emission by the difference in film thickness of the luminous layer and is hidden behind the luminous flux when no light is emitted the pattern layer is made invisible in a light place.例文帳に追加

明るい絵柄パターン層上に形成した蓄光層の膜厚が絵柄パターン層周囲の蓄光層の膜厚に比べて薄くすることで、暗い場所では蓄光層の膜厚の差により発光の強度に差を生じさせて絵柄パターン層を視認でき、かつ非発光時は蓄光層が絵柄パターン層を隠蔽するように形成することで、明るい場所では絵柄パターン層が視認できないようにできる。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device attaining pattern inspection of high sensitivity by reducing an effect of brightness irregularity caused by the difference of film thickness, and applicable to a wide range of processes by actualizing various defects regarding the pattern inspection device comparing images in the corresponding areas of two patterns formed to be the same pattern and determining incoincident parts of the images as defects.例文帳に追加

本発明では、同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。 - 特許庁

Required shapes are, for example, an irregular pattern for scattering reflection light, a contact hole 25, a recessed part 27 for adjusting the thickness of the liquid crystal layer 12.例文帳に追加

必要な形状としては、反射光散乱用の凹凸パターンや、コンタクトホール２５や、液晶層１２の膜厚調整用の凹部２７等がある。 - 特許庁

The loop area of the loop antenna 10 is made increased by the thickness of the circuit board 2 at the part where the conductive pattern 3 is provided.例文帳に追加

導電性パターン３が設けられている部分の回路基板２の厚み分だけ、ループアンテナ１０のループ面積を大きくすることができる。 - 特許庁

A resist pattern having multi-step local thickness is formed on the interlayer insulating layer 45 using photomasks capable of halftone exposure.例文帳に追加

次に、局所的な厚みが多段階であるレジストパターンが、ハーフトーン露光が可能なフォトマスクを用いて、層間絶縁層４５上に形成される。 - 特許庁

The first loop pattern 10 is formed of square U shaped loop patterns 11 and 12 that are arranged at an intermediate position in the thickness direction of the multilayer substrate 5.例文帳に追加

第１のループパターン１０は、多層基板５の厚さ方向の中間位置に配置されたコ字形ループパターン１１，１２によって形成する。 - 特許庁

Thereby, not only the surface area of the inductor pattern but also the thickness of the inductor increases, and consequently the inductor having a high quality factor can be obtained.例文帳に追加

これにより、インダクターパターンの表面積増加だけではなく、インダクターの厚さも増加してハイクォリティーファクターのインダクターを得ることができる。 - 特許庁

To provide a printing press which enables the exact regulation a supply of an application liquid and transfer of a pattern having a necessary film thickness.例文帳に追加

塗布液の供給量を正確に調整することができ、必要な膜厚を持ったパターンの転写が可能な印刷装置を提供すること。 - 特許庁

The through-holes 5 constituting the through-hole pattern 4 are formed by cutting off a part of the body part 3 by a cutter knife or the like in the thickness direction.例文帳に追加

貫通穴パターン４を構成する貫通穴５はカッターナイフ等で本体部３の一部が厚み方向に切り抜かれて形成される。 - 特許庁

To provide a method for correcting a pattern in a short period of time, with which the thickness of a correction fluid in a defective part can be uniformized.例文帳に追加

欠陥部における修正液の厚みを均一にすることが可能であり、修正時間が短いパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the thickness of an oxide film on the side face of a trench formed on a substrate, and inhibit etching on the edge in the upper portion of a pattern on the trench.例文帳に追加

基板に形成されたトレンチ側面の酸化膜を薄膜化し、且つトレンチ上のパターン上部の角がエッチングされることを抑制する。 - 特許庁

To enable to form easily a conductive film of a desired pattern with a uniform thickness throughout the effective surface of lens.例文帳に追加

レンズ有効面の全体に亘って所望のパターンの導電膜を均一な膜厚で容易に形成することができるようにすることを課題とする。 - 特許庁

To easily inspect the planar shifting of a green sheet substrate and the variation in the thickness of a conductive pattern after completion of assembling a ceramic laminated substrate.例文帳に追加

セラミック積層基板を組み立て完了後に、グリーンシート基板の平面的なズレ及び導電パターンの厚みのバラつきを簡単に検査する。 - 特許庁

To lower the resistance value of a circuit pattern conductor layer on a substrate in a power module, without increasing its film thickness or heaping up a conductor material.例文帳に追加

パワーモジュール内の基板上の回路パターン導体層の抵抗値を、その膜厚を増加させることや導体材料を盛ることなく削減する。 - 特許庁

To provide the forming method of resist pattern capable of maintaining the accuracy of layer thickness of a photo resist in high, without strictly controlling the amount of exposure.例文帳に追加

露光量を厳密に制御せずとも、フォトレジストの層厚精度を高く維持することのできるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

A light shielding film 2 of a segment corresponding to a reference pattern 4 is selectively etched to be made thinner in film thickness than the light shielding film 2 of another segment.例文帳に追加

基準パターン４に対応した部分の遮光膜２を選択的にエッチング加工して他の部分の遮光膜２よりも薄い膜厚にする。 - 特許庁

The height and size of the optical element can be determined arbitrarily within the range of the thickness of the thermally sprayed coating by selecting a structural pattern.例文帳に追加

溶射皮膜の厚みの範囲内で、構造パターンの選択によって、光学素子の高さや大きさを任意に決定することが可能である。 - 特許庁

To provide a liquid drop discharging device by which film thickness uniformity of a film pattern formed by discharging liquid drops is enhanced and to provide an electrooptical device.例文帳に追加

液滴を吐出して形成する膜パターンの膜厚均一性を向上させた液滴吐出装置、及び電気光学装置を提供する。 - 特許庁

By the print method, patterns are formed in two steps so as to form all of the lower pattern and the upper pattern perpendicular to the lower pattern in directions parallel to printing directions, which results in uniform thickness and patterns of the light shielding member and excellent reproducibility.例文帳に追加

本発明の印刷法によれば、下部パターン及びこれに対して垂直である上部パターンが全て印刷方向と平行な方向になるように、２回に分けてパターンを形成するので、遮光部材の厚さ及び模様が均一となり、再現性が優れている。 - 特許庁

When a false pattern is generated in pattern formation, since the transmittance of the organic film pattern can easily be varied by irradiation with light, fine adjustment of the quantity of phase shift can easily be performed by varying the transmittance without varying the film thickness.例文帳に追加

そしてパターン形成に際して、疑似パターンが発生する場合は、光照射によって容易に透過率を変更可能であるため、膜厚を変更することなく、透過率を変更することにより、容易に、位相シフト量の微調整を行うことが可能となる。 - 特許庁

To solve such a problem that thickness distribution of a plated film generates in a flowing direction of a substrate, especially in edges on forming a wiring pattern 8, in an isolated pattern, and in a pattern of a small area, when electroplating a film substrate 4 having flexibility in a reel to reel system.例文帳に追加

可撓性を持つフィルム基材４にリールトゥリール方式で電気めっきを施す場合、基材の流れ方向のめっき膜厚ばらつき、特に配線パターン８形成時端、孤立したパターン、面積の小さいパターン等でにめっき膜厚ばらつきが発生する、 - 特許庁

A mounting part insulating member (A) between the mounting wiring pattern 11a and the opposite wiring pattern 11b in the insulating member 12 is composed so that the glass cloth 12a is arranged deviatedly to the counter wiring pattern 11b side in a thickness direction of the circuit board 10.例文帳に追加

そして、絶縁部材１２における実装配線パターン１１ａと対向配線パターン１１ｂとの間の実装部絶縁部材Ａは、回路基板１０の厚み方向において対向配線パターン１１ｂ側に偏った状態でガラスクロス１２ａが配置される。 - 特許庁

During the formation of the adjacent conductive and insulating patterns on the substrate, a step of forming the insulation pattern of at least a single scan is performed in the conductive pattern forming step that is performed two or more times until the conductive pattern reaches a predetermined thickness.例文帳に追加

基材上で隣接する、導電パターンと絶縁パターンとを形成する際に、導電パターンが所定の厚さになるまで前記複数回行われる導電パターン形成工程の間に、少なくとも１走査分の絶縁パターンを形成する工程を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a metallic pattern film, which inexpensively forms the metallic pattern film having a pattern of a thin film thickness and a narrow linewidth besides superior film characteristics.例文帳に追加

パターン状の金属パターン膜を安価に形成することができ、また膜特性に優れた金属パターン膜を形成することができ、さらには膜厚が薄く、ライン幅が狭いパターン状の金属パターン膜を形成することのできる、金属パターン膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

Particularly in the liquid crystal display device, the shading region 41 near the injection port 32 consists of a shading pattern SP made of a resin having specified thickness and a color filter 24 thinner than a specified thickness are two-dimensionally present as mixed.例文帳に追加

特に、この液晶表示装置において、注入口３２付近の遮光領域４１は所定厚の樹脂からなる遮光パターンＳＰと、所定厚より薄い色フィルタ２４とが平面的に見て混在している。 - 特許庁

Moreover, a photoresist pattern having T-shaped sectional plane is formed with lower and upper layer resist and ion etching of a thickness equal to the thickness of the laminated body of the lower dielectric material layer 2-the protective dielectric material layer 6 is performed onto the substrate 1.例文帳に追加

さらに、下層レジスト及び上層レジストで断面がＴ字型のフォトレジストパターンを形成し、下部誘電体層２〜保護誘電体層６の積層厚と等しい厚さだけ基板１にイオンエッチングを施す。 - 特許庁

Assuming a distance between the contact and the selection gate electrode 12 to be x, a deposition thickness of an ONO film t, and a deposition thickness of the polysilicon film d, the auxiliary pattern 22 may be disposed while separating by the distance x satisfying a relation: x<2×(t+d).例文帳に追加

選択ゲート電極１２との距離をｘ、ＯＮＯ膜の堆積厚さをｔ、ポリシリコン膜の堆積厚さをｄとおけば、ｘ＜２×（ｔ＋ｄ）となる距離ｘだけ離れて補助パターン２２を配置すればよい。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter with laminated photospacer capable of adjusting a film thickness of a ran-over part (extension pattern) and imparting a desired height to a laminated photospacer when allowing the film thickness of a colored pixel to take preference.例文帳に追加

着色画素の膜厚を優先した際に、乗り上げる部分（延長パターン）の膜厚の調整を可能とし、積層フォトスペーサーを所望の高さにする積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁