「thin- layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

The ultra-thin graphite layer is supported in terms of structure by a layer comprising at least one of a metal, a polymeric resin, ceramic, and a mixture thereof, which is disposed on at least one surface of the graphite layer.例文帳に追加

超薄グラファイト層は、金属、ポリマー樹脂、セラミック、及びこれらの混合物の少なくとも１つを含む層によって構造的に支持され、グラファイト層の少なくとも１つの表面上に配置される。 - 特許庁

A thin-film transistor is provided with a structure in which a semiconductor layer 13 and a gate insulating film 12 are stacked, the gate insulating film has a columnar constitution, and the columnar constitution is inclined for the layer thickness direction of the gate insulating layer.例文帳に追加

半導体層１３とゲート絶縁層１２とを積層した構造を備え、ゲート絶縁層は柱状組織を有し、柱状組織がゲート絶縁層の層厚方向に対して傾斜している。 - 特許庁

The surface of the elastic layer 41 is coated with a continuous or discontinuous thin coating layer 42, in which the coating layer 42 is made of polyamideimide resin having a glass transition temperature Tg of 200-300°C.例文帳に追加

そして、この弾性層４１の表面を連続あるいは不連続の薄い被覆層４２で被覆し、この被覆層４２を、ガラス転移温度Ｔｇが２００〜３５０℃のポリアミドイミド系樹脂とする。 - 特許庁

A front face substrate 2 of the image display device has a fluorescent screen 6 comprising a phosphor layer and a light-shielding layer 22 and a metal back layer 7 comprising a conductive thin film superposed on the fluorescent screen.例文帳に追加

画像表示装置の前面基板２は、蛍光体層および遮光層２２を含む蛍光面６と、蛍光面に重ねて設けられた導電性薄膜からなるメタルバック層７とを有している。 - 特許庁

In the structure of the field effect transistor, a heterojunction interface which consists of the GaN layer and the barrier is used as a channel, and the barrier which is contact with the channel is formed as the multilayer structure which consists of the thin AlN layer and the GaN layer.例文帳に追加

この電界効果型トランジスタの構造では、ＧａＮ層とバリアーからなるヘテロ接合界面をチャンネルとし、チャンネルに接するバリアーが薄いＡｌＮ層とＧａＮ層からなる多層構造とする。 - 特許庁

The laminated thin electric wiring board is equipped with a lower and an upper electric insulating layer formed on a substrate, and provided with an electric wiring layer interposed between the lower and upper electric insulating layer.例文帳に追加

本発明の積層薄膜電気配線板は、基板上に下部電気絶縁層と上部電気絶縁層を有し、下部電気絶縁層と上部電気絶縁層との間に電気配線層を有している。 - 特許庁

Moreover, this is the manufacturing method of the substrate with the transparent film which is equipped with a process of forming the first thin film layer composed of zinc oxide on the substrate by a magnetron sputtering method, and a process of forming the second thin film layer composed of indium oxide containing tin on the first thin film layer sequentially by a magnetron sputtering method.例文帳に追加

また、基板上に酸化亜鉛からなる第１の薄膜層をマグネトロンスパッタリング法により形成する工程と、該第１の薄膜層上にスズを含むインジウム酸化物からなる第２の薄膜層をマグネトロンスパッタリング法により形成する工程とを順に備えることを特徴とする透明導電膜付き基板の製造方法とした。 - 特許庁

To provide a two-layer structured substrate for a stencil mask with a thin film being an independent film having a function as an etching stopper layer to a supporting substrate and with the stress of the thin film adjusted, in a method for manufacturing a stencil mask using a substrate having the thin film being the etching stopper layer, and to provide the stencil mask and a method for exposing using it.例文帳に追加

エッチングストッパー層となる薄膜を持つ基板を用いたステンシルマスクの製造において、自立メンブレンとなる薄膜が支持基板に対するエッチングストッパー層としての機能を兼ね備え、さらにその薄膜の応力が調整された２層構造を有するステンシルマスク用基板、ステンシルマスク及びそれを用いた露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A linear pattern layer 3 formed of a water-soluble ink is provided on the insulating board 1, a molybdenum-containing metal thin film 4 is formed on the whole surface of the board 1, the metal thin film 4 located on the pattern layer 3 is removed together with the pattern layer 3 by rinsing, and the metal thin film 4 is partially, linearly removed.例文帳に追加

絶縁性を有する基板１上に水溶性インキからなる線状のパターン層３を形成した後、少なくともモリブデンを含む金属薄膜４を全面的に形成し、次いで水洗を行ってパターン層３とともにパターン層３の上に位置する金属薄膜４を除去し、金属薄膜４の一部を線状に除去する。 - 特許庁

In the substrate for flexible printed circuit having a metal thin film layer, principally comprising an alloy of nickel and chromium and a thin film layer of copper formed on a sheet-like substrate, composed of aromatic polyamide, surface roughness of the sheet-like substrate touching the metal thin-film layer is in the range of 0.0001<Ra<0.2 μm.例文帳に追加

芳香族ポリアミドからなるシート状基材上にニッケルとクロムからなる合金を主成分とする金属薄膜層、および銅の薄膜層を有するフレキシブルプリント回路用基板であって、該シート状基材の該金属薄膜層が接触している表面粗さが０．０００１＜Ｒa＜０．２μｍの範囲であるフレキシブルプリント回路用基板。 - 特許庁

By forming the release layer 3 from the fluororesin, the olefin resin or the polyvinyl alcohol resin which has an especially excellent release property among those resins which are provided with the release property, it is possible to prevent the thin metal layer 4 from being contaminated by remaining of a release resin and a solvent on the thin metal film side when the thin metal film layer 4 is released.例文帳に追加

離型性を備えた樹脂の中でも特に優れた離型性を備えたフッ素樹脂、オレフィン樹脂或いはポリビニルアルコール樹脂から離型層３を形成することにより、金属薄膜層４を剥離する際に金属薄膜側に離型樹脂や溶剤などが残って金属薄膜層４が汚染されるのを防ぐことができる。 - 特許庁

In the developing device where a developing thin layer member making a toner layer on a developing roller thin is arranged to be opposed to the developing roller from a bottom direction, and its outer peripheral surface is pressed on the developing roller, the developing thin layer member consists of sheet material 5 and is set so that its new surface is always pressed on the developing roller 1.例文帳に追加

現像ローラのトナー層の薄層化を図る現像薄層部材が現像ローラに下方向から対向するように配置され、その外周面が現像ローラに押し当てられている現像装置において、現像薄層部材がシート材５からなり、常にその新しい面が現像ローラ１に当たるようになっていることを特徴とする。 - 特許庁

In this manufacturing method, the base substrate 7 is arranged opposite the thin-film circuit layer 3 across the adhesive 5 and spacers 9 after the thin-film circuit layer 3 is formed on the the base substrate, and while the spacers 9 are sandwiched between the base substrate 7 and thin-film circuit layer 3, they are stuck together by hardening the adhesive 5.例文帳に追加

この薄膜回路基板は、製造基板上に薄膜回路層３を形成した後、薄膜回路層３に対して接着剤５およびスペーサ９を介して支持基板７を対向配置させ、支持基板７−薄膜回路層３間にスペーサ９を狭持させた状態で接着剤５を硬化させてこれらを貼り合わせることによって得られる。 - 特許庁

The substrate for flexible printed circuit is produced by providing a thin film layer of copper on a sheet-like substrate of aromatic polyamide film wherein a thin film layer principally comprising silicon oxide is interposed between the sheet-like substrate and the thin film layer of copper by sputtering and an underlying copper film is formed by sputtering.例文帳に追加

芳香族ポリアミドフィルムからなるシート状基材に銅の薄膜層を設けてなるフレキシブルプリント回路用基板であって、該シート状基材と該銅の薄膜層との間に酸化ケイ素を主成分とする薄膜層をスパッタリングにより介在せしめ、銅下地膜をスパッタリングで形成してなることを特徴とする、フレキシブルプリント回路用基板。 - 特許庁

The conductive thin film layer has a p-type organic semiconductor thin film containing a p-type semiconductor and an acceptor, and a n-type semiconductor thin film provided on the anode side with respect to the p-type organic semiconductor thin film while containing a N-type semiconductor and a donor such as alkaline metal or alkaline earth metal.例文帳に追加

導電体薄膜層は、Ｐ型半導体とアクセプタとを含むｐ型有機半導体薄膜と、ｐ型有機半導体薄膜よりも陽極側に設けられ、Ｎ型半導体と、アルカリ金属またはアルカリ土類金属などのドナーとを含むｎ型有機半導体薄膜とを有する。 - 特許庁

In the manufacturing method, the crystalline thermoplastic resin-made thin-walled molded article is arranged so that at least a part of the thin-walled portion overlaps the heat insulating layer, and the relative crystallinity of the thin-walled portion is ≤60% in the crystalline thermoplastic resin-made thin-walled molded article.例文帳に追加

この製造方法において、結晶性熱可塑性樹脂薄肉成形体は、少なくとも薄肉部分の一部が断熱層と重なるように配置し、結晶性熱可塑性樹脂薄肉成形体は、少なくとも薄肉部分の相対結晶化度が６０％以下のものを使用する。 - 特許庁

The laminated thin film 7 is formed of a plurality of hard thin films having a width T of blade corresponding to the film thickness and laminated in the direction of the width T of blade, and an intermediate layer 10 formed between the hard thin films 9 to keep the space between the hard thin films 9.例文帳に追加

積層薄膜７は、膜厚に相当する刃幅Ｔを有し、かつ、刃幅Ｔ方向において積層する複数の硬質薄膜９と、各硬質薄膜９間に形成されて硬質薄膜９間の間隔を維持する中間層１０とで構成されている。 - 特許庁

The thin-film single magnetic pole magnetic head 10 is formed by laminating on a substrate 1 a main magnetic pole 4 formed in a thin film form by a soft magnetic body, a coil 3 formed in a thin film form by a conductive body and an auxiliary yoke 5 formed in a thin film form by the soft magnetic body via an insulating layer 6.例文帳に追加

薄膜単磁極磁気ヘッド１０は、軟磁性体により薄膜状に形成された主磁極４、導電体により薄膜状に形成されたコイル３、および軟磁性体により薄膜状に形成された補助ヨーク５を、絶縁層６を介して、基板１上に積層して形成される。 - 特許庁

The method of manufacturing the thin film transistor mounting substrate includes in order the steps of: forming an amorphous oxide thin film 13 to become the active layer on or above the plastic substrate 10; patterning the amorphous oxide thin film 13; and Joule-heating the amorphous oxide thin film 13.例文帳に追加

プラスチック基板１０の上又はその上方に活性層となるアモルファス酸化物薄膜１３を形成する工程と、そのアモルファス酸化物薄膜１３をパターニングする工程と、そのアモルファス酸化物薄膜１３をジュール加熱する工程とをその順で少なくとも有する。 - 特許庁

To provide a thin-film magnetic head that can reduce blurring in reading on both sides of the free layer and stabilize the reproduced output, and a thin-film magnetic head assembly using the thin-film magnetic head, and a method of manufacturing a thin-film magnetic head.例文帳に追加

フリー層の両側領域における読みにじみを低減すると共に、再生出力を安定させることが可能な薄膜磁気ヘッド、当該薄膜磁気ヘッドを備える薄膜磁気ヘッド組立体及び記憶装置、並びに薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供すること。 - 特許庁

A thin film element substrate for transfer wherein the thin film element 13 is formed on a base substrate 11 via a stripping layer 12 is provided with an insulation layer 14 arranged on the thin film element 13 and formed with an opening 14a corresponding to a conductive section of the thin film element 13, and a conductive particulate layer composed of conductive particulates 15 and arranged in the opening 14a.例文帳に追加

薄膜素子１３が剥離層１２を介して基礎基板１１上に形成される転写用薄膜素子基板であって、上記薄膜素子１３上に配置されかつ上記薄膜素子１３の導電部に対応する開口部１４ａが形成される絶縁層１４と、上記開口部１４ａ内に配置されかつ導電性微粒子１５によって形成される導電性微粒子層とを有する。 - 特許庁

This thermal tranfer image receiving sheet includes a heat insulating base material sheet and an accepting layer formed on the base material sheet, wherein the accepting layer comprises a laminate of a resin thin film layer made of a resin material having a thin film workability and an image forming layer which is made of a dyeable resin and formed on the resin thin film layer.例文帳に追加

本発明は、断熱性を有する基材シートと、上記基材シート上に形成された受容層とを有する熱転写受像シートであって、上記受容層が、薄膜加工性を有する樹脂材料からなる樹脂製薄膜層と、上記樹脂製薄膜層上に形成され、染着性樹脂からなる画像形成層とが積層された構成を有することを特徴とする熱転写受像シートを提供することにより上記課題を解決するものである。 - 特許庁

A shading aluminum-vapor-deposited layer 3 is laminated on one side of a uniaxially or biaxially oriented polyethylene terephthalate film layer 1 through an anchor coat layer 2 for metal vapor deposition, the first polyethylene film layer 5 is laminated on the layer 1 through an anchor coat layer 4, and a thin paper layer 7 is laminated on the layer 3 through the second polyethylene film layer 6.例文帳に追加

一軸若しくは二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム層１の片面に金属蒸着用アンカーコート層２を介して遮光性アルミ蒸着層３が積層され、前記延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム層１上にアンカーコート層４を介して第１のエチレン系フィルム層５が積層され、前記遮光性アルミ蒸着層３上に第２のエチレン系フィルム層６を介して薄紙層７が積層されている。 - 特許庁

With the thin film EL element which has at least a laminated structure with a light-emitting layer and transparent electrode layer after an electrode layer having a pattern is formed on a substrate having electric insulation and then, a dielectric layer is formed into a multi-layer state by repeating a solution-coating burning method, a buffer layer is placed between the multi- layer dielectric layer and the electrode layer.例文帳に追加

電気絶縁性を有する基板上にパターンを有する電極層が形成され、さらに誘電体層が溶液塗布焼成法を複数回繰り返すことにより多層状に形成された後、発光層及び透明電極層が積層された構造を少なくとも有する薄膜ＥＬ素子であって、前記多層状誘電体層と前記電極層との間にバッファ層を備えた構造とする。 - 特許庁

A multilayer structure golf ball 13 comprises a core layer 20 of at least one layer, and a cover layer 30 of at least one layer including an outer layer 30b of an ionomer resin composition, between which core and cover layers is interposed a thin latex-cured layer 40a as a soft layer offering a soft shooting feeling.例文帳に追加

少なくとも１つの層からなるコア層２０と、少なくとも１つの層からなり、外層３０ｂがアイオノマー樹脂組成物からなるカバー層３０とを有する多層構造ゴルフボール１３においては、コア層２０とカバー層３０との間に、柔らかい打球感をもたらす軟質層である厚みの薄いラテックス硬化物層４０ａが介在されている。 - 特許庁

The resistance change layer 23 is made of metal oxide having the same metal base as that of a metal thin-film layer 22 formed on the surface of the lower electrode layer 20, and a storage element 27 is composed of the resistance change layer 23, a lower electrode layer 20a in an area connecting with the resistance change layer 23 and the upper electrode layer 25.例文帳に追加

この抵抗変化層２３は下部電極層２０の表面に形成された金属薄膜層２２と同じ金属母体を有する金属酸化物からなり、この抵抗変化層２３と、抵抗変化層２３に接続する領域の下部電極層２０ａおよび上部電極層２５とにより記憶素子２７を構成している。 - 特許庁

The method of peeling a layer to be peeled off comprises the steps of forming an oxide layer containing metal, forming a layer to be peeled off having thin-film transistors and the like on the oxide layer, and crystallizing the oxide layer by heat-treating the oxide layer, thereby giving rise to the formation of crystal strain or crystal defects in the crystallized oxide layer.例文帳に追加

金属を有する酸化物層を形成し、酸化物層上に薄膜トランジスタ等を有する被剥離層を形成し、酸化物層に対して加熱処理を行うことにより、酸化物層を結晶化し、結晶化された酸化物層に、結晶歪み、又は格子欠陥を生じさせることにより、被剥離層を剥がす方法である。 - 特許庁

Next, a groove for exposing the side surface of the solid phase mixed layer 12 is formed by partially etching the Si thin film 13 and the solid phase mixed layer 12, and a hollow part is formed between the Si substrate 1 and the Si thin film 13 by etching the solid phase mixed layer 12 through the groove.例文帳に追加

次に、Ｓｉ薄膜１３と固相混合層１２とを部分的にエッチングして、固相混合層１２の側面を露出させる溝を形成し、この溝を介して固相混合層１２をエッチングすることによって、Ｓｉ基板１とＳｉ薄膜１３との間に空洞部を形成する。 - 特許庁

Thus, the occurrence of microcrystallization, defects or interface state, which may otherwise occur at an interface between the silicon substrate 10 and the amorphous silicon layer 30, is reduced because a thin layer of the silicon-oxide thin film 20 is provided between the silicon substrate 10 and the amorphous silicon layer 30.例文帳に追加

従って、シリコン基板１０とアモルファスシリコン層３０との間に薄層の酸化シリコン薄膜２０が設けられているため、シリコン基板１０とアモルファスシリコン層３０との界面において生じ得る微結晶化や欠陥あるいは界面準位の発生が低減される。 - 特許庁

The decorative sheet 10 for molding comprises a laminate obtained by laminating a metal thin film layer 13 composed of a low melting point metal or alloy on a base film 11, and a colored layer 12 is directly laminated on the base film 11 side of the metal thin film layer 13.例文帳に追加

低融点金属又は低融点合金からなる金属薄膜層１３が基材フィルム１１に積層された積層体からなる成形用加飾シート１０であって、金属薄膜層１３の基材フィルム１１側に直接有色樹脂層１２が積層されている。 - 特許庁

An embedded oxide layer 112 serving as a lower clad is provided on a substrate part 111, and a silicon thin line core 105 and an upper clad layer 106 formed so as to embed the silicon thin line core 105 are formed on an emission region on the embedded oxide layer 112, and thereby the light waveguide is constituted.例文帳に追加

基板部１１１の上には下部クラッドとなる埋め込み酸化層１１２が設けられ、埋め込み酸化膜１１２の上の発光領域には、シリコン細線コア１０５と、シリコン細線コア１０５を埋めるように形成された上部クラッド層１０６が形成され、光導波路が構成されている。 - 特許庁

A laminate molding apparatus successively repeats formation of a unit molding layer by forming a thin layer of a molding material based on data for molding and selectively curing of this thin layer, and performs molding of a three-dimensional article by laminating the unit molding layers repeatedly formed.例文帳に追加

積層造形装置は、造形用データに基づいた造形材料の薄層形成とこの薄層の選択的硬化による単位造形層の形成を順次繰り返し、この繰り返し形成の単位造形層の積層により立体物の造形をなすようになっている。 - 特許庁

The organic EL device 10 includes a positive electrode 12, a negative electrode 14 and an organic thin film layer 13 provided between the positive electrode 12 and the negative electrode 14, wherein the organic thin film layer 13 includes a light-emitting layer 16 including at least a first host, a second host and a dopant indicating light emission.例文帳に追加

陽極１２と、陰極１４と、陽極１２と陰極１４との間に設けられた有機薄膜層１３と、を備えた有機ＥＬ素子１０であって、有機薄膜層１３は、少なくとも第１のホストと、第２のホストと、発光を示すドーパントと、を含む発光層１６を備えている。 - 特許庁

In the thin-film solar cell provided with the transparent conductive layer having characteristic uneven surface originated from a depositing method and the photoelectric conversion layer on a transparent substrate at least, the manufacturing method of the thin-film solar cell treats the surface of the transparent conductive layer with a chemical containing a chelating agent.例文帳に追加

少なくとも、透光性基板上に堆積方法由来の固有の表面凹凸を持つ透明導電層、及び光電変換層を備えた薄膜太陽電池において、透明導電層表面をキレート剤を含有してなる薬液にて処理する薄膜太陽電池の製造方法。 - 特許庁

Moreover, the image display device 4 is an organic electric field lighting device including a 1st electrode formed on a substrate, a thin film layer including a light emitting layer formed on the 1st electrode and at least made of an organic compound and a 2nd electrode formed on the thin film layer.例文帳に追加

また、画像表示装置４が、基板上に形成された第一電極と、第一電極上に形成された少なくとも有機化合物からなる発光層を含む薄膜層と、薄膜層上に形成された第二電極とを含む有機電界発光装置であることを特徴とする電話機。 - 特許庁

An FD-SOI having a thin-film buried oxide film layer is used, a lower-layer semiconductor region of the thin-film buried oxide film layer serves as a back gate, and in a logic circuit block, a voltage of the back gate is controlled from outside the block for a logic circuit with a light load in accordance with block activation.例文帳に追加

薄膜埋め込み酸化膜層を持つＦＤ−ＳＯＩを使用し、薄膜埋め込み酸化膜層の下層半導体領域をバックゲートとし、論理回路ブロックにおいてブロック中の負荷の軽い論理回路にはバックゲートの電圧をブロック活性化に合わせてブロック外から制御する。 - 特許庁

To provide a method for forming a thin film in which adhesion of copper to a lower layer is improved without increasing a thickness of an adhesive layer so as to prevent copper from being diffused to the lower layer, and to provide metal wiring for a display panel, a thin film transistor display panel including the same, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

接着層の厚さを増加させることなく、銅の下部層との接着性が向上し、銅が下部層に拡散することを防止することができる薄膜形成方法、表示板用金属配線、及びこれを含む薄膜トランジスタ表示板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain infrared light emission with a wavelength of approximately 610 nm on which display fabrication is based by a perovskite type oxide thin film EL element which has a lower insulating layer, a light emitting layer, and an upper insulating layer formed of oxide perovskite thin films on a lower electrode and further has an upper electrode formed thereupon.例文帳に追加

下部電極上に、酸化物ぺロブスカイト薄膜からなる絶縁層／発光層／絶縁層を作製し、その上に上部電極が作製されたぺロブスカイト型酸化物薄膜EL素子によって、ディスプレイ作成の基礎となる波長610nm近傍の赤色発光を得ること。 - 特許庁

After a toner thin layer is formed by regulating the thickness of a toner layer on a surface of a toner carrier 134Y by a regulating member 136Y, reversely charged toner particles included in the toner thin layer are recovered to a surface of a reversely charged toner recovering member 138Y in a reversely charged toner recovery nip.例文帳に追加

トナー担持体１３４Ｙの表面上のトナー層の厚みを規制部材１３６Ｙで規制してトナー薄層を得た後、トナー薄層中に含まれる逆帯電トナー粒子を逆帯電トナー回収ニップで逆帯電トナー回収部材１３８Ｙの表面に回収する。 - 特許庁

This method for manufacturing the film mirror and the solar light reflecting mirror includes: sticking a reflecting layer thin film formed on a temporary support body by a wet process, on a base material; removing the temporary support body from the reflecting layer thin film; and forming the reflecting layer on the base material.例文帳に追加

仮支持体上に湿式プロセスにて形成した反射層薄膜を基材へ貼合せた後、該仮支持体を該反射層薄膜から除去することによって、該基材上に反射層を形成することを特徴とするフィルムミラーの製造方法及び太陽光反射用ミラー。 - 特許庁

The film laminate comprises a substrate film of a plastic material at least on one site of which a deposited thin film layer, an intermediate film layer obtained by heat-drying of a coating agent containing at least a water soluble polymer, and a deposited thin film layer of a lattice deficient metal oxide are laminated in this order.例文帳に追加

プラスチック材料からなる基材フィルムの少なくとも片面に、蒸着薄膜層と、少なくとも水溶性高分子を含むコーティング剤を塗布、加熱乾燥してなる中間被膜層と、格子欠陥のある金属酸化物からなる蒸着薄膜層とを少なくとも順次積層させる。 - 特許庁

In the process of forming a thin film having a different lattice constant on the substrate 1, the semiconductor containing Sb is first formed and a buffer layer to vary the lattice constant is formed as an overlay, which facilitates formation of a thin film having no crystal defect using the buffer layer that is thinner than a conventional layer.例文帳に追加

基板１上に格子定数の異なる薄膜を形成する際に、まずＳｂを含む半導体を形成し、その上層に格子定数を変化させるためのバッファ層を形成することで、従来に比べ薄いバッファ層で結晶欠陥のない薄膜形成が可能となる。 - 特許庁

In the operating state, when the thin plate 15a being the surface layer exposed in the processing chamber is contaminated by contaminants, the adhesion preventive member is removed, the surface layer thin plate 15a to which the contaminants are adhered is exfoliated, and the succeeding layer is exposed and re-mounted in the processing chamber.例文帳に追加

使用状態においては、処理室内で露呈状態となっている表層の薄板１５ａが汚染物によって汚染されたならば防着部材を取り外し、汚染物が付着した表層の薄板１５ａを剥離して次層を露呈させた後に処理室内に再装着する。 - 特許庁

The composite film comprises a base material film (1) made of a polyimide resin and the thin metal film layer (4), an anchor layer comprising metal fine particles (2) is placed between the base material film (1) and the thin metal film layer (4), and at least parts of the metal fine particles (2) are embedded in the base material film (1).例文帳に追加

ポリイミド樹脂からなる基材フィルム(1)と金属薄膜層(4)とを含む複合フィルムであって、基材フィルム(1)と金属薄膜層(4)との間に金属微粒子(2)を含むアンカー層を介在させ、金属微粒子(2)の少なくとも一部は基材フィルム(1)内に埋め込まれている。 - 特許庁

Each of the plurality of thin film transistors 20 for emission and the plurality of thin film transistors 30 for sensing and the photosensor 60 includes an oxide semiconductor layer 152, 153 and an oxide photoelectric conversion layer 156 that are made of the same material on the same layer, respectively.例文帳に追加

また、前記複数の発光用薄膜トランジスター２０及び前記複数のセンサー用薄膜トランジスター３０、そして前記フォトセンサー６０は、各々同一層に同一素材から形成された酸化物半導体層１５２，１５３及び酸化物光電変換層１５６を含む。 - 特許庁