「time pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(100ページ目) - Weblio英語例文検索

There are three widely held explanations regarding the origin of the name of Ichimatsu ningyo; the name came from Ichimatsu SANOGAWA, a kabuki actor in the mid- Edo period, who resembles the doll in its face, the name carries the connotation of the doll for kids whose prevailing name at that time was 'Ichimatsu,' and it was named so because it was sold with a checkered pattern costume. 例文帳に追加

市松人形の名前の由来としては、顔立ちが江戸時代中期の歌舞伎役者、佐野川市松に似ていたため市松人形と名付けられたと言う説、当時「市松」と言う子供が多かったので、子供の人形と言う意味合いで市松人形と呼ばれたと言う説、市松模様の衣装を着せて売られていたため、市松人形と名付けられたと言う説がある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In a maskless lithographic system having a space light modulator (SLM), the method of forming the gray scale comprises the processes of: forming a pattern by exposing the above-mentioned object with light; and forming the region of the gray scale level on the object, by modulating the exposure time of the object.例文帳に追加

空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁

In determining a capacity of the pole transformer, the form of contract and the number of low voltage customers needed are examined, a form of contract load pattern is extracted from the consumed electric power database, a total power is calculated in each time zone, and an increase in the consumed electric power from the past to the present is multiplied to calculate a capacity of the pole transformer.例文帳に追加

柱上変圧器の容量を求める場合は必要とする低圧需要家契約形態と軒数を調査し、上記の電力使用量データベースから契約形態負荷パターンを抽出し各時間帯に対し合計電力を算出し、過去から現在までの電力使用量の増加値を乗じることにより柱上変圧器の容量を算定する。 - 特許庁

To prevent the variation in developing pattern size near one end of a substrate and that near the other end due to a time difference in the feed of a developer, in a developing method using a developing apparatus for scanning a semiconductor substrate having an exposed photosensitive resin film with a rod-like developer jetting nozzle having a size corresponding to the diameter of the semiconductor substrate, in the still state of the substrate.例文帳に追加

露光された感光性樹脂膜を有する半導体基板を静止した状態で、この基板の直径に対応した大きさを有する棒状現像液吐出ノズルを走査させるようにした現像装置を用いる現像方法において、基板の一端付近と他端付近の現像パターン寸法が現像液供給の時間差でばらつくのを防止する。 - 特許庁

In order for the learner to perceive changing timing of a single sound interval, a timing stimulation indicating means 012 for indicating timing stimulation 013 which is generated by a timing stimulation generating means 011 and a voice indicating means 007 for indicating a voice data 005 are synchronized, from a segmentation pattern 009 which divides the voice data 005 into a plurality of single sound intervals on a time axis.例文帳に追加

単音区間の切り替わりのタイミングを学習者に知覚させるために、音声データ００５を時間軸上で複数の単音区間に分割するセグメンテーションパターン００９からタイミング刺激生成手段０１１によって生成されたタイミング刺激０１３を呈示するタイミング刺激呈示手段０１２と、音声データ００５を呈示する音声呈示手段００７とを同期させることを特徴とする。 - 特許庁

At the same time, the via electodes 15a existing at a first repeating pitch of a first repeating pattern of the electrodes 13a are pitch-converted through internal electrodes 13b (a first and a second electrode layer for conducting) and conducted to via electrodes 15b (a first and a second via electrode for conducting) formed at a second repeating pitch scattered on the rear surface of the capacitor.例文帳に追加

その一方、内部電極１３ａの第１繰り返しパターンの第１繰り返しピッチで存在するビア電極１５ａは、第２繰り返しパターンで形成された内部電極１３ｂ（第１、第２の通電用電極層）を介してピッチ変換され、コンデンサ裏面において点在するような第２繰り返しピッチで形成されたビア電極１５ｂ（第１、第２の通電用ビア電極）と導通されている。 - 特許庁

A focus adjusting condition of each place in a scanning region at the time of scanning a charged particle beam to a sample forming in a semiconductor manufacturing process is calculated beforehand, the calculated focus adjusting condition is selectively applied to a pattern formed under the same manufacturing condition as the sample with the focus adjusting condition calculated, and a device carrying out charged particle beam scanning is provided.例文帳に追加

半導体製造工程中に形成される試料に対し、荷電粒子線を走査する際の走査領域内の各個所の焦点調整条件を予め求めておき、当該求められた焦点調整条件を、前記焦点調整条件を求めた試料と同じ製造条件にて形成されたパターンに選択的に適用して、前記荷電粒子線走査を行う装置を提案する。 - 特許庁

To provide a removing agent for photoresist with which a photoresist film applied on a substrate, a photoresist layer remaining after etching the photoresist film applied on a substrate, or a photoresist residue remaining after etching and ashing the photoresist layer can be easily removed at a low temperature in a short time while various kinds of materials can be microprocessed without corroding at all, and a circuit wiring pattern with high accuracy can be manufactured.例文帳に追加

基板上に塗布されたフォトレジスト膜、または基板上に塗布されたフォトレジスト膜をエッチング後に残存するフォトレジスト層、あるいはフォトレジスト層をエッチング後にアッシングを行い残存するフォトレジスト残査物等を低温でかつ短時間で容易に剥離でき、その際種々の材料を全く腐食せずに微細加工が可能であり、高精度の回路配線を製造できるフォトレジスト剥離剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a thermal printer, a conduction control method and an information recording medium arranged such that the conduction timing and the conduction driving time of a plurality of heating elements constituting a logic block can be controlled by previously determining a pattern for dividing a plurality of heating elements constituting a physical block into simultaneously conductible logical blocks based on one or a plurality of physical block data of one dot line data.例文帳に追加

１ドットラインデータの１個または複数個の物理ブロックデータに基づいて、物理ブロックを構成する複数個の発熱素子に同時通電可能な論理ブロックに分割した分割パターンを予め決定することによって、論理ブロックを構成する複数個の発熱素子への通電タイミングおよび通電駆動時間を制御することを特徴とするラインサーマルプリンタ、通電制御方法および情報記録媒体を提供する。 - 特許庁

The semiconductor device manufacturing method comprises a process for forming a photosensitive film by applying a solution of a photosensitive material, a process for baking the photosensitive film, a process for determining an exposure condition by using time from the baking of the photosensitive film up to the exposure of the photosensitive film, and a process for exposing the photosensitive film with a pattern under the determined exposure condition.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、感光性材料の溶液を塗布することにより感光性膜を形成する工程と、前記感光性膜をベークする工程と、前記感光性膜をベークしてから前記感光性膜を露光するまでの時間を用いて、露光条件を定める工程と、前記定められた露光条件で、前記感光性膜にパターンを露光する工程とを具備する。 - 特許庁

When the plurality of light emitting elements are driven in time series as the light emission pattern of information to be displayed is decided according to the shake speed detected by an acceleration sensor 12, while the plurality of light emitting elements configuring a light emitting unit 10 are arranged in a diagonal line, a control unit 1 changes the ways of driving according to a shaking state detected by the acceleration sensor 12.例文帳に追加

制御部１は、発光部１０を構成する複数の発光素子が斜め一列に配置されている状態で、加速度センサ１２によって検出された振る速度に合わせて表示対象情報の発光パターンを切り出しながら複数の発光素子を時系列に駆動させる際に、加速度センサ１２によって検出された振りの状態に応じてその切り出し駆動の仕方を変更する。 - 特許庁

About each of template candidates, actual position measurement processing is carried out to evaluate a processing time, a template analysis is done to evaluate an amount of positioning information associated with position measurement accuracy, robustness to a noise is evaluated based on a position measurement result for a pattern to which a random noise is added, and a weighted mean value of these evaluations is worked out to find an overall evaluated value.例文帳に追加

テンプレート候補の各々について、実際に位置計測処理を行うことにより処理時間の評価を行い、テンプレートを解析することにより位置計測精度に関わる位置決め情報量の評価を行い、ランダムノイズを加えたパターンに対する位置計測結果に基づいてノイズに対するロバスト性の評価を行い、これらの各評価の重み付け平均値を求めることにより総合評価値を求める。 - 特許庁

The number of conventional dual damascene process steps is reduced by using an organic insulating material which is photosensitive to electron beam irradiation as an interlayer insulating film, performing pattern exposure corresponding to via holes and wiring grooves in two steps of electron beam irradiation conditions and then performing development at the same time for forming necessary via holes and wiring grooves, and Cu of low resistivity is used as a wiring material.例文帳に追加

層間絶縁膜として、電子線照射に感光する有機絶縁材料を用い、電子線照射条件を２段階で行うことによりビアホールと配線溝に相当するパターン露光をし、その後同時に現像を行い必要なビアホールと配線溝を形成することで、従来のデュアルダマシン工程の工程数を削減するとともに、配線材料として比抵抗の小さいＣｕを用いる。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing technique which dispenses with the data conversion matched with the respective processes required heretofore, capable of easily selecting the effective data utilizable in the respective processes from possessed data by collectively controlling the possessed data, performs correction of photographic recipe on the basis of time series data, even when there are temporal fluctuations in the shape of a forming pattern and can form a stably measurable photographic recipe.例文帳に追加

従来必要であった各工程に合わせたデータ変換を不要とし、また保有データを一括管理して、各工程に利用することが有効なデータを保有データから容易に選択することができ、また、形成パターンの形状に時間変動があった場合にも、時系列データをもとに撮像レシピの修正を行い、安定な計測が可能な撮像レシピを生成することができる半導体製造技術を提供する。 - 特許庁

A controller stores in advance whether two dots constituting a dot pattern is printed at a continuous printing timing within a specified time with the same recording wire, and a corrected value for projection timing for correcting the projection timing of the recording wire associated with the temperature around a recording head, and corrects the projection timing of the recording wire based on the measured temperature around the recording head and printing data.例文帳に追加

コントローラは、同一の記録ワイヤにおいてドットパターンを構成する二つのドットが所定の時間内の連続した印字タイミングで印字されるか否かおよび記録ヘッド周辺の温度に対応づけて記録ワイヤの突出タイミングを補正するための突出タイミング補正値を予め記憶し、計測した記録ヘッド周辺の温度および印字データに基づいて記録ワイヤの突出タイミングを補正する。 - 特許庁

The electron beam exposure apparatus for exposing a desired pattern on a sample mounted on a wafer stage 124 with an electron beam generated from an electron gun 101 comprises a means 129 for injecting reducing gas into a column 100 containing the electron gun 101 and the wafer stage 124, and a control means 209 for sustaining injection of reducing gas into the column 100 for a predetermined time.例文帳に追加

電子銃１０１から発生させた電子ビームでウエハステージ１２４に載置した試料上に所望のパターンを露光する電子ビーム露光装置において、前記電子銃１０１及びウエハステージ１２４が収納されているコラム１００内に還元性ガスを注入する手段１２９と、前記コラム１００内に前記還元性ガスの注入を所定の時間継続して行わせる制御手段２０９とを有する。 - 特許庁

In this biological information authentication device, at least one wrong template storing a characteristic point of pattern information imaged under a condition unsuitable for biological authentication is provided, collation template information generated by extracting the characteristic point from the biological information and wrong template information are collated in time of registration of authentication information, and the collation template information is stored in an authenticating template when similarity is small.例文帳に追加

生体認証に不適当な条件で撮像したパターン情報の特徴点を記憶する少なくともひとつの不正テンプレートを設け、認証情報の登録時には、生体情報から特徴点を抽出して生成した照合テンプレート情報と前記不正テンプレート情報を照合して、類似度が小さいときに照合テンプレート情報を認証用テンプレートに記憶するようにした。 - 特許庁

The dielectric structure is formed on a pixel layer or electrode layer, the uneven dielectric coefficient distribution is formed by using a specific pattern of the dielectric layer structure to generate a lateral electric field quantity, and then lines of the electric force of a slit electrode lateral electric field on the substrate are changed to increase liquid crystal molecule tilting and also accelerate the pretilt and response time of liquid crystal molecules, thereby forming multiple domains.例文帳に追加

画素層或いは電極層の上に誘電層構造が形成され、この誘電層構造の特定パターンを利用し不均一な誘電係数分布を形成し、横向の電場分量を発生することにより、基板上のスリット電極横向き電場の電力線を改変し、液晶分子傾倒を増強し、液晶分子のプレティルトと応答時間を加速し、これによりマルチドメインを形成する。 - 特許庁

The image of a mask pattern is formed accurately on a substrate by determining correspondence between a scanning direction regulated on a first coordinate system for controlling movement of first stages 10, 11 holding a mask 12 and a scanning direction regulated on a second coordinate system for controlling movement of a second stage 4 holding a substrate 5 thereby enhancing alignment accuracy of the mask and the substrate at the time of scanning alignment.例文帳に追加

マスク（１２）を保持する第１ステージ（１０，１１）の移動を制御するための第１座標系で規定される走査方向と、基板（５）を保持する第２ステージ（４）の移動を制御するための第２座標系で規定される走査方向との対応関係を求めることによって、走査露光時のマスクと基板とのアライメント精度を向上させて、マスクのパターンの像を正確に基板上に形成する。 - 特許庁

In the sealing step of an IC chip 21 after connecting the IC chip 21 with a bump 22 to the wiring pattern of a circuit board 23 by the flip process, the preprocessing is performed by hole making in the circuit board 23 for filling a sealing resin 25 through the hole H1 thereby enabling the time for filling the entire gap between the IC chip 21 and the circuit board 23 to be cut down.例文帳に追加

バンプ２２付きのＩＣチップ２１と回路基板２３の配線パターンとをフリップ工法により接続した後にＩＣチップ２１を封止する工程において、あらかじめ回路基板２３に穴加工などの前処理を行うことで、その穴Ｈ１を通じて封止樹脂２５を充填して封止することにより、ＩＣチップ２１と回路基板２３とのスキマ全体に封止樹脂２５を満たす時間の短縮化を可能とする。 - 特許庁

From these analyses, however, which are based on aggregate values of existing statistics, it is difficult to know in detail how individual enterprises are linked to carry out transactions and how increasingly complex their transaction patterns have become, whether the pyramid-shaped vertical transaction relationship between enterprises that at one time was strong and robust still exists at present, and what sort of roles are being fulfilled by SMEs in the transaction pattern.例文帳に追加

しかしながら、これら既存統計の集計値による分析では、個々の企業がどのように結びついて取引を行い、その取引構造はどの程度複雑化しているのか、従来強固だったと言われる企業間のピラミッド的な垂直取引関係が現在も残っているのか、取引構造の中で中小企業がどのような役割を果たしているかについて、詳しく知ることは難しい。 - 経済産業省

The layer A and the layer B are laminated by a co-extrusion film-forming method and at the same time a surface of the layer A side is equipped with a design pattern formed by using an embossing roller as a casting roller.例文帳に追加

Ａ層：所定のＰＢＴ系樹脂および所定のポリエステル系樹脂からなる樹脂層、Ｂ層：所定のポリエステル系樹脂を主体としてなる樹脂層、Ｃ層：所定のポリエステル系樹脂を主体としてなる樹脂層、Ｄ層：所定のＰＢＴ系樹脂を含有してなる樹脂層、Ａ層とＢ層とを共押出し製膜法により積層すると同時に、キャスティングロールとしてエンボスロールを用いることにより形成された柄意匠をＡ層側表面に備えている。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which exhibits excellent uniformity in film thickness and has high radiation sensitivity even if a slit coating method is adopted as a coating method, and has such a development margin that a favorable pattern shape can be formed even if an optimal developing time has elapsed passed in a developing step, and an interlayer insulating film having various excellent performance such as high heat and solvent resistance, high transmittance and a low dielectric constant.例文帳に追加

塗布方法としてスリット塗布法を採用した場合であっても、優れた膜厚均一性を示し、且つ高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成しうる現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率、低誘電率等の諸性能に優れる層間絶縁膜を提供すること。 - 特許庁

To provide a film inserted resin molded product having visibility, unnecassry to limit a film to a transparent film, to provide an adhesive layer, a heat-resistant layer or the like on a pattern at the time of production and to limit the position or size of the gate of a mold and capable of simplifying a manufacturing method to reduce a manufacturing cost, and its manufacturing method.例文帳に追加

視認性が良好で、フィルムを透明性のあるものに限定する必要がなく、絵柄に用いるインクを耐熱性や密着性の高いものに限定する必要がなく、また製造時に絵柄上に接着層や耐熱層などを設ける必要がなく、金型のゲートの位置や大きさを限定する必要がなく、製造方法が簡単で製造コストを低く抑えられる、フィルムインサート樹脂成形品とその製造方法を提供する。 - 特許庁

An element decoder 50 comprises a control circuit 60 generating static information, i.e., conclusion position information CNFT, conclusion interval information CNFL, conclusion state information CNFD, puncture period information CNEL and puncture pattern information CNEP, and an interleaver for generating conclusion time information, conclusion state information, erase position information and interleaver non-output position information based on these information.例文帳に追加

要素復号器５０は、制御回路６０によって、静的な情報である終結位置情報ＣＮＦＴ、終結期間情報ＣＮＦＬ、終結ステート情報ＣＮＦＤ、パンクチャ周期情報ＣＮＥＬ、及び、パンクチャパターン情報ＣＮＥＰを生成し、これらの情報がインターリーバに対して入力されると、インターリーバによって、これらの情報に基づいて、終結時刻情報、終結ステート情報、消去位置情報、及び、インターリーバ無出力位置情報を生成する。 - 特許庁

Among SMEs, on the other hand, which make up for shortages of business resources through divisions of labor and business collaboration with local enterprises, the emphasis on "proximity to related enterprises" is certainly not falling and the role of industrial clusters in reducing invisible costs such as time and labor is as important as ever. There has thus been no decline in the basic pattern of clusters giving rise to clusters (Fig. 2-3-7).例文帳に追加

一方、経営資源の不足を、地域内企業間の分業体制や事業提携等で補っている中小企業について見ると、「関連企業への近接性」を重要視する度合いは決して低下しておらず、時間や手間などの目に見えないコストを削減するという産業集積の役割は依然として重要であり、集積が集積をもたらす基本的な構図は失われていないことが分かる（第2-3-7図）。 - 経済産業省

The method for forming the pattern data, which is dealable not only with wiring layers but with other processing layers, such as polysilicon layers, as well and does not require an enormous processing time, is provided in a data processing method for forming the drawing data used in this drawing method.例文帳に追加

フォトマスクのパタン密度を均一化する付加パタンを設けた、付加パタン付きフォトマスクの描画方法で、ポジレジストを用い、パタンデータの無い部分に電子ビームまたはレーザ光を照射して描画する、描画方式に適用できる描画方法を提供しようとするものであり、該描画方法に用いられる描画データを作成するためのデータ処理方法で、配線層だけでなくポリリシリコン層等他の処理層にも対応でき、多大な処理時間を必要としないパタンデータの作成方法を提供する。 - 特許庁

This game machine has the plurality of stop patterns as the demonstration display, and when a prescribed time elapses after the power application, selects a stop pattern indicating the setting value out of the plurality of stop pattern, in accordance with the setting value of the probability, and displays the demonstration on the symbol display device.例文帳に追加

電源が投入されてから所定時間が経過すると図柄表示装置２にデモ表示がされると共に、遊技が開始され始動条件が成立すると図柄表示装置の表示図柄が変動した後に停止し、その停止図柄が予め定められた特別態様であった場合に大当り等の遊技者に有利な特典が付与されるように構成され、かつ、前記停止図柄が前記特別態様となる確率の設定値を変更可能にする設定確率変更手段を備えた遊技機において、デモ表示として複数の停止パターンを備え、電源が投入されてから所定時間が経過すると上記確率の設定値に従い複数の停止パターンのうちから該設定値が示唆される１つの停止パターンが選択されて図柄表示装置にデモ表示されるようにする。 - 特許庁

Similarity or correction values over the entire part of the two different time series light signals are determined from the distribution pattern or integrated value thereof.例文帳に追加

非線形光学効果を発生する非線形媒質を含んだ光ファイバまたは光導波路の両端から２つの異なる時系列光信号を対向的に導入し、これらの２つの異なる時系列信号が光ファイバまたは光導波路内を伝播して中間で重なったときの光信号強度の変化に基づく非線形光学効果で各部分に生じる透過率の変化の分布状態を別の光で読み出して，その分布パターンあるいは積分値から２つの異なる時系列光信号全体の類似度あるいは相関値を求めるようにする。 - 特許庁

The seasons are: (1) as Ecchu fundoshi has the ultimate shape in its kind, the design has not changed for a long time, manufacturers can only make a difference in material, color or pattern; (2) as the most typical color for the fundoshi is white, there is extremely limited demand for other colors or patterns, and thus making a difference cannot be paid off; (3) since this is not so difficult to make, as they were made at home in the previous period, the price and profit rate should be low accordingly; and (4) it's hard to expect a large sale that can pay off the capital investment, as it's hard to expect a growing demand in comparison to other undergarments. 例文帳に追加

越中褌が究極の形状であることから、昔からデザインの変化がないことで、材質や色か柄でしか商品として差別化ができないこと、白色が定番の越中褌では色物や柄物では極端に需要が少なく採算に合わないこと、個人でも縫製できるものであるため、単価も安く利益率が低いこと、他の下着と比べて需要の伸びが大きく見込めず、設備投資に見合う大量販売が見込めないことなどである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

When the photosensor 55 is irradiated with light of more than specified brightness, the shutter 9 is opened and closed at a prescribed pattern for a prescribed time to light the electric bulb 13.例文帳に追加

合成樹脂製の外殻３と、吸盤５と、外殻３の前面に固定した半球突部７と、この半球突部７に設けた目玉模様７ａと、この目玉模様７ａを覆い隠した閉じ位置と目玉模様７ａを露出させた開き位置との間を移動する瞼様のシャッター９と、目玉模様７ａの後ろに配置した小型電球１３と、光センサー５５と、シャッター駆動機構１１を備え、光センサー５５に一定の明るさ以上の光が照射したとき、一定時間、所定のパターンでシャッター９を開閉させ且つ電球１３を点灯させる。 - 特許庁

At any time during the term of the industrial design registration, any person upon payment of the required fee, may petition the Director to cancel the industrial design on any of the following grounds: (a) that the industrial design does not give a special appearance to and can not serve as pattern for an industrial product or handicraft; (b) that the industrial design is not new or original; (c) that the industrial design is dictated essentially by technical or functional consideration to obtain a technical result; (d) that the industrial design is contrary to public order, health or morals; or (e) that the subject matter of the industrial design extends beyond the content of the application as originally filed.例文帳に追加

意匠登録の存続期間中，何人も，所定の手数料を納付して，次の何れかの理由に基づき，意匠の取消を局長に申請することができる。 (a)意匠が工業製品又は手工芸品に特別の外観を与えておらず，これらの模様として機能していないこと (b)意匠が新規又は独創的でないこと (c)意匠が技術的な結果を得るための本質的に技術的若しくは機能的考慮による特徴を主としていること (d)意匠が公の秩序，健康又は善良の風俗に反すること (e)意匠の内容が原出願の内容を超えていること - 特許庁