「"Lift Pin"」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a lift pin capable of stably supporting a wafer by neutralizing an accumulated electric charge without causing a bad influence on the wafer.例文帳に追加

蓄積した電荷をウェハに悪影響を与えることなく逃がして安定した支持ができるリフトピンを提供する。 - 特許庁

A chamber portion 24 forming a chamber covering a periphery of the lift pin 10 is annexed to the upper block 21.例文帳に追加

上部ブロック２１には、リフトピン１０の周囲を覆うチャンバーを形成するチャンバー部２４が付設されている。 - 特許庁

After a predetermined time, a residual charge is subjected to natural extinguishing, a lift pin 22 is then raised to release the wafer W.例文帳に追加

所定時間後、残留電荷を自然消滅させた後、リフトピン２２を上昇させ、ウェハＷを離脱させる。 - 特許庁

A lift pin 10 comprises a cylindrical pin body 13 and a pin tip piece 14, placed on the tip of the pin body 13.例文帳に追加

円柱状のピン本体１３と、このピン本体１３の先端に載せられたピン先端片１４とからリフトピン１０を構成した。 - 特許庁

The base board B takes a charge by exfoliation charge generated when a mother glass base board B pushed up by a lift pin 6 is separated from a stage S.例文帳に追加

リフトピン６により押し上られたマザーガラス基板ＢがステージＳから離間する際に生じる剥離帯電によって基板Ｂは帯電する。 - 特許庁

Arranging the head portion of the lift pin to block off the top end of the passage through the chuck prevents the reaction gas from flowing into the passage.例文帳に追加

リフトピンのヘッド部がチャックの通路上端を遮断することで、反応ガス通路内に流入されることが防止される。 - 特許庁

To suppress generation of micro irregularities on the main rear surface of a silicon epitaxial wafer, especially at a part of the rear surface facing the lift pin head part.例文帳に追加

シリコンエピタキシャルウェーハの主裏面、特に主裏面のリフトピン頭部に対向する部分に微小な凹凸が生じることを抑制する。 - 特許庁

To provide a lift pin mechanism capable of preventing a movable pin from coming into contact with the same position of a member to be treated by a simple structure.例文帳に追加

処理対象部材の同一箇所に可動ピンが接触することを簡単な構造で防止することができるリフトピン機構を提供する。 - 特許庁

Further, a time of contact between the substrate 20 and second lift pin 110b is relatively short, so a pin trace hardly appears on the substrate 20.例文帳に追加

また、基板２０と第２リフトピン１１０ｂとの接触時間は比較的短いため、基板２０にピン跡が出にくい。 - 特許庁

By sliding both or either one of the lift pin holding plates A, B, both the string-like elastic bodies are nipped by the pressure units from the outsides and the lift pin is nipped and held by the string-like elastic bodies.例文帳に追加

昇降ピン保持板Ａ及び昇降ピン保持板Ｂについて、その両方あるいはそのどちらかをスライド移動させることにより、前記圧迫子にて前記両紐状弾性体を外側から挟み込み、該紐状弾性体にて昇降ピンを挟み込んで保持する。 - 特許庁

A first lift pin 110a disposed at an outer peripheral edge or the like of the substrate 20 and a second lift pin 110b disposed in a practical-use area of the substrate 20 are provided as lift pins lifted by a single motor through a common support frame 120.例文帳に追加

共通の支持枠１２０を介して単一のモータで昇降するリフトピンとして、基板２０の外周縁などに配置される第１リフトピン１１０ａと、基板２０の実用領域に配置される第２リフトピン１１０ｂとを設ける。 - 特許庁

The working platform is fitted with the lift pin 20 in such a way that it is moved by an elevating/sinking mechanism into the condition protruding from the oversurface of its platform part 10 and the condition retracted from the oversurface, wherein the lift pin 20 is furnished at the tip with a rotor 21.例文帳に追加

昇降機構により台部１０の上面から突き出た状態と引っ込んだ状態になるようにリフトピン２０を組み込んだ作業台であって、リフトピン２０はその先端に回転体２１が組み込まれていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device with which weakening of an electromagnetic field is corrected (reinforced) in a part of a through-hole for lift pin without restricting a material type of the lift pin from a viewpoint of a conduction rate, and plasma treatment with sufficient in-plane uniformity can be performed on an object to be treated.例文帳に追加

本発明の課題は、リフトピンの材料種に導電率の観点からの制約を加えることなく、リフトピン用の挿通孔の部分で電磁界が弱化することを矯正（強化）し、その結果、被処理物に面内均一性のよいプラズマ処理ができるプラズマ処理装置を提供することである。 - 特許庁

When the epitaxial layer is formed on the surface of the wafer, the lift pins project upward from the upper surface of the bottom wall, and the height h of the vertex part 16d of each lift pin based on the upper surface of the bottom wall is set in a range from a position exceeding 0 mm to a position immediately before the lift pin contacts the wafer.例文帳に追加

エピタキシャル層をウェーハ表面に形成するときに、リフトピンが底壁上面より上方に突出し、底壁上面を基準とするリフトピンの頭頂部１６ｄの高さｈを０ｍｍを超えた位置からリフトピンのウェーハに接触する直前までの範囲に設定する。 - 特許庁

To obtain a substrate treating device capable of vacuum drying a resist without generating transfer, after the resist is applied on a substrate and solving the problem of the sealing of a lift pin and a problem that the position change of the lift pin is difficult.例文帳に追加

基板にレジスト塗布後に転写を生じることなくレジストを減圧乾燥させることができ、リフトピンのシールの問題、およびリフトピンの位置変更が困難である問題を解消することができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

This wafer holder has a wafer holding part (11) having a holding plane (14) for holding the wafer by utilizing a negative pressure, a lift pin (21) for delivering the wafer to the wafer holding part, and a movable part (31) provided around the lift pin to be lifted relative to the holding plane.例文帳に追加

本発明の基板保持装置は、負圧を利用して基板を保持する保持面（１４）を有する基板保持部（１１）と、該基板保持部に基板を受け渡すリフトピン（２１）と、該リフトピンの周りに設けられ、該保持面に対して相対的に昇降可能な可動部（３１）とを有することを特徴とする。 - 特許庁

In the vacuum processing apparatus having the substrate delivery chamber provided between two vacuum chambers, the substrate delivery chamber is equipped with a lift pin for supporting a substrate, a buffer arm where the substrate is temporarily placed, and a substrate stage on which the substrate is placed, and the lift pin is lifted and lowered in an oblique direction.例文帳に追加

２つの真空チャンバ間に設けられた基板受け渡しチャンバを有する真空処理装置において、前記基板受け渡しチャンバが、基板を支持するリフトピンと、基板を仮置きするバッファーアームと、基板を載置する基板ステージとを具備し、前記リフトピンが、斜め方向に昇降することを特徴とする。 - 特許庁

A substrate cleaning apparatus 10 includes: a holding plate 30 for holding a substrate W; a lift pin plate 20 arranged above the holding plate 30 and having a lift pin 22 for supporting the substrate W from the lower side; and a processing liquid supply unit 40 for supplying the processing liquid to the rear surface of the substrate W held by the holding plate 30.例文帳に追加

基板洗浄装置１０には、基板Ｗを保持する保持プレート３０と、保持プレート３０の上方に設けられ、基板Ｗを下方から支持するリフトピン２２を有するリフトピンプレート２０と、保持プレート３０により保持された基板Ｗの裏面に処理液を供給する処理液供給部４０とが設けられている。 - 特許庁

In the cooling method of glass substrate, the fall of a lift pin 23 is once stopped at a position where the glass substrate 60 approaches the cool plate 21, the fall of the lift pin 23 is resumed, when temperature of the glass substrate approaches the temperature of the cooling plate, the glass plate is placed on the cool plate and the close contact cooling performed by vacuum suction is continued.例文帳に追加

ガラス基板６０をクールプレート２１に接近させた位置でリフトピン２３の下降を一旦停止させ、ガラス基板の温度がクールプレートの温度に近づいた時点でリフトピンの下降を再開させ、ガラス基板をクールプレート上に載置し、真空吸着により密着させた冷却を継続して行う。 - 特許庁

A PEB unit (PEB) comprises a stage 31 for mounting a wafer on which a resist film is formed; a heater 35 for heating the stage 31 to a predetermined temperature; a lift pin 32 arranged through the stage 31; and a elevating device 33 for holding a tip position of the lift pin 32 for supporting the wafer W at an arbitrary height.例文帳に追加

ＰＥＢユニット（ＰＥＢ）は、レジスト膜が形成されたウエハＷを載置するステージ３１と、ステージ３１を所定温度に加熱するヒータ３５と、ステージ３１を貫通して配置されたリフトピン３２と、ウエハＷを支持するリフトピン３２の先端位置を任意の高さ位置で保持する昇降装置３３と、を具備する。 - 特許庁

A semiconductor processing apparatus comprises: a reactor; a susceptor arranged in the reactor for mounting a substrate, which has a through-hole in the axis line direction of the susceptor; a lift pin for lifting the substrate to the susceptor, which is arranged such that it slides in each through-hole; and means for reducing contact resistance between the lift pin and each through-hole.例文帳に追加

半導体処理装置は、反応チャンバと、基板を載置するための反応チャンバ内に配置されたサセプタであって、サセプタの軸線方向に貫通孔を有するところのサセプタと、サセプタに対して基板を持上げるための各貫通孔内でスライドするように配置されたリフトピンと、リフトピンと各貫通孔との間の接触抵抗を減少させるための手段とを含む。 - 特許庁

The wafer lift 106 includes a lift hoop 110 having keys, a lift pin that is essentially at a right angle to the hoop, and a bellows shaft 108 having keys.例文帳に追加

ウェハリフト１０６は、キー付きリフトフープ１１０、このフープに実質的に直角に方向付けされているリフトピン、及びキー付きベローズシャフト１０８を含む。 - 特許庁

The semiconductor device substrate 1 is elevated by the lift pin 5, and destaticizing is conducted efficiently by exposing the surface and rear of the semiconductor device substrate 1 to the helium gas 6.例文帳に追加

半導体装置基板１をリフトピン５にて上昇させ、半導体装置基板１の表面と裏面とをヘリウムガス６にさらすことによって、効率的に除電する。 - 特許庁

The semiconductor device substrate 1 is lifted from a stage 3 once by a lift pin 5 in the semiconductor device substrate 1 in destaticizing treatment, and a helium gas 6 as an inert gas is made to flow for several seconds while being exhausted.例文帳に追加

除電処理にて、半導体装置基板１を、リフトピン５にて、一旦、半導体装置基板１をステージ３から上昇させ、そこに不活性ガスであるヘリウムガス６を排気しながら数秒流す。 - 特許庁

To prevent resin from flowing, when a substrate coated with resin containing volatile solvent is prebaked with a heat plate having a lift pin.例文帳に追加

揮発性溶媒を含有する樹脂が塗布された基板をリフトピン付きの加熱プレートにてプリベークするにあたって、プリベーク時における樹脂の流動を防止する。 - 特許庁

The wafer W is lifted up above the stage 31 with the lift pin 32 so that the wafer W mounted on the stage 31 and heat processed is cooled approximately evenly all over.例文帳に追加

ステージ３１に載置されて加熱処理されたウエハＷがウエハ全体で略均一に冷却されるように、ウエハＷをリフトピン３２によってステージ３１の上方に持ち上げる。 - 特許庁

To detect sticking of a substrate in a reaction chamber for processing the substrate placed on a surface of a holding body for processing which includes a lift pin for elevating the substrate from the surface of the holding body for processing.例文帳に追加

処理用支持体であって、該処理用支持体の表面から基板を昇降させるためのリフトピンを含む処理用支持体の表面上に置かれた基板を加工する反応チャンバにおいて、基板の貼り付きの発生を検出する。 - 特許庁

The lift pin plate 20 has inclined surfaces 25a and 25b, and a tip of the inert gas supply unit 10 is disposed above the tip of the cleaning liquid supply unit 11.例文帳に追加

リフトピンプレート２０は傾斜面２５ａ，２５ｂを有し、不活性ガス供給部１０の先端が、洗浄液供給部１１の先端よりも高い位置に位置している。 - 特許庁

To provide a liquid processing device which can prevent the processing liquid from being left on a lift pin after drying a substrate, and can process the lower surface of the substrate efficiently.例文帳に追加

基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止することができ、かつ、基板の下面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate support in which particles generated through the mechanical contact of a lift pin and a clamp ring can be prevented from adhering onto a semiconductor wafer.例文帳に追加

リフトピンとクランプリングとの機械的接触により生ずるパーティクルが半導体ウェハ上に付着する事態を防止できる基板支持装置手段を提供すること。 - 特許庁

A substrate conveyance unit 10 has a conveyance stage 11 and a lift pin 14 for carrying up a glass substrate 31 to be conveyed by the conveyance stage 11.例文帳に追加

基板搬送ユニット１０は、搬送ステージ１１と、搬送ステージ１１により搬送されるガラス基板３１を上方に持ち上げるリフトピン１４とを有している。 - 特許庁

After plasma processing on the wafer is completed, application of opposite-polarity voltages, demagnetizing plasma processing, and application of a demagnetizing voltage are carried out in order, and then a lift pin is placed in operation to separate the wafer from the electrostatic chuck 20.例文帳に追加

ウエハに対しプラズマ処理が終了した後、逆極性電圧の印加、除電プラズマ処理、除電電圧の印加を順次行い、その後リフトピンを作動させてウエハを静電チャック２０から脱離する。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method that can prevent a processing liquid from being left on a lift pin after drying a substrate, and thereby can prevent the processing liquid from being attached to the rear surface of the substrate after the liquid processing.例文帳に追加

基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止し、このことにより液処理後の基板の裏面に処理液が付着することを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus that prevents a lift pin from breaking even when a substrate elevation member is moved to an upper position with a top plate lowered in a state wherein elevation operation of the substrate elevation member is not restricted.例文帳に追加

基板昇降部材の昇降動作が規制されていないときに、トッププレートが下降した状態で基板昇降部材を上方の位置に上昇させても、リフトピンが破損することを防止できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The process chambers 10 are provided with a mounting table 11 and are enabled to hand over a substrate W to the carrier robot 30 by transferring the substrate W from the mounting table 11 to a lift pin 12.例文帳に追加

プロセスチャンバ１０は、載置台１１を備え、載置台１１からリフトピン１２に基板Ｗを移載することで搬送ロボット３０への基板Ｗの受け渡しが可能になっている。 - 特許庁

In a vacuum drying unit 12, a roller conveying path 38B for performing flat conveyance of a substrate G to be treated is brought into a chamber 40 and a substrate lift mechanism 60 moves up and down the substrate G in the chamber 40 by a lift pin 62.例文帳に追加

この減圧乾燥ユニット１２は、被処理基板Ｇの平流し搬送を行うコロ搬送路３８Ｂをチャンバ４０内に引き込み、基板リフト機構６０によりチャンバ４０内で基板Ｇをリフトピン６２で上げ下げする。 - 特許庁

The shielding plate 100 includes a round opening 100a, which allows the lift pin 62 to penetrate for raising/lowering, and a square opening 100b for avoiding the internal roller transport path 38B from interfering with a roller 42B.例文帳に追加

この遮蔽板１００は、リフトピン６２を昇降可能に貫通させるための円形の開口１００ａと、内部コロ搬送路３８Ｂのコロ４２Ｂとの干渉を避けるための矩形の開口１００ｂとを有している。 - 特許庁

A lift pin 18 of a lift mechanism 17 is vertically shifted, independently of a shifting operation of a placement section 11 for the wafer 20, in a planar direction operated by an X-axis shifting mechanism 15 and a Y-axis shifting mechanism 14.例文帳に追加

リフト機構１７のリフトピン１８の上下動の動作が、ウエハ２０の載置部１１がＸ軸移動機構１５とＹ軸移動機構１４とによって動作する平面方向との移動動作とは無関係におこなわれるよう構成する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method in which the occurrence of particles is suppressed as much as possible while the support member of a lift pin, etc., can be prevented from transferring to the product area of a substrate.例文帳に追加

パーティクルの発生を極力抑えつつ基板の製品領域へのリフトピン等の支持部材の転写を防止することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

The elastic piece 66 is pressed by a coil spring 70 arranged between it and a pressing piece 68 so as to press the lift pin 29a against the other cam wall surface 65c_2 of the higher position part 65c.例文帳に追加

この弾性片６６は、押圧片６８との間に配置したコイルバネ７０で押圧され、昇降ピン２９ａを高位部６５ｃの他方のカム壁面６５ｃ_２に押し付ける。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a manufacturing apparatus of an electro-optic device surely removing deposits adhered to a lift pin and the inside of a through-hole after film-deposition and deposits generated during cleaning after film-deposition.例文帳に追加

成膜処理後、確実にリフトピン及び貫通孔内に付着した成膜処理後の堆積物やクリーニングの際に発生する堆積物等を除去することができる電気光学装置の製造装置のクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

The prebake device is provided with a mechanism for temporarily stopping the fall of the lift pin; a mechanism for resuming of the fall; and a mechanism for continuing the close contact cooling through vacuum adsorption.例文帳に追加

リフトピンの下降を一旦停止させる機構、下降を再開させる機構、真空吸着により密着させた冷却を継続して行う機構を具備する。 - 特許庁

A locking member 61 is provided to be advanced and retreated by a reciprocating cylinder 64 or the like in a circular-arc-shaped guide opening part 8-1 with a lift pin rotation-moved by ring support members 5, 5.例文帳に追加

リング支持部材５、５により、リフトピンが回転移動する円弧状のガイド用開口部８−１に対して、往復シリンダ６４などにより進退可能とされたロック部材６１を設ける。 - 特許庁

To provide a substrate lifting apparatus that avoids interference between a handling mechanism and a lift pin of a substrate conveying device while preventing loss of a tact time and breakage of a substrate, and also reduces appearance of a pin trace in a practical-use area of the substrate.例文帳に追加

タクトタイムのロスや基板の破損を防止しつつ、基板搬送装置のハンドリング機構とリフトピンとの干渉を回避し、かつ基板の実用領域へのピン跡の出現を低減させた基板昇降装置を提供する。 - 特許庁

The locking member 61 is advanced in the case other than the moving of the lift pin, an engaging part 61a in a tip is thereby engaged with an engaged block 65 provided in an opposed position, and a locked condition is attained thereby to enhance the rigidity of the holder main body.例文帳に追加

そして、リフトピンの移動時以外は、ロック部材６１を進出させて先端の係合部６１ａを対向位置に設けられた係合ブロック６５と係合させてロック状態としてホルダ本体の剛性を向上させる。 - 特許庁