「いつどこで」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

その頃母御息所はすでに病床についており、源氏に斎宮の後見を言い置いて亡くなった（「澪標」）。例文帳に追加

Her mother, Miyasudokoro, was ill in bed at that time and died after requesting that Genji become guardian of the Saigu ('Miotsukushi').  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

京都の学生通訳ガイド団体メンバーの一部が2006年に開催した「学生ガイドコンペティション」が発展したものである。例文帳に追加

It was the development of the 'Student Guide Competition' which was held by some members of a student interpreter/guide organization in Kyoto in 2006.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

蔵人所に代々使えた下級官人の出身で、朝光が伊賀守に任じられて以降、伊賀氏を称した。例文帳に追加

Tomomitsu was from the family of a lower-ranking government official serving Kurododokoro (the Chamberlain's Office) for generations, and called himself as the Iga clan since his appointment to Iga no kami (Governor of Iga Province).  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

浮上しているゴルフボール１２０に噴霧することによって、ゴルフボール１２０に均等かつ均一なコーティングを施すことができる。例文帳に追加

Even and uniform coating can be applied to the golf ball 120 by spraying the floating golf ball 120. - 特許庁

車内吊りポスターとしてふさわしい大きさを有するタオル地に、印刷あるいは刺繍で、広告表示を施す。例文帳に追加

Advertising display is applied to the toweling having a size suitable as the intra-train suspension poster with painting or embroidery. - 特許庁

半導体装置の作製に利用されるレーザープロセスにおいて、大面積に渡り均一なアニールを施すことができる技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technology capable of treating anneal in uniformity over a large area, in a laser process utilized in production of semiconductor devices. - 特許庁

これに加え、ゴルフボール１２０にスピンつまり回転をかけることで、噴霧されるコーティング材料が均等かつ均一に施されるように支援する。例文帳に追加

In addition, the system supports even and uniform application of sprayed coating material to the golf ball by spinning i.e. rotating the golf ball 120. - 特許庁

又、多孔体プレート３２には、型成形後に、成形バリ３４の除去と表面粗さの増大化加工とが同一工程で施される。例文帳に追加

The porous plate 32 is subjected to removal of molding burr 34 and surface roughness increasing processing at the same step after molded. - 特許庁

基板の表面の全域に、処理液を用いた処理を均一に施すことができる基板処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate processing apparatus capable of uniformly performing processing using a treatment liquid to the entire region of the surface of a substrate. - 特許庁

基板の主面に対して均一なエッチング処理を施すことができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus, capable of applying uniform etching processing to the main surface of a substrate. - 特許庁

大きさの異なる各種の基板に対して高い面内温度均一性で加熱処理を行ったり、意図的に温度勾配を形成しながら加熱したりする。例文帳に追加

To execute heating treatment with high plane temperature uniformity or execute heating while a temperature gradient is intentionally formed to various substrates of different sizes. - 特許庁

温度降下したワークＷを第２加熱手段14で加熱することにより、均一な予加熱効果や冷却効果を得る。例文帳に追加

The uniform pre-heating effect and cooling effect are obtained by heating the temperature-dropped work W by the second heating means 14. - 特許庁

その後、受信された電子ドキュメント・データに対応する単一の有形的なハードコピーの出力が開始される。例文帳に追加

Output of a single, tangible copy corresponding to the received electronic document is commenced. - 特許庁

よって、熱プレート７０の昇降温に応じてハウジング５１も昇降温し基板Ｗへの熱処理を均一に施すことができる。例文帳に追加

With the increase or decrease in temperature of the heat plate 70, the temperature of the housing 51 is also increased or decreased, providing a heat treatment evenly on the substrate W. - 特許庁

基板に対して均一にプラズマ処理を施すことができる半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of uniformly applying a plasma treatment to a substrate. - 特許庁

気体の供給を工夫することにより、複数の基板に均一に処理を施すことができる基板処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate processing apparatus which can treat a plurality of substrates uniformly by devising a supply of gas. - 特許庁

施設内部において、利用者が何時，何処にいたかがわかる個人認証を行うことができる手段を提供する。例文帳に追加

To provide a means capable of performing a personal identification to know where a user a facility at what time inside a facility. - 特許庁

そして、そのレーザビームに対し光偏向器により同一偏向量でかつ反対方向の偏向を施して両プレピット群を加工する。例文帳に追加

Laser beams are deflected at the same quantity of deflection and in the opposite direction by the light deflector, and then both the pre pit groups are processed. - 特許庁

被加工物の複数箇所に容易に同一加工を施すことのできるレーザ加工装置を提供する。例文帳に追加

To provide a laser beam machine capable of easily conducting the same machining to plural places of a work to be machined. - 特許庁

これにより、感光体６との間隔Ｇを精度良く保持し、均一な帯電を施す帯電部材を備えた画像形成装置とする。例文帳に追加

Thus, the image forming device equipped with the electrifying member accurately holding the space G between the photoreceptor 6 and the electrifying member and performing uniform electrification is provided. - 特許庁

ノルボルネン系架橋重合体からなる成形物に均一な塗装を安定的に行うことができるインモールドコーティング技術を提供する。例文帳に追加

To provide an in-mold coating technique permitting stable uniform coating of a molded subject composed of a crosslinked norbornene polymer. - 特許庁

基材表面に、最大粒径が１μｍ以下である触媒と、粘土鉱物よりなる層を有することを特徴とする触媒含有機能材。例文帳に追加

The catalyst-containing functional material is constituted by providing a layer, which consists of a catalyst with a maximum particle size of 1 μm or less and a clay mineral, on the surface of a base material. - 特許庁

基板に施される液処理の均一性を十分に向上させることができる液処理装置および液処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid treatment apparatus and a liquid treatment method by which uniformity in liquid treatment to be applied to a substrate can sufficiently be improved. - 特許庁

妨害信号が何時（何処で）発生するかの推定に関連して抑圧方式を使って、妨害信号を打消す。例文帳に追加

An interference signal is cancelled by use of a depression system in relation to the estimation as to when (where) an interfering signal occurs. - 特許庁

カード工程通過性やニードルパンチ工程での耐針折れ性が向上した芳香族ポリアミド短繊維を提供すること。例文帳に追加

To provide an aromatic polyamide staple fiber having improved processability in a carding process and improved resistance to needle breakage in a needle-punching process. - 特許庁

バンド構造の波長依存性を利用する事でモードフィールド径の大きい単一モードフォトニックバンドギャップファイバを提供する。例文帳に追加

To provide a single mode photonic band gap fiber, having a large mode field diameter by using wavelength dependency of a band structure. - 特許庁

より簡易なヘッド構成で双方向印刷時の着弾順の統一および単色印刷の高速化を実現する。例文帳に追加

To land inks in the same order and increase the speed in monocolor printing in bidirectional printing, in a simpler head configuration. - 特許庁

ロールの周面へのメッキを均一な厚さに施すことができるロール用メッキ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plating device for a roll which can apply plating to the circumferential face of the roll into a uniform thickness. - 特許庁

一方、画像データが同一位置に存在する場合、画像処理マスクによる処理をプリントバッファの画像データに施す（Ｓ２０４）。例文帳に追加

On the other hand, in case the image data are available in the identical address, the image data in a print buffer are processed using an image processing mask (S204). - 特許庁

単一の装置によって被処理基板に加熱処理を施すことができる基板処理装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a substrate treatment apparatus which is capable of conducting heat treatment to a substrate to be treated only by a single apparatus. - 特許庁

部材の内面全体に均一な表面処理を施すことができるプラズマ処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing method which can do a surface processing evenly all over the inner surface of a member. - 特許庁

装置を簡素化するとともに、使用するテープを切り換えながら同種のタイヤの同一位置にマーキングを施すことができるようにする。例文帳に追加

To simplify a device and to perform marking at the same position of the same type of tires while switching tapes to be used. - 特許庁

ケーブルの隣接部分に同様の処理を施すことによって、さらに長いツイストカプセルケーブルを作ることができる。例文帳に追加

Similar treatment is applied to the adjacent portion of the cable to make a longer twisted capsulated cable. - 特許庁

裁断前に、磁気記録媒体３０のロール状態での各部分における総受熱量が均一になるように熱処理を施すようにした。例文帳に追加

Before cutting, a magnetic recording medium 30 is heat-treated in such a way that the total amount of heat received in each part of the medium 30 in the rolled state is made uniform. - 特許庁

連続的に移送される長尺物の所定部位に、所望とする膜厚での塗装をより均一に施すことを可能とする。例文帳に追加

To enable uniformly coating a predetermined position of a long article continuously transferred with a desired film thickness. - 特許庁

基板は処理液供給ノズル内の液面位置を調整することにより、処理液のボタ落ちが防止され均一な処理を施すことができる。例文帳に追加

To perform uniform treatment without treatment solution droppings, by adjusting the liquid surface level of the treatment solution in a nozzle for supplying the treatment solution. - 特許庁

何時何処に居ても客観的な勤怠情報を管理することができる勤怠情報管理システムを提供する。例文帳に追加

To provide an attendance information management system allowing management of objective attendance information even if present at any time everywhere. - 特許庁

廃ガラス等を利用しつつ、外観が均一で吸音特性、強度、耐候性、耐水性、耐熱性等に優れた吸音材を提供する。例文帳に追加

To obtain a sound absorbing material having a uniform appearance and excellent in sound absorbing properties, strength, weatherability, water resistance, heat resistance, etc., while using a waste glass. - 特許庁

同一の装置により、個人情報覗き見を困難にするとともに、夜間における異変を容易に認識できる照明を施し得ることにある。例文帳に追加

To make personal information difficult to be peeped at and apply illumination, capable of easily recognizing abnormality at night, using identical unit. - 特許庁

紙粉等を発生させることなく、しかも、ブランク全体を均一に殺菌することができるようにブランクの端面耐水処理を施す。例文帳に追加

To perform a waterproof processing against an end surface of a blank in such a way that paper powder or the like is not generated and the entire blank can be sterilized uniformly. - 特許庁

シリコンウェハー等に電解メッキを施す際に、電流密度を均一に保ち、メッキ厚みのばらつきを小さくする。例文帳に追加

To reduce the variance in plating thickness by keeping the current density to be uniform in effecting the electrolytic plating on a silicon wafer, etc. - 特許庁

また、被処理体対向面にガス吸入口を設けることでも、処理体に均一なプラズマ処理を施すことが可能となる。例文帳に追加

Moreover, the uniform plasma process can be implemented to the processing object also by providing a gas charging port to the surface opposing to the processing object. - 特許庁

細かい粒度構成の供給原料に対しても良好に分級することのできるセパレータを提供する。例文帳に追加

To provide a separator for classifying in a good manner even a fed raw material is constituted of fine-sized particles. - 特許庁

これにより、基板の回転に伴うノズル７に対する相対速度に関係なく、基板の全面にわたって均一に洗浄処理を施すことができる。例文帳に追加

Thus, the washing treatment can uniformly be applied on the overall surface of the substrate regardless of the relative velocity. - 特許庁

装置の利用者のニーズに合わせた処理が施された米粒を当該装置の利用者に提供できる自動精米装置を得る。例文帳に追加

To provide an automatic rice-cleaning machine capable of providing cleaned rice, which is treated so as to satisfy user's needs, to a user. - 特許庁