「ふっ酸」に関連した英語例文の一覧と使い方(83ページ目) - Weblio英語例文検索

不活性ガス雰囲気中で処理品の熱処理を行う熱処理炉において、炉内雰囲気ガスの酸素濃度の上昇を抑制して迅速に目標値以下に復帰させることができる、熱処理炉における炉内雰囲気制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of controlling furnace atmosphere in a heat treatment furnace by which, in the heat treatment furnace performing the heat treatment of a treatment target article in inert gas atmosphere, oxygen concentration in furnace atmospheric gas is quickly returned to a target value or lower by suppressing a rise in the oxygen concentration. - 特許庁

酸化チタンからなる隠蔽材と、沸点１５０℃未満の炭化水素系溶剤および一価アルコールを含む溶剤と、擬塑性付与剤とからなり、２０℃、１．９ｓｅｃ^−１のせん断速度における粘度が１０００ｍＰａ・ｓ以上である、修正液である。例文帳に追加

This erasing liquid comprises a masking material consisting of titania, a solvent comprising a hydrocarbon-based solvent having <150°C boiling point and a monohydric alcohol, and a pseudoplasticity-imparting agent, and has ≥1,000 mPa.s viscosity at 20°C and at 1.9 sec-1 shear rate. - 特許庁

イソシアネート基含有1,2-ポリブタジエンまたはこれに水酸基含有1,2-ポリブタジエンがブレンドされた1,2-ポリブタジエン混合物100重量部に対し軟化点40〜160℃のワックスおよびフッ素樹脂をそれぞれ10〜160重量部の割合で含有させた有機溶媒溶液よりなる加硫ゴム用表面処理剤。例文帳に追加

This surface treating agent for the vulcanized rubber comprises an organic solvent solution containing 100 pts.wt. of an isocyanato-containing 1,2-polybutadiene or its mixture with a hydroxylated 1,2-polybutadiene and 10-160 pts.wt. of each of a wax having a softening point of 40-160°C and a fluororesin. - 特許庁

フッ素系のコーティング皮膜であって、１０μｍ以上の厚さを有するものが容易に得られ、これによって十分な防湿性及び耐酸性が得られ、しかも温度の急激な変化等に対しても亀裂が生じることのない皮膜を形成するためのコーティング剤を提供すること。例文帳に追加

To provide a coating agent easily giving a fluorine-based coating film of ≥10 μm thickness, which provides sufficient moisture-proof properties and acid resistance, in addition, is free from generating a crack even on abrupt change in temperature and the like. - 特許庁

外側継手部材14の肩部19と内方部材8の内端面7aとの間に、金属製円盤の表面にフッ素樹脂と耐熱性樹脂からなるバインダー樹脂と金属酸化物を必須成分とする樹脂被膜を有するスラスト軸受25を介在させた。例文帳に追加

A thrust bearing 25 having a resin covering film containing a binder resin comprising a fluorine resin and a heat-resistant resin and a metal oxide as indispensable components on a surface of a disc of metal is interposed between the shoulder part 19 of the outer coupling member 14 and an inner end surface 7a of the internal member 8. - 特許庁

そこで、次に、シリコン基板１の下面にシリコン溶解可能なフッ酸等の溶液を均等に吹き付けてウェットエッチングを行なうと、バリ２３及びシリコン屑２４が除去され、シリコン基板１の凹部２２以外の下面が平坦化される。例文帳に追加

Then wet etching is applied to the lower face of the silicon substrate 1 by uniformly spraying a solution of hydrofluoric acid dissolvable of silicon to the lower face to remove the burrs 23 and the silicon trashes 24, resulting in making the lower face of the silicon substrate 1 other than the recess 22 flat. - 特許庁

ａ）フッ化アンモニウム化合物、及びｂ）カチオン部分がアンモニウム塩型であり、アニオン部分がカルボン酸塩型である両性界面活性剤、例えばベタイン型両性界面活性剤の水溶液からなるフォトレジストアッシング残滓洗浄剤。例文帳に追加

This detergent consists of an aq. soln. of (a) an ammonium fluoride compd. having preferably 0.005 to 1 wt.% concn, and (b) an amphoteric surfactant having ammonium salt type cations and carboxylate type anions by preferably 0.05 to 1.5 wt.% concn., such as a betaine amphoteric surfactant. - 特許庁

正極と負極と非水電解質とを備えた非水電解質二次電池において、正極活物質粒子表面と粒子界面の少なくとも一部に、アルカリ金属とフッ素を含み、さらにリン、酸素、水素から選ばれた少なくとも１種の元素を含む化合物を形成したことを特徴とする。例文帳に追加

In the nonaqueous electrolyte secondary battery equipped with a positive electrode, a negative electrode, and a nonaqueous electrolyte, a compound containing an alkali metal and fluorine, and at least one kind of element selected from phosphorus, oxygen, and hydrogen is formed in at least one part on the surface of positive active material particles and the interface between the particles. - 特許庁

炭化水素を含有する電界配向膜において、抗酸化還元層を触媒層と電解質膜の間に設けることによって全フッ化電解質膜に比べ低コストが可能で、長期にわたり電気特性の安定な電解質膜、この電解質膜を用いた燃料電池を提供する。例文帳に追加

To provide an electrolyte film, and a fuel cell using the electrolyte film, with stable electric characteristics for a long period which can be reduced in cost as compared with an all-fluorine electrolyte film by providing an anti-redox layer between a catalyst layer and the electrolyte film, as for an electric field-oriented film containing hydrocarbon. - 特許庁

反応性材料のための組成物であって、高いフッ素含量を有しかつ該反応性材料の熱的自己発火温度より実質的に低い融解温度を示す酸化剤と、少なくとも１種の金属充填剤とを含んでなる、前記組成物を提供する。例文帳に追加

A composition for the reactive material has a high fluorine content and comprises an oxidizing agent, which has a melting temperature substantially lower the thermal autoignition temperature of the reactive material, and at least one kind of metal fillers. - 特許庁

前記洗浄段階はプラズマ状態の水素ガス及びフッ素系ガスを供給して前記シリコン基板の露出面に形成された酸化膜と化学的に反応させて反応層を形成する段階及び前記反応層を気化して除去できるようにアニーリングする段階よりなる。例文帳に追加

The cleaning of the surface of the silicon substrate is made through a step of forming a reaction layer by causing a chemical reaction between the supplied hydrogen gas and fluorine-based gas and an oxide film formed on the exposed surface of the substrate, and another step of annealing the reaction layer so as to remove the layer by vaporization. - 特許庁

薄膜の上層を、酸素を実質的に含まない塩素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工し、続いて薄膜の下層及び基板を、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理により一度にエッチング加工することによりインプリント用モールドを得る。例文帳に追加

The upper layer of the thin film is etched by a dry etching process by using a chlorine-based gas that substantially does not contain oxygen, and subsequently the lower layer of the thin film and the substrate are etched together by a dry etching process using a fluorine-based gas to obtain a mold for imprint. - 特許庁

３４０℃以下の焼成温度であっても、１．４９μｍにおける光吸収および１．３５μｍから可視光までの光吸収を低減させることのできる化合物を見出し、この化合物を含む光学材料用フッ素化ポリアミド酸樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To find a compound capable of reducing a light absorption at 1.49 μm and a light absorption extending from 1.35 μm to visible light, even if the baking temperature is ≤340°C and to provide a fluorinated polyamic acid resin composition for optical materials containing the compound. - 特許庁

シリコンウエハ26に形成したシリコン酸化膜をエッチングする場合、フッ素単原子を含む処理ガスを処理室24に導入するとともに、窒素ガス源38からの窒素ガスの一部を水バブリングユニットに通し、水蒸気を添加した窒素ガスを処理室24に導入する。例文帳に追加

When a silicon oxide film formed in the silicon wafer 26 is etched, the process gas containing the hydrofluoric acid mono-atoms is led into the process chamber 24, also a part of the nitrogen gas from the nitrogen gas source 38 is passed through a wafer bubbling unit, and the nitrogen gas to which vapor is annexed is led into the process chamber 24. - 特許庁

本発明は、下記一般式（Ｉ）ＣＦ_３（ＣＦ_２）_ｎＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＲｆＣＯＯＭ （Ｉ）（式中、Ｒｆは部分又は全部フッ素置換された炭素数２のアルキレン基、ｎは０又は１、Ｍは１価のアルカリ金属、ＮＨ_４又はＨを表す。）で表されることを特徴とするフルオロエーテルカルボン酸である。例文帳に追加

The new compound is a fluoroether carboxylic acid represented by formula (I): CF_3(CF_2)_nOCH_2CF_2CF_2ORfCOOM (wherein Rf is a partially or completely fluorine-substituted 2C alkylene group; n is 0 or 1; and M is a monovalent alkali metal, NH_4 or H). - 特許庁

ＣｕやＣｕ合金を配線材料に用いながらも、金属膜やＳｉＮ膜との密着性を悪化させることなく、配線間スペースにフッ素添加酸化膜を形成し、特に狭スペース部での配線間容量を低減できる半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of forming a fluorine added oxide film in an inter-wiring space and particularly reducing an inter-wiring capacitance at a narrow space, without deteriorating the adhesion with a metal film and/or an SiN film although using Cu and/or Cu alloy as a wiring material. - 特許庁

フェノール類化合物とエピハロヒドリンとを，有機溶媒とアルカリ金属水酸化物の存在下で反応させてエポキシ樹脂を製造する方法において、アセトニトリルに代表される、有機溶媒が１２０℃以下の沸点（常圧）と３０以上（２０℃）の誘電率をもつ有機溶媒の存在下に反応させる。例文帳に追加

In this method for producing an epoxy resin by reacting a phenol compound with an epihalohydrin in the presence of an organic solvent and an alkali metal hydroxide, the reaction is carried out in the presence of the organic solvent having ≤120°C boiling point and ≥30 (20°C) (normal pressure) dielectric constant represented by acetonitrile. - 特許庁

さらに、非水電解質として、エチレンカーボネートとジエチルカーボネートとを体積比３０：７０の割合で混合した非水溶媒に六フッ化リン酸リチウムを１．５ｍｏｌ／ｌ〜２．０ｍｏｌ／ｌの濃度になるように添加したものを用いる。例文帳に追加

In addition, as a nonaqueous electrolyte the material is used wherein the lithium phosphate hexafluoride is added to a nonaqueous solvent mixing the ethylene carbonate and diethyl carbonate at a volume ratio of 30 to 70 so that a density of the lithium phosphate hexafluoride may be within a range of 1.5 to 2.0 mol/l. - 特許庁

プロトン伝導膜は、水に任意の割合で混合でき、かつ沸点が１００℃以上である含窒素化合物と、スルホン酸をイオン交換基とするプロトン伝導性樹脂とからなり、前記含窒素化合物を０．５〜１０重量％の割合で含有する。例文帳に追加

This proton-conducting film can be mixed in water at an arbitrary rate, comprises a nitrogen-containing compound having a boiling point≥100°C, and a proton-conducting resin containing sulfonic acid as an ion-exchange group, and contains 0.5-10 wt.% of the nitrogen-containing compound. - 特許庁

グリコール類及びアルコール類からなる群から選択される融点降下剤を主成分とする冷却液組成物であって、（ａ）フッ化物から選択される腐食抑制剤、及び（ｂ）２−エチルヘキシルリン酸又はその塩を含有することを特徴とする冷却液組成物。例文帳に追加

The liquid coolant composition mainly includes a melting-point-lowering agent selected from the group consisting of an glycol and an alcohol; in addition, (a) a corrosion inhibitor selected from fluorides; and (b) 2-ethylhexylphosphoric acid or a salt thereof. - 特許庁

眼鏡レンズ１０は、基材１の上に着色層３Ｌ１を有し、この着色層３Ｌ１は、金属酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかを主成分とし、さらに、Ａｕ、Ｃｒ、ＭｎおよびＳｉの少なくともいずれかから選ばれた金属微粒子を含有する。例文帳に追加

The lens for spectacles 10 has the colored layer 3L1 on a base material 1 and the colored layer 3L1 contains at least either one of metallic oxide and fluoride as a main component and further contains metallic particulates selected at least from any one of Au, Cr, Mn, and Si. - 特許庁

（Ａ）反応性珪素基含有有機重合体、（Ｂ）平均粒径０．１〜２００μｍの金属水酸化物、及び（Ｃ）２３℃における粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下である液状化合物であって、誘電率が５以上及び／又は沸点が１７０℃以下の液状化合物、を必須成分として含有するようにした。例文帳に追加

The adhesive composition comprises (A) an organic polymer containing a reactive silicone group, (B) a metal hydroxide having 0.1-200 μm of an average particle diameter, and (C) a liquid compound having a viscosity of ≤500 mPa s at 23°C and a dielectric constant of ≥5 and/or a boiling point of ≤170°C, as essential components. - 特許庁

電子材料として例えば半導体用の低誘電性パッケージ材料や基板材料、あるいは光学材料として例えば光導波路や光部品などの分野に有用な含フッ素脂環式ジカルボン酸化合物を、簡便に効率よく製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a fluorine-containing alicyclic dicarboxylic acid compound useful in a field of an electronic material, i.e., a low dielectric package material for a semiconductor and a substrate material, an optical material, i.e., a beam guiding path part and an optical part, and the like, in a simple and efficient manner. - 特許庁

本発明は、薬液濃度測定装置を提供するものであり、特に、半導体洗浄ラインで使用する洗浄薬液中の低濃度のフッ酸等の濃度を、簡単に正確に測定することが可能であり、かつ、洗浄ラインを汚染しない安価な電極が使用可能である薬液濃度測定装置を提供する。例文帳に追加

To simply and accurately measure the concentration of low-concentration hydrofluoric acid or the like in a cleaning chemical liquid used for a semiconductor cleaning line, and to use an inexpensive electrode for preventing the cleaning line from being contaminated. - 特許庁

本発明の熱可塑性ポリカーボネート樹脂組成物は、（Ａ）ポリカーボネート樹脂１００質量部と、（Ｂ）ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体０．１〜５質量部と、（Ｃ）二酸化チタン５〜５０質量部と、（Ｄ）フッ素化ポリオレフィン系樹脂０．１〜５質量部とを含むことを特徴とする。例文帳に追加

The thermoplastic polycarbonate resin composition includes: 100 pts.mass of a polycarbonate resin (A); 0.1 to 5 pts.mass of a polyorganosiloxane-containing graft copolymer (B); 5 to 50 pts.mass of titanium dioxide (C); and 0.1 to 5 pts.mass of a fluorinated polyolefin-based resin (D). - 特許庁

半導体ウェハー基板上に形成されたシリコン含有有機膜を除去した表面を、アンモニア水溶液により洗浄処理を行う第１のステップと、希釈フッ酸水溶液により洗浄処理を行う第２のステップを少なくとも有する方法で処理する。例文帳に追加

A surface on which an organic film containing silicon formed on a semiconductor wafer substrate is removed is processed by a method at least including a first step of carrying out a cleaning process with ammonia aqueous solution, and a second step of carrying out a cleaning process with diluted hydrofluoric acid aqueous solution. - 特許庁

高濃度フッ硝酸の組成が僅かにＳｉＯ_2層をエッチングするものであっても、Ｓｉ基板のエッチングが高速に終了するため、実質的にＳｉＯ_2層のエッチングはほとんど進まず、平坦な表面を有するＳｉＯ_2層が露出する。例文帳に追加

Even if the composition of high concentration nitric acid fluoride etches the SiO_2 layer only slightly, etching of the Si substrate finishes at high speed and since etching of the SiO_2 layer does not progress substantially, the SiO_2 layer having a flat surface is exposed. - 特許庁

粗面化されたアルミニウム表面を有する基板に周期律表のＩＩa、ＩＩｂ、ＩＶa族の金属元素のフッ化物を作用させることにより該アルミニウム表面に金属酸化物半導体層が形成された基板を電極として用いることを特徴とする色素増感型太陽電池。例文帳に追加

By making fluorides of metal elements of groups IIa, IIb, IVa in the periodic table acted on a substrate having a roughened aluminum surface, this is the dye-sensitized solar cell wherein the substrate is used as an electrode in which a metal oxide semiconductor layer is formed on the aluminum surface. - 特許庁

シリコン酸化膜等で素子分離された半導体基板上に、MOS型トランジスタを形成するにあたり、ゲート絶縁膜をフッ素を含有する第一絶縁膜２とシリコン膜の窒化からなる第二絶縁膜５の積層構造としている。例文帳に追加

When forming an MOS transistor on a semiconductor substrate wherein elements are separated by a silicon oxide film or the like, the gate insulating film is permitted to have a stacked structure of a first insulating film 2 comprising fluorine and a second insulating film 5 consisting of a silicon nitride film. - 特許庁

水酸基含有フッ素含有樹脂、ポリイソシアネート化合物およびシリケート化合物、ならびに、シリカ粒子および樹脂粒子を含んでいて、上記シリカ粒子および樹脂粒子の合計量が塗料固形分に対して０．１〜２００重量％であることを特徴とする耐汚染性つや消し塗料組成物。例文帳に追加

This stain-resistant mat coating composition comprises a hydroxy group-containing fluorine-containing resin, a polyisocyanate compound and a silicate compound, silica particles and resin particles and the total amount of the silica particles and resin particles is 0.1-200 wt.% based on the coating solids. - 特許庁

ＢＥＴ値が３ｍ^2／ｇ〜２０ｍ^2／ｇの範囲内であり、ＳｉＯ_2含有量が０．０２％以下の水酸化アルミニウムに、フッ化物を除くハロゲン化物を添加して密閉容器中で焼成し、その後、解砕して上記アルミナ粒を製造する。例文帳に追加

Halide except fluoride is added to aluminum hydroxide having BET value within the range of 3 m^2/g to 20 m^2/g and SiO_2 content of ≤0.02%, the mixture is calcined in a closed vessel and then is cracked to manufacture the granular alumina. - 特許庁

一般式（IV）： Ｒ_ｆＣＨ_２Ｘ （IV）（式中、Ｒ_ｆは置換されていてもよい含フッ素アルキル基、Ｘはハロゲン原子を示す。）で表される含フッ素ハロゲン化アルキルの製造方法であって、一般式（III）： Ｒ_ｆＣＨ_２ＯＳＯ_２−Ｒ （III）（式中、Ｒは置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよいアリール基を示し、Ｒ_ｆは前記に同じ。）で表されるスルホン酸エステルを、スルホキシド類及びスルホン類から選ばれる少なくとも１つを含む溶媒中で、金属ハロゲン化物と反応させることを特徴とする含フッ素ハロゲン化アルキルの製造方法。例文帳に追加

with a metal halide in a solvent containing at least one selected from a sulfoxide and a sulfone. - 特許庁

正極と、負極と、非水系溶媒を用いた非水電解質とを備えたリチウム二次電池における上記の非水電解質中にフッ素を含む溶質を用いた場合において、電池内における微量の水分がフッ素を含む溶質と反応してフッ酸等の不純物が生じたとしても、リチウム二次電池における充放電特性に悪影響を及ぼすということがなく、充放電サイクル特性に優れたリチウム二次電池が得られるようにする。例文帳に追加

To provide a lithium secondary battery using a positive electrode, a negative electrode and a nonaqueous solvent, having superior charge/discharge property without giving ill effect on the charge-discharge property of the lithium secondary battery even if a trace of water in the battery reacts with a dissolved substance containing fluorine to produce impurities including hydrofluoric acid when the nonaqueous electrolyte uses the dissolved substance containing fluorine. - 特許庁

本実施形態のドライエッチング方法は、水素を含む第１の反応ガスとフッ素を含む第２の反応ガスとをニッケルで形成された加熱体１１０に接触させることで、水素ラジカルとフッ素ラジカルとをそれぞれ生成し、前記水素ラジカルおよび前記フッ素ラジカルと、前記第１の反応ガスおよび前記第２の反応ガスとを反応させることでエッチングガスを生成し、前記エッチングガスによって基板上のシリコン酸化物層をエッチングする。例文帳に追加

In a dry etching method, first reaction gas containing hydrogen and second reaction gas containing fluorine are brought into contact with a heating element 110 formed of nickel to generate hydrogen radicals and fluorine radicals, the hydrogen radicals and the fluorine radicals are reacted with the first reaction gas and the second reaction gas to generate etching gas, and a silicon oxide layer on a substrate is etched with the etching gas. - 特許庁

本実施形態のドライエッチング方法は、水素を含む第１の反応ガスとフッ素を含む第２の反応ガスとを加熱体１１０に接触させることで、水素ラジカルとフッ素ラジカルとをそれぞれ生成し、前記水素ラジカルおよび前記フッ素ラジカルと、前記第１の反応ガスおよび前記第２の反応ガスとを反応させることでエッチングガスを生成し、前記エッチングガスによって基板上のシリコン酸化物層をエッチングする。例文帳に追加

In a dry etching method, first reaction gas containing hydrogen and second reaction gas containing fluorine are brought into contact with a heating element 110 to generate hydrogen radicals and fluorine radicals, the hydrogen radicals and the fluorine radicals are reacted with the first reaction gas and the second reaction gas to generate etching gas, and a silicon oxide layer on a substrate is etched with the etching gas. - 特許庁

テトラフルオロエチレン−α−オレフィン共重合体と、該共重合体１００重量部に対し、フッ化ビニリデン−６フッ化プロピレン共重合体系エラストマー３重量部以上５０重量部以下、エチレン−エチレン性不飽和エステル共重合体３重量部以上２０重量部以下、不飽和カルボン酸で変性されたポリオレフィン樹脂３重量部以上１５重量部以下を少なくとも含有することを特徴とする含フッ素エラストマー組成物。例文帳に追加

The fluoroelastomer composition at least contains: 100 pts.wt. of a tetrafluoroethylene/α-olefin copolymer; 3-50 pts.wt. of an elastomer comprising a vinylidene fluoride/propylene hexafluoride copolymer; 3-20 pts.wt. of an ethylene/ethylenically unsaturated ester copolymer; and 3-15 pts.wt. of a polyolefin resin modified with an unsaturated carboxylic acid. - 特許庁

含フッ素フタロシアニン化合物とアミノ化合物との置換反応によりアミノ置換フタロシアニン化合物を製造するにあたり、反応熱および反応温度の制御を効果的に行うことができ、また腐食防止剤としてのフッ化水素捕捉剤とフッ化水素との反応によって発生する水や炭酸ガスによって引き起こされる反応液の発泡現象を効果的に抑制した、アミノ置換フタロシアニン化合物の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing an amino-substituted phthalocyanine compound by the substitution reaction of a fluorine-containing phthalocyanine compound with an amino compound, enabling effective control of the reaction heat and reaction temperature and effectively suppressing the foaming phenomenon of the reaction liquid caused by water and carbon dioxide gas generated by the reaction of a hydrogen fluoride capturing agent as an anticorrosion agent with hydrogen fluoride. - 特許庁

上記軟鋼製外皮内に充填されるフラックスは、ワイヤの全体重量に対し、スラグ生成剤：２〜１５％と、珪素酸化物：１．０〜１０％と、金属チタニウム又は金属マグネシウムとその合金混合物の中から金属チタニウムを含めて少なくとも２種以上を含む成分：０．４〜３％と、ナトリウムフッ化物とカリウムフッ化物のいずれか１つのフッ化物：０．１〜１％からなることを特徴とする。例文帳に追加

The flux packed into the shell made of the mild iron consists, by the weight over the entire part of the wire, of 2 to 15% slag forming agent, 1.0 to 10% silicon oxide, 0.4 to 3% component containing at least ≥2 kinds including metal titanium or metal magnesium and metal titanium among their alloy mixture and 0.1 to 1% fluoride of either of sodium fluoride and potassium fluoride. - 特許庁

（ａ−１）ヒドロキシル基、カルボキシル基もしくはカルボン酸塩もしくはカルボキシルエステル基またはエポキシ基のいずれかの官能基を有する含フッ素エチレン性単量体の少なくとも１種の単量体０．０５〜３０モル％と（ｂ−１）前記の官能基を有さない含フッ素エチレン性単量体の少なくとも１種の単量体７０〜９９．９５モル％とを共重合してなる官能基を有する含フッ素エチレン性重合体を用いる。例文帳に追加

A fluorine-containing ethylenic polymer having functional groups and prepared by the copolymerization of (a-1) 0.05-30 mol% at least one fluorine- containing ethylenic monomer having a functional group selected from the group consisting of hydroxyl, carboxyl, carboxylate, carboxylic ester, and epoxy groups and (b-1) 70-99.95 mol% at least one fluorine-containing ethylenic monomer having no functional group is used. - 特許庁

本発明の４級アンモニウムテトラフルオロボレート塩の精製方法は、４級アンモニウムテトラフルオロボレート塩中に含まれる３級アミン又は３級アンモニウム塩の少なくとも何れかに対し過剰となる量のフッ化水素酸を、該４級アンモニウムテトラフルオロボレート塩に添加することにより、３級アミン又は３級アンモニウム塩の少なくとも何れかと反応させて３級アンモニウムフルオロライドのフッ化水素塩を生成させ、前記３級アンモニウムフルオロライドのフッ化水素塩を除去することを特徴とする。例文帳に追加

When the quaternary ammonium tetrafluoroborate salt is refined, an excessive quantity of hydrofluoric acid to at least either of tertiary amine or tertiary ammonium salt in the quaternary ammonium tetrafluoroborate is added to the quaternary ammonium tetrafluoroborate salt, and it is allowed to react with at least either of the tertiary amine or the tertiary ammonium salt so as to produce hydrofluoric salt of tertiary ammonium fluororide, and the hydrofluoric salt thereof is removed. - 特許庁

（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物（Ｂ）架橋剤（Ｃ）バインダーポリマー（Ｄ）赤外線吸収剤（Ｅ）下記一般式（１）で示されるモノマー、橋状結合を有する炭素原子数が７個以上のモノマー、酸基を有するモノマーを共重合成分として含む高分子化合物 一般式（１）中、Ｒｆはフッ素原子の数が９以上のフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキル基を含む置換基を表し、ｘは１又は２を表し、Ｒ^1は水素原子又はメチル基を表す例文帳に追加

In general formula (1), Rf represents a substituent containing a fluoroalkyl group or perfluoroalkyl group having 9 or more fluorine atoms, and x represents 1 or 2, and R^1 represents a hydrogen atom or a methyl group. - 特許庁

複数のノズルの開口端が配列されたノズル面を有して該ノズルから記録媒体に水性インクを噴射するインクジェットヘッドと、上記ノズル面とワイプ部材とを当接させて上記ノズル面を払拭するワイピング動作を実行するワイピング装置と、を備え、上記水性インクに、オレイン酸、及び、該オレイン酸を乳化して水中に分散させる分散剤、が添加されている、インクジェット式記録装置を採用する。例文帳に追加

The inkjet recording device includes an inkjet head having a nozzle surface on which the open ends of a plurality of nozzles are arranged and jetting aqueous ink from the nozzles to a recording medium, and a wiping device which performs wiping operation of the nozzle surface by bringing the nozzle surface and a wipe member into contact with each other, wherein the aqueous ink contains oleic acid and a dispersant which emulsifies the oleic acid and disperse the emulsified oleic acid into water. - 特許庁

特定の構造を有するオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩系のカチオン重合開始剤と、ラクトン系溶剤及びヒドロキシカルボン酸系溶剤とを含有する感光性樹脂組成物によれば、塗膜の均一性に優れ、硬化樹脂パターンの硬化密度を向上することができ、さらに高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供できる。例文帳に追加

The high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition excellent in uniformity of a coating film, capable of enhancing the curing density of a cured resin pattern, and forming the fine resist pattern having the large film thickness and the high aspect ratio comprises an onium fluoroalkylfluorophosphate type cationic polymerization initiator having a specific structure, a lactone solvent and a hydroxycarboxylic acid based solvent. - 特許庁

樹脂被覆キャリアの被覆樹脂が、カルボキシル基含有単量体、炭素数が１〜３の直鎖アルキル基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステル単量体、炭素数が４〜１０の直鎖アルキル基又は炭素数が３〜１０の枝分かれを含むアルキル基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステル単量体、及びフッ素含有単量体を少なくとも含有する共重合体である静電潜像現像用キャリア、現像剤、及び画像形成方法である。例文帳に追加

In the electrostatic latent image developing carrier, the developer and the image forming method, the coating resin of the resin-coated carrier consists of copolymers containing at least monomers containing carboxyl groups, alkyl(meth)acrylate monomers containing 1-3C straight-chain alkyl groups, alkyl(meth)acrylate monomers containing 4-10C straight-chain alkyl groups or 3-10C branched alkyl groups, and monomers containing fluorine. - 特許庁

酸性基および分子内に３個以上のエチレン性二重結合を有するアルカリ可溶の感光性樹脂（Ａ）と、水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素数２０以下のアルキル基（ただし、前記アルキル基はエーテル性の酸素を有するものを含む。）を有する重合単位（ｂ１）、およびエチレン性二重結合を有する重合単位（ｂ２）を有する重合体からなる撥インク剤（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含有する隔壁形成用ネガ型感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成する。例文帳に追加

Barrier ribs are formed by using the following negative photosensitive resin composition for barrier rib formation. - 特許庁