「ふっ酸」に関連した英語例文の一覧と使い方(87ページ目) - Weblio英語例文検索

カチオン性の親水性セグメント（Ｘ１）を有するポリマー（Ｘ）とフッ素原子、窒素原子、又は酸素原子を有するアニオン（Ｙ）とからなる塩における該アニオンが、アニオン性の官能基を有する着色性化合物（Ｚ）でイオン交換されたポリイオンコンプレックスからなる結晶性水性着色材料。例文帳に追加

The crystalline aqueous coloring material is composed of a polyion complex in which an anion (Y) of a salt composed of a polymer (X) having a cationic hydrophilic segment (X1) and the anion (Y) having a fluorine atom, a nitrogen atom or an oxygen atom is ion-exchanged with a coloring compound (Z) having an anionic functional group. - 特許庁

多塩基酸緩衝系、フッ化物系、水、該水溶性組成物用の水混和性有機溶媒を含み、随意に、キレート剤、金属腐食防止剤及び界面活性剤を含んでいてもよいCu低K誘電性半導体装置からエッチング及びアッシング後の残渣を除去するのに有用な水溶性及び半水溶性配合物。例文帳に追加

An aqueous and semi-aqueous composition, useful for removing residue after etching and ashing from a Cu low K dielectric semiconductor devices, contains a polyprotic acid buffer system, a fluoride system, water, and an water-miscible organic solvent for an aqueous composition, and may freely contain a chelating agent, a metal corrosion inhibitor and a surfactant. - 特許庁

本発明は、平均粒径が２０μｍ〜２０００μｍで、環状三量体含有量が２０００ｐｐｍ〜６０００ｐｐｍであるポリエステル粒体を、沸点１９０℃以下で、炭素、酸素、水素のみからなり、エーテル結合を含まない水溶性有機溶媒で接触処理することを特徴とするポリエステル粒体の処理方法を提供することにより上記目的を達成するものである。例文帳に追加

The method for treating polyester granules comprises bringing polyester granules having 20-2,000 μm average particle diameter and 2,000-6,000 ppm cyclic trimer content into contact with a water-soluble organic solvent which has ≤190°C boiling point, is composed of only carbon, oxygen and hydrogen and contains no ether bond. - 特許庁

磁気的付着性材料と熱可塑性樹脂及び着色成分として本願記載の構造式に従った少なくとも１つの蛍光染料の混合物を有する着色物質とを含有する着色磁気的付着性トナー粉末であって、Ｘ^−が陰イオンであり、例えば、テトラフルオロボレート、フッ化ホウ素、過塩素酸塩、ヘキサフルオロジルコネート又はエチルサルフェートである磁気的付着性トナー粉末を提供する。例文帳に追加

The colored magnetically attachable toner powder contains a magnetically attachable material, a thermoplastic resin and a coloring substance comprising a mixture of fluorescent dyes including at least one dye of a specified formula as a coloring component, wherein X^- is an anion such as a tetrafluoroborate, boron fluoride, perchlorate, hexafluorozirconate or ethyl sulfate anion. - 特許庁

作動温度が水の沸点以上である燃料電池４と、燃焼室を備え、燃焼室において燃料および酸素により燃焼を行う内燃機関２と、燃料電池４において生成される生成水を内燃機関２の燃焼室に供給する生成水供給手段（１０６，１０７）とを備える。例文帳に追加

The hybrid system comprises: an internal combustion engine 2 including a fuel cell 4 whose operating temperature is not less than a boiling temperature of water and a combustion chamber, and burning fuel and oxygen in the combustion chamber; and generated water supply means 106, 107 supplying water generated by the fuel cell 4 to the combustion chamber of the internal combustion engine 2. - 特許庁

メタクリル酸エステルを主成分とするビニル単量体を連続重合するに際し、重合器として、重合容器の気相部に設けられる各種配管のうち、単量体供給配管以外の少なくとも１本の配管の気相突出部の先端部がフッ素樹脂で被覆されている重合器を使用する。例文帳に追加

In continuously polymerizing a vinyl monomer mainly composed of a methacrylate, there is used, as a polymerization reactor, the one in which the tip of the projecting portion into the vapor phase of at least one pipe other than the monomer charging pipe among various pipes installed in the vapor phase section of the polymerization reactor is coated with a fluororesin. - 特許庁

本発明は特にＦ_２、ＡｒＦ、ＫｒＦステッパーに対応可能とするために、１５０ｎｍ〜３００ｎｍの波長域で吸収の小さい酸化膜、フッ化物薄膜を膜材料として用いた２層又は３層反射防止膜において、低屈折率層にパッキング密度０．８５以下の薄膜を使用する。例文帳に追加

In the antireflection film of two layers or three layers which uses an oxide film and a fluoride thin film with low absorption in a wavelength region between 150 and 300nm as a film material, a thin film of ≤0.85 packing density is used as a low refractive index layer, in order to be able to cope with a F_2 stepper, an ArF stepper and a KrF stepper. - 特許庁

回転軸６と、この周囲に配置されたシール部材１１と、シール部材１１の外側メタル２と内側メタル３に挟持されて取り付けられたオイルシールエレメント５より構成されるオイルシール装置において、１００ｔｏｒｒ以下の酸素濃度のもとに１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの照射線量の電離性放射線を照射したフッ素樹脂を使用してオイルシールエレメント５を構成する。例文帳に追加

In the oil seal device constituted of a rotary shaft 6, a seal member 11 arranged around the rotary shaft 6 and an oil seal element 5 mounted hold by outer metal 2 and inner metal 3 of the seal member 11, the oil seal element 5 is constituted by using fluoraresin irradiated with ionized radiation of exposed dose of 1 kGy to 10 Mgy based on oxygen concentration ≤100 torr. - 特許庁

磁気抵抗効果膜のうちの少なくとも磁化固着層と非磁性中間層の側面に伝導電子に対する鏡面反射効果を有する高抵抗な酸化物、窒化物、フッ化物、ホウ化物、硫化物あるいは炭化物からなる側壁層を設けることにより、磁気抵抗効果膜の側面での電子の非弾性散乱やスピン情報の喪失を防ぐことができる。例文帳に追加

A sidewall layer, that is made of highly resistant oxide, nitride, fluoride, boride, sulfide, or carbide having mirror reflection effect with respective to conduction electrons, is provided to the side surface of at least a magnetized adherence layer and a non-magnetic intermediate layer in a magnetoresistance effect film, thus preventing inelastic scattering of electrons or loss of spin information on the side surface of the magnetoresistance effect film. - 特許庁

透明基材の上に２０μｍ以下の厚みの粗面化されたアルミニウム薄膜を有する基材に、周期律表のＩＩa、ＩＩｂ、ＩＶa族の金属元素のフッ化物を作用させることにより該アルミニウム層の表面に金属酸化物半導体層を形成した基材を電極として用いることを特徴とする色素増感型太陽電池。例文帳に追加

This dye-sensitized solar cell uses, as an electrode, a base material 17 with a metal oxide semiconductor layer formed on the surface of an aluminum layer by making fluorides of metal elements of groups IIa, IIb and IVa in the periodic table act on a base material having, on a transparent base material 11, a roughened aluminum thin film 13 having a thickness not greater than 20 μm. - 特許庁

プラズマ気相成長法により半導体基板上に弗素添加酸化珪素膜を成膜する工程中において、成膜される半導体基板が載置された反応容器内部をプラズマの経時変化を抑制するように構成された半導体製造装置及びこの半導体製造装置を用いた半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor manufacturing apparatus, the inside of a reaction container in that a semiconductor substrate to be formed is placed, is composed so that the change in plasma with time can be suppressed, and a method for manufacturing a semiconductor device using the semiconductor- manufacturing device, in a process for forming a fluorine-added silicon oxide film on a semiconductor substrate through the plasma vapor growth method. - 特許庁

窒化物半導体層１９上に、ソース電極２０、ゲート電極２４およびドレイン電極２２をそれぞれ形成する工程と、前記窒化物半導体層上に窒化シリコン膜２６を形成する工程と、前記ゲート電極と前記ドレイン電極との間の前記窒化シリコン膜の上面をフッ酸を含む溶液を用い処理する工程と、を含む半導体装置の製造方法。例文帳に追加

A method of manufacturing a semiconductor device includes: a step of forming a source electrode 20, a gate electrode 24, and a drain electrode 22 on a nitride semiconductor layer 19, respectively; a step of forming a silicon nitride film 26 on the nitride semiconductor layer; and a step of processing an upper surface of the silicon nitride film between the gate electrode and the drain electrode using a solution containing a hydrofluoric acid. - 特許庁

導電性部材101を構成する電気抵抗調整層104を、少なくともポリアミドエラストマーとポリオレフィンブロックポリマーとを含有する熱可塑性樹脂と、過塩素酸塩類から選択される少なくとも１種及び含フッ素有機アニオン塩類から選択される少なくとも１種を含む複数の塩とからなる樹脂組成物により構成し、初期及び経時にわたって放電余裕度を高めるようにした。例文帳に追加

An electric resistance adjusting layer 104, constituting the conductive member 101, is formed by thermoplastic resin containing at least polyamide elastomer and polyolefin block polymer and a resin composition formed by a plurality of salts containing at least one kind of salt selected from a group of perchlorate and at least one kind of salt selected from among a group of organic anion salts containing fluorine to increase degree of margin in discharge at initial time and with age. - 特許庁

その製法としては、ステンレス溶鋼中にＭｇ：０．０００５〜０．０５質量％を添加してＭｇ酸化物あるいはＭｇ硫化物を析出させ、通常の熱延−脱スケ−ル−冷延−焼鈍−脱スケ−ルを施した後、所定の表面粗さまで機械研磨により研削して、介在物中のＭｇを剥き出しにし、その上にフッ素樹脂塗装を施す。例文帳に追加

The method for manufacturing the same consists in adding 0.0005 to 0.05 mass % Mg into molten stainless steel to deposit Mg oxide or Mg sulfide and subjecting the stainless steel to ordinary hot rolling-descaling-cold rolling-annealing-descaling, then grinding by mechanical polishing to prescribed surface roughness to scalp the Mg in the inclusions and applying a fluororesin coating thereon. - 特許庁

低誘電率材料もしくは保護材料のいずれか一方または両方を含む絶縁材料を除去するための組成物であって、前記組成物は組成物の総質量１００質量％に対して、酸化剤１〜５０質量％と、フッ素化合物０．１〜３５質量％と、残部の水と、を含むことを特徴とする、絶縁材料除去用組成物である。例文帳に追加

The composition to remove an insulation material comprises both or either one of a low dielectric-constant material and/or a protective material, wherein 1-50 mass% of an oxidizing agent, 0.1-35 mass% of a fluorine-containing compound, and water for the rest are contained in a total composition of 100 mass%. - 特許庁

混合装置１０は、ＨＦタンク１１に貯留された５０％フッ化水素酸と、純水製造装置２１により生成された純水とを供給タンク１３に供給して所定の割合で混合し、供給タンク１３において混合された混合液を供給タンク１３の下流側に設置された半導体製造装置４５に供給する。例文帳に追加

A mixing apparatus 10 supplies a 50% hydrofluoric acid stored in an HF tank 11 and a pure water generated by a pure water producing device 21 to a feed tank 13, mixes by a predetermined ratio, and supplies the solution mixed in the feed tank 13 to a semiconductor manufacturing apparatus 45 set to the downstream side of the feed tank 13. - 特許庁

電子写真感光体の表面層として、JIＳ Ｂ０６０１における中心線平均表面粗さ(Ｒa)が５０Å〜５０００Åである、少なくともシリコン原子、水素原子、および窒素原子および/又は酸素原子を含む非単結晶材料からなる第１表面層の上に、少なくともフッ素を含む非単結晶炭素からなる第２表面層を積層させることを特徴とする。例文帳に追加

The surface layer of an electrophotographic photoreceptor is formed by laminating a 2nd surface layer 105 comprising non-single crystal carbons, containing at least fluorine on a 1st surface layer 104 having 50-5,000 Åcenter line average surface roughness Ra as stipulated by JIS B0601 and comprising a non-single crystal material containing at least silicon atoms, hydrogen atoms and nitrogen atoms and/or oxygen atoms. - 特許庁

非金属粉末中に非金属粉末に対して１０〜３７重量％のＴｉＯ_２と、２０〜６５重量％のフッ化物と、０．１〜１５重量％のＭｇＴｉＯ_３と、１〜３０重量％のＫ_２ＴｉＯ_３またはＣａＴｉＯ_３と、アークの安定とスラグの流動性を高める役割を果たすその他の酸化金属と、不可避不純物とを含有する。例文帳に追加

The non-metal powder contains, by weight, 10-37% TiO_2, 20-65% fluoride, 0.1-15% MgTiO_3, 1-30% K_2TiO_3 or CaTiO_3, other oxidized metal which performs a work for raising the stability of the arc and the flowability of the slug and inevitable impurities. - 特許庁

〔Ａ〕（ａ１）オキシラニル基を有する重合性不飽和化合物およびオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の重合性不飽和化合物と、（ａ２）前記（ａ１）以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体、〔Ｂ〕硬化剤、ならびに〔Ｃ〕特定のオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩を含有する。例文帳に追加

The composition comprises: [A] a copolymer of (a1) at least one kind of polymerizable unsaturated compound selected from a group consisting of polymerizable unsaturated compounds having an oxiranyl group and polymerizable unsaturated compounds having an oxetanyl group, and (a2) another polymerizable unsaturated compound excluding the compound of (a1); [B] a curing agent; and [C] a specified onium fluorinated alkyl fluorophosphate. - 特許庁

金属炭化物、金属窒化物、金属フッ化物との有機−無機ハイブリッドフィルム、また触媒や還元剤等を用いず、それらの除去を必要としない金属酸化物、金属硫化物との有機−無機ハイブリッドフィルム、さらに液晶ディスプレイまたは有機ＥＬディスプレイ等のプラスチック基板として有用な透明フィルム及びその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an organic-inorganic hybrid film with a metal carbide, a metal nitride and a meta fluoride, an organic-inorganic hybrid film with metal oxide and a metal sulfide unnecessary for removing them without using a catalyst, a reducing agent or the like and a transparent film useful as a plastic substrate of a liquid crystal display or an organic EL display, and its manufacturing method. - 特許庁

インクジェットヘッドのノズルプレート２８におけるノズル７０内に付着したシリコーン樹脂の被膜６９を除去する方法であって、ノズルプレート２８のインク供給面３１側に存在する活性化したフッ素を含むガスおよび活性化した酸素を、ノズルプレート２８のインク噴射面３２側から吸引することにより、ノズル７０内に流入させる構成とした。例文帳に追加

The method for removing a silicone resin film 69 adhering into a nozzle 70 on the nozzle plate 28 of an ink jet head is arranged such that a gas containing activated fluorine and activated oxygen existing on the ink supply surface 31 side of the nozzle plate 28 are sucked from the ink ejecting surface 32 side of the nozzle plate 28 and fed into the nozzle 70. - 特許庁

フッ素系樹脂基材層の片面もしくは両面にアンカーコート層、無機酸化物の蒸着薄膜層、ガスバリア性被膜層が順次積層された積層体において、ガスバリア性被膜層が、水溶性高分子と一種以上の金属アルコキシド及び／またはその加水分解物からなることを特徴とする、太陽電池モジュールバックシート用積層体例文帳に追加

The solar cell module backsheet laminate is characterized in that an anchor coat later, a vapor deposition thin film layer of inorganic oxide and a gas barrier coating layer are sequentially laminated on one side or both sides of a fluororesin base layer, and the gas barrier coating layer is constituted of a water-soluble polymer and at least one kinds of metal alkoxide and/or hydrolyzate thereof. - 特許庁

バリアー層となるフィルムとしては、セルロース系フィルム、ポリ乳酸系フィルム、フッ化エチレン系フィルム、ナイロン系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリビニルアルコール系フィルム、無可塑ポリ塩化ビニリデン系フィルム、無可塑塩化ビニール系フィルム、ポリイミド系フィルム、ポリウレタン系フィルムなどが好ましい。例文帳に追加

A cellulose-based film, a polylactic acid-base film, an ethylene fluoride-based film, a nylon-based film, a polyester-based film, a polyvinyl alcohol-based film, a nonplastic polyvinylidene chloride-based film, a nonplastic vinyl chloride-based film, a polyimide-based film and a polyurethane-based film are desirable as a film being the barrier layer. - 特許庁

多層プリント配線基板を構成する基板、接続ピン、絶縁層等の材料を環境、リサイクル性を考慮した材料としてポリカーボネート、ポリエチレン、ポリフェニレンサルファイド、フッ素樹脂等の熱可塑性樹脂、あるいは、脂肪族ポリエステル、セルロース混合物、乳酸、デンプン等の生分解性樹脂によって構成する。例文帳に追加

The materials for boards, connecting pins, insulating layers and the like, which constitute a multilayer printed wiring board, are constituted of a thermoplastic resin, such as a polycarbonate, a polyethylene, a polyphenylene sulfide and a fluororesin, or a biodegradable resin, such as an aliphatic polyester, a cellulose mixture, a lactic acid and a starch, as a material formed in consideration of a recycle property. - 特許庁

下記工程Ａ〜Ｃを備える金属フッ化物を含有する水溶液の処理方法： （工程Ａ）水酸化アンモニウムおよび／またはアンモニアを前記水溶液に添加する工程； （工程Ｂ）前記工程Ａにより生じた沈殿物を分離する工程；および （工程Ｃ）前記工程Ｂにより沈殿物を分離した水溶液を電気透析する工程。例文帳に追加

The treating method for the aqueous solution containing the metal fluoride comprises the following steps A to C. (step A) a step for adding ammonium hydroxide and/or ammonia to the aqueous solution; (step B) a step for separating the precipitate generated in the step A and (step C) a step for electrodialysing the aqueous solution separated from the precipitate in the step B. - 特許庁

ガスセンサの製造方法は、金属のフルオロ錯体と金属のフルオロ錯体からフッ素イオンを化学的に捕捉する捕捉剤とを含む処理液２２、または捕捉剤のみを含む処理液２２に、基板１２を接触させ、さらに処理液２２に金属のフルオロ錯体を添加しながら、金属の酸化物半導体膜を基板１２の上に析出させる工程を備える。例文帳に追加

The method of manufacturing gas sensor is provided with a process for bringing a substrate 12 into contact with a processing liquid 22, containing both metallic fluoro complexes and capturing agents for chemically capturing fluorine ions from the metal fluoro complexes or the processing liquid 22, containing only the capturing agent and making the metal oxide semiconductor film deposit onto the substrate 12, while adding the metallic fluoro complexes to the processing liquid 22. - 特許庁

薄膜の形成に使用した後の成膜装置の構成部材に堆積した窒化シリコン堆積物の少なくとも一部を除去するための成膜装置のクリーニング方法は、成膜装置（１１）内に、フッ素ガスを含む第１のガス（１２）と一酸化窒素ガスを含む第２のガス（１３）とを導入すること、および構成部材を加熱することを含む。例文帳に追加

The cleaning method of a deposition system for removing at least a portion of the silicon nitride deposit deposited on the constituent of the deposition system after using it for depositing a thin film includes: a step for introducing first gas (12) including fluorine gas, and second gas (13) including nitrogen monoxide gas into the deposition system (11); and a step for heating the constituent. - 特許庁

二酸化マンガンリチウム電池では、高温保存時、電解液中に含まれる遊離フッ素や電解液の分解による生成物によって負極リチウム表面に抵抗皮膜を形成するために電池の内部抵抗が上昇するため、高温保存時でも安定した内部抵抗を有する電池を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a battery with a stable inner resistance even at high-temperature preservation, in view of the fact that, in the case of a manganese dioxide lithium battery, an inner resistance of the battery rises because a resistance film is formed on the surface of an anode lithium by free fluorine contained in electrolyte solution or a product of electrolysis of the electrolyte solution at high-temperature preservation. - 特許庁

有機溶剤に対する溶解性や各種合成樹脂との相溶性に優れ、配合した場合の製品の安定性がよく、エポキシ樹脂等の改質剤や硬化剤として機能し優れた特性を発揮することができる含フッ素カルボン酸誘導体、およびこれを用いた硬化性樹脂組成物、ならびにこれを硬化してなる成形物を提供する。例文帳に追加

To provide a fluorine-containing carboxylic acid derivative which is excellent in solubility in an organic solvent and compatibility with various synthetic resins, gives a product excellent in stability when compounded thereinto, and functions as a modifier or a curing agent for an epoxy resin etc., exhibiting excellent characteristics; a curable resin composition using the carboxylic acid derivative; and a molded article prepared by curing the resin composition. - 特許庁

（Ａ）ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、（Ｂ）縮合リン酸エステル化合物２〜３０重量部、（Ｃ）フッ素樹脂０．０１〜５重量部及び（Ｄ）金属系繊維を含むポリカーボネート樹脂組成物であって、（Ｄ）金属系繊維の含有量がポリカーボネート樹脂組成物の５〜４０重量％であることを特徴とするポリカーボネート樹脂組成物。例文帳に追加

This polycarbonate resin composition comprises (A) 100 pts.wt. of a polycarbonate resin, (B) 2-30 pts.wt. of a condensed phosphate compound, (C) 0.01-5 pts.wt. of a fluororesin and (D) 5-40 wt.% of a metallic fiber per polycarbonate resin composition. - 特許庁

支持体上に少なくとも顔料を含有するインク吸収層を設け、該インク吸収層上に石油系高沸点溶剤により溶解又は膨潤するポリマーを塗工または含浸させてなる非水系インク用インクジェット被記録材料において、該顔料が硫酸バリウムである非水系インク用インクジェット被記録材料を提供することである。例文帳に追加

In the material to be recorded for ink jetting with the nonaqueous ink, which is formed by providing an at least pigment-containing ink absorbing layer on a support and coating or impregnating with a polymer dissolved or swollen by a petroleum high boiling solvent in the ink absorbing layer, a barium sulfate is employed as the pigment in the material. - 特許庁

ポリフッ化ビニリデン系高分子化合物を含有する高分子マトリックス、支持電解質、および少なくともリン酸エステル類を含有する電解液を含有し、かつ２５℃における粘度が２〜３０Ｐａ・ｓである溶液を、基板上に塗布したのち、乾燥処理することを特徴とするイオン伝導性フィルムの製造方法。例文帳に追加

A solution containing a polymer matrix containing a polyvinylidene fluoride system compound, a support electrolyte, and an electrolytic solution at least containing a phosphoric ester class and having a viscosity of 2 to 30 Pa s at 25°C is coated on a substrate, which is then put under a drying treatment. - 特許庁

成膜時における爆発を防止し、かつＣＦ_4のようなフッ化炭素ガスを別途供給することなく誘電率の低減、被覆性の向上を図ることができ、さらに反応生成物が真空容器の内壁に付着するのを防止することが可能なシリコン酸化膜の形成方法を提供しようとするものである。例文帳に追加

To provide a silicon oxide film forming method where explosion can be prevented when a silicon oxide film is formed, the silicon oxide film can be lessened in permittivity and improved in coverage without additionally supplying a carbon fluoride gas such as CF4, and furthermore reaction products can be prevented from being deposited on the inner wall of a vacuum vessel. - 特許庁

分子内に２個以上の水酸基を有するグリコールポリマーのような化合物と分子内に２個以上のイソシアネート基を有するトリレンジイソシアネートのような化合物との重付加物の網目構造内に電解質を保持するゲル体が、ポリフッ化ビニリデン膜のような高分子多孔質膜の空隙部内に充填されている固体電解質膜。例文帳に追加

In this solid electrolytic membrane, void parts in a macromolecular porous membrane such as a polyvinylidene fluoride membrane are filled with a gel material retaining an electrolyte in a network structure of a polyaddition compound of a compound such as a glycolic polymer having two or more hydroxyl groups in a molecule with a compound such as tolylene diisocyanate having two or more isocyanate groups in a molecule. - 特許庁

本発明のエッチング方法は、シリコンカーバイド基板とサファイアガラス窓部材との間にフッ化水素酸を含有する薄液層を介在させ、前記サファイアガラス窓部材側から前記シリコンカーバイド基板に向けてＸｅ_2^*エキシマランプ光とＡｒＦレーザー光とを照射することにより前記シリコンカーバイド基板の表面の少なくとも一部を除去することを特徴とする。例文帳に追加

The etching method comprises forming a thin liq. layer contg. hydrofluoric acid between a silicon carbide substrate and a sapphire glass window member, and irradiating the silicon carbide substrate with an Xe2* excimer lamp beam and an ArF laser beam from the sapphire glass window member, thereby removing at least a part of the surface of the silicon carbide substrate. - 特許庁

１０点平均粗さＲｚが０．３μｍ以上に調整されたアルミニウム合金製基材の表面に、有機ホスホン酸下地皮膜と、更にその上に形成された、乾燥後の平均膜厚が１〜１００μｍのフッ素樹脂塗料皮膜とを有する海水耐食性に優れたアルミニウム合金材。例文帳に追加

Disclosed is an aluminum alloy material having an excellent sea water corrosion resistance comprising an aluminum alloy substrate whose ten-points average surface roughness Rz is controlled at 0.3 μm or over, an organic phosphonic primer film formed on a surface of the aluminum alloy substrate, and a fluorine resin paint film formed on the primer film and having a dry average thickness of 1 to 100 μm. - 特許庁

本発明の二次電池用正極は、シュウ酸リチウムとフッ化鉄とを混合し、その混合物を２００℃以上４００℃以下で加熱し、得られた生成物を電極活物質として用いて電極を作製し、前記電極と対極（負極）との間で充放電を行うことによって製造されたことを特徴とする。例文帳に追加

A positive electrode for a secondary battery of the present invention is produced by the following steps: lithium oxalate and iron fluoride are mixed; a mixture thereof is heated at 200°C or more and 400°C or less; an electrode is made by using the resulted product as an electrode active material; and charging and discharging are performed between the electrode and a counter electrode (a negative electrode). - 特許庁

ガラス基板１の表面の一部に被覆層２を形成し、フッ酸を含有するエッチング液で処理することにより、被覆層が形成された部分以外のガラスの表面をエッチングし、その後被覆層を除去することにより、基板表面が所定の形状にパターニングされたＦＰＤ用ガラス基板を製造する。例文帳に追加

The glass substrate for the FPD, on whose substrate a prescribed pattern is formed, is manufactured by forming a coating layer 2 on a part of the surface of a glass substrate 1, then treating the coated glass substrate 1 with an etching solution containing hydrofluoric acid so as to etch the glass surface except the part where the coating layer has been formed, and removing the coating layer. - 特許庁

証票印刷物に仕込むコバルト（ＩＩ）イオンはマスキングされづらいが、前記イオンはマスキングしやすいエチレンジアミン四酢酸ナトリウム水溶液を含浸したろ紙で前もって払拭しおいて、外的に付着した鉄（ＩＩ）イオン当のイオンをキレート金属にしてマスキング処理することでコバルト（ＩＩ）イオンによるルミノール反応を行うことで真偽判断の正確性を向上する。例文帳に追加

Cobalt (II) ions penetrated into a printed matter for a voucher are not easily masked, but when the cobalt (II) ions are previously wiped out by filter paper into which sodium ethylenediaminetetraacetate solution allowed to be easily masked is impregnated to mask ions such as externally stuck iron (II) ions as chelate metals, the accuracy of authenticity determination is improved by performing the luminol reaction using cobalt (II) ions. - 特許庁

試料が含む色素は、フッ素樹脂とアナターゼ型酸化チタン光触媒粉が重量比で３：１になるようにされた光触媒層に試料を塗布して、２５００μＷ／ｃｍ^２の紫外線を１時間照射した場合における紫外線照射前後の色差ΔＥの変化率が２０％以上となるように脱色されるものとする。例文帳に追加

The pigment contained in the sample is decolorized so that variation rate of the color difference ΔE before and after ultraviolet emission is 20% or more, when the sample is applied to the photocatalyst layer where the weight ratio of fluorocarbon resin to anatase type titanium oxide photocatalyst powder is set to 3:1 and ultraviolet rays of 2500 μW/cm^2 are emitted for one hour. - 特許庁

撥液基を備えた光分解性基と、前記光分解性基に官能基（カルボキシ基、スルホ基）を介して連結された付着基（クロロシリル基又はアルコキシシリル基）とを有し、撥液基が末端にフッ化アルキル鎖を有するものであり、官能基が光分解後に水酸基を残基とするものである光分解性カップリング剤を形成する。例文帳に追加

This photodegradable coupling agent comprises a photodegradable group with a liquid-repelling group, an attaching group (chlorosilyl or an alkoxysilyl group) bonded with the photodegradable group through a functional group (carboxyl or sulfo group), wherein the liquid-repelling group has a fluorinated alkyl group at its terminal and hydroxy group is formed as a residue after the photodegradation of the functional group. - 特許庁

ＲＥＢａ_２Ｃｕ_３Ｏ_ｙ系（ＲＥ１２３系）超電導体の前駆体膜の形成に要する加熱処理時間を大幅に短縮することができるとともに、出発原料の金属有機酸塩がフッ素を含むと否とにかかわらず、厚みが２μｍを超える厚膜で、かつ、高い臨界電流を有するＲＥ１２３系超電導テープ線材が得られること。例文帳に追加

To provide an RE123-based superconductive tape wire capable of remarkably reducing a heating process time required for forming a precursor film of an REBa_2Cu_3O_y-based superconductor, being a thick film having a thickness over 2 μm and having a high critical current regardless of whether or not a metal organic salt of a starting material contains fluorine. - 特許庁

トレンチを埋める形状でありＳｉＯ_2を材料とする複数の埋め込み層を形成し（工程Ｓ１０，Ｓ１４，Ｓ１８）、その周辺にＳｉＣを材料とするｎ型エピ層，ｐ型エピ層，ｎ型ソース領域を形成し（工程Ｓ１２，Ｓ１６，Ｓ２０，Ｓ２２）、フッ酸エッチングにより各埋め込み層をエッチングして（工程Ｓ２４）、ｎ型ソース領域２０の表面からｎ型エピ層１２に達するトレンチを形成する。例文帳に追加

A plurality of SiO2 buried layers having trench filling-up shapes is formed (steps S10, S14, S18) and n- and p-type SiC epitaxial layers and an n-type SiC source areas are formed in the circumferences of the buried layers (steps S12, S16, S20, and S22). - 特許庁

［Ａ］炭素数５〜２１の直鎖状のアルキル基が結合している炭素原子と共に、核原子数４〜２０の２価の脂肪族環状炭化水素基又は脂肪族複素環基を側鎖に有するアクリル構造単位（Ｉ）を有する含フッ素重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。例文帳に追加

The radiation-sensitive resin composition comprises: [A] a fluorine-containing polymer having an acrylic structural unit (I) which has a divalent aliphatic cyclic hydrocarbon group or an aliphatic heterocyclic group having 4 to 20 core atoms in a side chain together with a carbon atom to which a straight-chain alkyl group having 5 to 21 carbon atoms is bonded; and [B] a radiation-sensitive acid generator. - 特許庁

下部電極38への不純物の注入の際のレジストマスクをプラズマアッシングして剥離した後に、第１の絶縁膜41の表面に入ったダメージ層を除去する希フッ酸処理をすることにより、第１の絶縁膜41中のゲート絶縁膜部43にダメージがないため薄膜トランジスタ23の特性劣化は発生しない。例文帳に追加

After a resist mask for the injection of impurities into the lower electrode 38 is peeled by plasma ashing, dilute hydrofluoric acid processing for removing a damage layer formed in the surface of a 1st insulating film 41 is carried out and then a gate insulating film part 43 in the 1st insulating film 41 has no damage, so the thin film transistor 23 has no characteristic deterioration. - 特許庁