「パーチ」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

光源１３１から出力された屈折率変化誘起光は、光アッテネータ１３２により所定の減衰が与えられ、アパーチャ１３３により所定の光束幅とされ、ミラー１３４により反射される。例文帳に追加

Refractive index variation inducing light outputted from a light source 131 is given a prescribed attenuation by an optical attenuator 132, given a prescribed optical flux width by an aperture 133, and is reflected by a mirror 134. - 特許庁

照明光学系は、その光軸ＡＸを結像光学系と共有する同軸落射照明を行うものであり、対物レンズ２０とアパーチャ２６とを有している。例文帳に追加

The illuminating optical system is to carry out coaxial falling illumination which shares its optical axis AX with the image forming optical system, and has an objective lens 20 and an aperture 26. - 特許庁

超音波イメージング・システムにおいてライン間画像歪みが検査対象におけるオクルージョンの存在によって生じるアパーチャ・シェージングを推定することによって削減される。例文帳に追加

To reduce image distortion between lines by estimating aperture shading generated by the presence of occlusion in an object to be examined in an ultrasonic imaging system. - 特許庁

前側伸延部材１２Ａと後端部材１２Ｂとに分割されたアッパーチューブをヘッドパイプ１０の下方からピボット部１８ａに向けて後方に伸延させる。例文帳に追加

An upper tube split into a front elongation member 12A and a tail member 12B is extended from below a head pipe 10 backward to a pivot part 18a. - 特許庁

アパーチャグリル２は、イメージセンサ１とマイクロレンズアレイ３の間に配置され、イメージセンサ１の開口部とマイクロレンズアレイ３の微小レンズとの光軸に沿った光を透過する。例文帳に追加

An aperture grille 2 is disposed between the image sensor 1 and the micro-lens array 3, and adapted to transmit light along the optical axis of the apertures of the image sensor 1 and the micro-lenses of the micro-lens array 3. - 特許庁

この放射アパーチャを形成する端部は、誘電材料で構成されたロッドにフィットされ、このロッドは、導波管１に部分的に挿入２、３される。例文帳に追加

An end portion forming the radiation aperture is fitted to a rod constituted of a dielectric material, and the rod is partially inserted 2, 3 into the waveguide 1. - 特許庁

ガラスバルブ１の外面に於けるアパーチャ３を除く部分には、外部電極４、５を覆って可視光反射率が０％を越えて３０％以下の物質６が設けられている。例文帳に追加

A substance 6 which has visible light reflectivity of over 0% and 30% or less, covering the external electrodes 4, 5, is arranged at the portion excluding the aperture 3 on the outer surface of the glass bulb 1. - 特許庁

そして、前記平坦面３８をカメラのフイルムガイドレール２０に当接させるとともに、前記凸状の光学部材をカメラのアパーチュア２６内に収納し、箱体３２の背後から圧板１０で押圧する。例文帳に追加

Then, the surface 38 is allowed to abut on the film guide rail of the camera and the protruding optical member is housed in the aperture 26 of the camera and pressed by a pressing plate 10 from the back of the box 32. - 特許庁

直接照明として、管径の小さな無水銀の外部電極型で指向性の強いアパーチャ型の冷陰極管を搭載したので、長寿命で環境負荷の低い薄型の車内用照明装置とすることができる。例文帳に追加

As an aperture type cold cathode tube with strong directivity which is a no-mercury exterior electrode type with a small tube diameter is mounted as a direct lighting, the thin vehicle-interior lighting system low in an environmental load with a long lifetime can be realized. - 特許庁

そして、アパーチャ３を透過した０次回折光が凸シリンドリカルレンズ４でコリメートされ、所望幅の均一強度分布の照明光とされて投光される。例文帳に追加

Then, the 0th diffracted light passing through the aperture 3 is collimated in a convex lens 4 to be made an illuminating light having the uniform intensity distribution of a desired width and it is projected to the outside. - 特許庁

管１と完全にかみ合う状態に折り曲げられた場合、リテイナ１９および２０の向かい合った側のバネレバー４４がアパーチャーのレッジ３０の下にかみ合う。例文帳に追加

In the case of being bent in the completely engaged state with the pipe 1, spring levers 44 on the facing side of the retainers 19, 20 are engaged with the lower side of the ledge 30 of the aperture. - 特許庁

測定装置に配置された電子銃のアパーチャを通過した平行電子線ＥＳＷは、シャワー状に半導体ウエハの表面に照射され、この照射に伴って基板電流Ｉｋが発生する。例文帳に追加

Parallel electron beams ESW passing the aperture of an electron gun arranged in a measurement device are made to radiate in the shape of shower on the surface of a semiconductor wafer, and substrate current Ik is generated with this radiation. - 特許庁

ビーム制限アパーチャの寿命を延ばし、エミッションを長時間安定に維持することができ、再現良く安定な状態に回復することができる液体金属イオン銃を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid metal ion gun which is able to stably maintain emission over a long period, by prolonging the lifetime of a beam restricting aperture and can recover to a stable state, with proper reproducibility. - 特許庁

スーパーチャージャ用ロータ１１のプロファイル部１１ａを分割可能に囲む複数のプロファイル部分割金型１２と、ロータの両端部１１ｂを囲む一対の端部金型１４、１５とを備える。例文帳に追加

The apparatus provides a plurality of profile part split metal mold 12 separably surrounding a profile part of the rotor 11 for the supercharger and a pair of end part metal molds 14, 15 surrounding end parts 11b of the rotor. - 特許庁

そして、コリメートレンズ１０の移動に伴ってレーザ光の光路との交差点が移動する範囲には、コリメートレンズ１０に近接した端の幅が狭く他端の幅が広いスリット状のアパーチャが形成されている。例文帳に追加

In the range where the crossing point of the light path and the laser beam moves as the collimator lens 10 moves, a slit aperture is formed having the width narrower at the end close to the collimator lens 10 and wider at the other end. - 特許庁

アパーチャと検出器が各サブビームの光路にある状態で、各検出器が受ける放射の量を比較することによって、基板が焦点にあるかを検出することが可能である。例文帳に追加

With an aperture and a detector in a light path of each of the sub-beams, it is detected whether the substrate is in focus by comparing an amount of radiation received by each of the detectors. - 特許庁

電子ビームＥＢは、収束用の電子レンズや各種の偏向器や成形アパーチャ等（図示せず）を介する電子光学系１２、さらにマスク１３を介して露光ステージ１６に支持された基材１７に照射される。例文帳に追加

The electron beam EB is projected through an electron optical system 12 comprising a converging electron lens, various deflectors and a shaping aperture (not shown), and through a mask 13 to a substrate 17 supported on an exposure stage 16. - 特許庁

羽根群３によるアパーチャ２ａの開放後（およびミラーアップ後）は演算回路および表示装置を除く他の回路ブロック等への電源供給を遮断し、省電力動作する。例文帳に追加

After opening of an aperture 2a by the blade group 3 (and after mirror up), power supply to other circuit blocks, etc. except an arithmetic circuit and a display device is interrupted and power saving operation is performed. - 特許庁

より効果的なナリング能力を提供するために要素数をあまり増加させずにナリング・アンテナのアパーチャを増加するナリング直接放射アレー３０。例文帳に追加

To obtain a nulling direct radiation array 30 for increasing the aperture of a nulling antenna without increasing the number of elements so much in order to provide more effective nulling capability. - 特許庁

圧縮率を変更した場合や被写体が変化した場合にノイズが生じない最適な復号画像を得ることができるネットワークカメラのアパーチャ補正方法及びネットワークカメラを提供する。例文帳に追加

To provide an aperture correction method for a network camera capable of obtaining an optimum decoded image causing no noise when a compression rate is revised and an object is changed and to provide the network camera. - 特許庁

キャビティプレート２２、ベースプレート２３、アパーチャプレート２４、及びサプライプレート２５を拡散接合で接合して上側構造体６１を形成する。例文帳に追加

An upside structure 61 is formed by joining a cavity plate 22, a base plate 23, an aperture plate 24 and a supply plate 25 through diffusion joining. - 特許庁

フレームの反対側の境界遮蔽材はテンションマスクの活発なアパーチャ部分に向けて延在し、ＣＲＴのスクリーンマトリックス（２８）と実質的に整列される。例文帳に追加

A boundary shielding material on the opposite side of a frame is extended toward an active aperture part of the tension mask, and practically arranged in a line with a screen matrix 28 of a CRT. - 特許庁

決定した経路の順序にしたがって、一つのＣＰアパーチャマスク上のキャラクタに電子ビームを偏向し、キャラクタに電子ビームを照射する（Ｓ１０４）。例文帳に追加

According to the order of the decided path, an electron beam is deflected to a character on one CP aperture mask, and the character is irradiated with the electron beam (S104). - 特許庁

ビーム露光装置のパターン規定デバイスまたはアパーチャアレイからなるパターン規定デバイスを備えた粒体光学システムで証明ビームを改良する。例文帳に追加

To improve a verification beam by using a particle optics system provided with a pattern definition device for a beam exposure system, or a pattern definition device comprising an aperture array. - 特許庁

光源部としての光源ユニット４８の半導体レーザと、振動ミラー８５との間でかつシリンダレンズ３８と振動ミラー８５との間に絞り部としてのアパーチャ１３０が設けられている。例文帳に追加

An aperture 130 being a diaphragm part is provided between a semiconductor laser of a light source unit 48 being a light source part and an oscillation mirror 85, and at the same time between a cylinder lens 38 and the oscillation mirror 85. - 特許庁

非点補正器９は、アパーチャー５の両側にＳ１とＳ２の各１個が配置され、偏向に伴って発生する偏向非点収差、ハイブリッド非点歪みを除去する。例文帳に追加

Each astigmatic corrector 9 is arranged at the both sides of the aperture 5 as S1 and S2 so that any deflection astigmatism and hybrid astigmatic deviation generated accompanied by the deflection can be removed. - 特許庁

スライドレバーに衝撃荷重が作用してもスライドレバーが上回動されないようにして、アッパーチャンネルのロック解除を未然に防止できるようにする。例文帳に追加

To prevent a lock of an upper channel from being released even when an impact load acts on a slide lever by preventing the slide lever from being turned upward. - 特許庁

電子写真プリントで周知の「集束イオン流」の原理を応用し、スポットサイズと比べてアパーチュアを大きく形成できる、電子ディスプレイ装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electronic display device capable of forming an aperture largely in comparison with a spot size, by applying a well-known principle 'focused ion flow' in an electrophotographic printing. - 特許庁

レーザー光源１からのエキシマレーザ光１６は、成形光学系２、エネルギー調整光学系３、アパーチャ４、ビームスプリッター５を通り、参照光１７は光量モニタセンサ９に受光される。例文帳に追加

An excimer laser beam 16 from a laser beam source 1 passes through a forming optical system 2, an energy adjusting optical system 3, an aperture 4, and a beam splitter 5, and reference light 17 is received by a light quantity monitor sensor 9. - 特許庁

多重化回路１１０は、エンコーダ１０９で圧縮符号化された画像データにアパーチャ制御情報を多重化し、画像出力部１２１へ出力する。例文帳に追加

A multiplexing circuit 110 multiplexes the aperture control information image data compressively encoded by the encoder 109 and outputs the image data multiplexed with the aperture control information to an image outputting part 121. - 特許庁

独立して調整可能な電場は、より大きな光学的アパーチャを提供でき、非点収差を補正し、かつ磁場に平行及び／又は垂直な方向にビームを偏向するように使用可能である。例文帳に追加

The independently adjustable electric field can provide a larger optical aperture, and be used to correct astigmatism and to deflect the beam in a direction parallel and/or perpendicular to a magnetic field. - 特許庁

照射系（１４０）と、アパーチャアレイ（１１７）と、複数のクロスオーバーを形成するレンズアレイ（１１９）と、複数の開口を備えた素子（１２２）と複数の投影ユニットとを含む投影系（１７０）と、を有する。例文帳に追加

A lithography apparatus includes: an irradiation system (140); an aperture array (117); a lens array (119) forming a plurality of crossovers; and a projection system (170) including an element (122) having a plurality of openings and a plurality of projection units. - 特許庁

Ｍｏを添加した特定組成の鋼板のミクロ組織の分率を制御することにより、高温降伏強度を高め、かつ加工性の良好なアパーチャーフレーム鋼板を得る。例文帳に追加

To obtain an aperture frame steel sheet increased in high temp. yield strength and moreover good in workability by controlling the fractional ratio of the microstructure of a steel sheet having a specified compsn. added with Mo. - 特許庁

レンズ１４を筐体１７に位置決めすると共に、レンズ１４の周縁領域で発生する収差の影響を除去し、レンズ有効径を決めるリング状のレンズアパーチャ１３がレンズ１４の近傍に設けられている。例文帳に追加

The lens 14 is positioned at a case body 17, and the influence of aberration generated in the peripheral edge area of the lens 14 is removed, and a ring- shaped lens aperture 13 for deciding the valid diameter of the lens is arranged near the lens 14. - 特許庁

マスクがマスク保持部に対して高い位置精度で搭載され、且つアパーチャブレードによる遮光精度を向上させることができるマスク装着方法及び露光装置ユニットを提供する。例文帳に追加

To provide a mask attaching method and an exposure apparatus unit in which a mask can be attached to a mask holding section at high positional accuracy and the accuracy of light shielding by an aperture blade can be enhanced. - 特許庁

上記駆動制御装置２６が、エキスパンダレンズユニット１８Ｒ・１８Ｇ・１８Ｂを駆動、またはアパーチャ２１Ｒ・２１Ｇ・２１Ｂを回転させることで、ビーム径を調整する。例文帳に追加

The driving controller 26 adjusts a beam diameter by driving expander lens units 18R, 18G and 18B or rotating apertures 21R, 21G and 21B. - 特許庁

検査者による煩雑な目視検査により行われていたアパーチャグリルの欠陥の検出を、比較的簡単な構成および動作により行うことができる検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide an inspecting device capable of detecting a defect of an aperture grill, which has been performed by a complicated visual inspection by an inspecting person, in relatively simple structure and operation. - 特許庁

好ましくは、アパーチャ（１４０）のアレーを有する有孔グリッドの形式であるコリメータ素子（９０）は、Ｘ線源（１０）とＸ線撮影すべき物体（８０）との間に挿入される。例文帳に追加

A collimating element (90), preferably in the form of a perforated grid containing an array of apertures (140), interposed between the x-ray source (10) and an object (80) to be x-rayed. - 特許庁

内側部材は、円筒壁（６７）と、円筒壁に形成された細長いスロット（７０）とを有し、そのスロットによってアパーチャの少なくとも一部が画成されるようにする。例文帳に追加

The inner member is provided with a cylindrical wall (67) and a narrow slot (70) formed in the cylindrical wall, wherein at least a part of the aperture is made to be defined by the slot. - 特許庁

そして、演算部３０によって輝度データＹ′と前記読み出された傾きデータａ及び切片データｂとから一次式を演算し、アパーチャゲインgainを算出する。例文帳に追加

Then an arithmetic section 34 calculates a linear expression from the luminance Y' and the gradient data (a) and the intercept data (b) read from the memory 32 to calculate an aperture gain (gain). - 特許庁

薄板状のカンチレバー型の導電性の接触子は、絶縁ハウジングのアパーチャ又はスロットにおいて、接触相手の薄板状のカンチレバー型の導電性の接触子と接触させるため、設けることができる。例文帳に追加

The thin cantilever-type conductive contactor can be mounted to be kept into contact with the mating thin cantilever-type conductive contactor in an aperture or slot of an insulating housing. - 特許庁

コストアップを伴うことなく、複数のビーム波長に対して単一のアパーチャによってビーム径を最適化することができる光走査装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an optical scanner in which a beam diameter is optimized for a plurality of wavelengths with a single aperture without increasing cost. - 特許庁

スペクトル純度フィルタは、極端紫外線を透過させ、かつ第２のタイプの放射の透過を抑制するために複数のアパーチャを有するフィルタ部分を含む。例文帳に追加

The spectral purity filter includes a filter part having a plurality of apertures to transmit extreme ultraviolet radiation and to suppress transmission of a second type of radiation. - 特許庁

本発明のビームプロファイルモニターは，ビームスイープ手段と，アパーチャーと，ビーム検出手段と，台形波形取得手段と，ビームプロファイル取得手段とビーム照射積算プロファイル取得手段を有する。例文帳に追加

The beam profile monitor has a beam sweep means, an aperture, a beam detection means, a trapezoidal waveform acquisition means, a beam profile acquisition means, and a beam irradiation integration profile acquisition means. - 特許庁

ガタ取り機構４９は、アッパーチューブ２４に形成された貫通孔２４ａを通してロアーチューブ２５の外周を押圧する押圧部材４８を含む。例文帳に追加

A play eliminating mechanism 49 includes a pressing member 48 pressing the outer periphery of a lower tube 25 through a through hole 24a formed in the upper tube 24. - 特許庁