「パーチ」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

成形形態にある、硫黄含有ポリマーを含み電気伝導性の予備成形組成物、およびアパーチャをシールするための、成形形態にある予備成形組成物の使用が開示される。例文帳に追加

The electrically conductive preformed composition comprising a sulfur-containing polymer in shaped form and the use of the preformed composition in shaped form to seal an aperture are disclosed. - 特許庁

開口を通過した微細ビームを小電圧で大きな偏向の可能なブランキング・アパーチャー・アレイ（ＢＡＡ）を有する荷電ビーム露光装置の実現。例文帳に追加

To realize a charged particle beam exposure system which is provided with a blanking aperture array(BAA) to enable a fine beam which passes through an aperture to be much deflected with a small voltage. - 特許庁

アパーチャ部材を予め弓状に加工せずに迷光の悪影響を低減することができ、その組み立てが容易であるレーザ光照射ユニットを提供する。例文帳に追加

To provide a laser beam irradiation unit which can reduce the adverse effect of stray light without preliminarily making an aperture member into a bow shape and is easily assembled. - 特許庁

基板表面の一部を、パーチクルカウンターを使用して測定し（段階１０）、基板表面上の複数のポイントに対応する第１測定値を提供する（段階２０）。例文帳に追加

The part of the surface of a substrate is measured using a particle counter (stage 10) and a first measured value, corresponding to a plurality of points on the surface of the substrate, is provided (stage 20). - 特許庁

電子線の偏向量を（Ｘ_ｉ，Ｙ_ｊ）（ｉ＝１〜128，ｊ＝１〜128）とし、そのときにブランキングアパーチャ１２に流れる電流をＩ（Ｘ_ｉ，Ｙ_ｊ）とする。例文帳に追加

It is assumed that a deflection amount of an electron beam and a current then flowing through a blanking aperture 12 are (X_i, Y_j) (i=1 to 128, j=1 to 128) and I(X_i, Y_j), respectively. - 特許庁

シャドウマスクやアパーチャグリルに微細透孔が良好に形成されているかどうかを検査する場合に、検査に要する時間と手間を低減でき、構成も簡単で操作も簡易である透過率測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide a transmittivity measuring apparatus which can reduce the time and labor required for inspecting as to whether the fine through-holes are formed satisfactory in a shadow mask or aperture grill, has a simple constitution and is easy to operate. - 特許庁

従来のスペクトル純度フィルタの問題は、あまりにも小型であるため、アパーチャの作成に利用可能な製造オプションが限られているおよび／または高価であるということである。例文帳に追加

There is a problem in a conventional spectral purity filter that since the filter is too miniaturized, manufacturing options usable for the preparation of an apertures are restricted and/or expensive. - 特許庁

粒子ビーム処理または検査装置用のマルチビームパターン定義装置３００は、荷電粒子ビームを発生し、複数のアパーチャを通過させた後に、ターゲット上に結像されるビームレットを形成する。例文帳に追加

A multi-beam pattern definition device 300 for use in a particle-beam processing or inspection apparatus is configured to irradiate a beam of electrically charged particles, allow passage of the beam through a plurality of apertures, and then form beamlets which are imaged onto a target. - 特許庁

巻き上げ側スプール１２がモータ駆動力により回転させられると、ブローニフィルムは供給側フィルムローラ１３，アパーチャー２１，巻き上げ側フィルムローラ１１を介して巻き上げられる。例文帳に追加

When a winding side spool 12 is rotated by the driving force of a motor, the Brownie film is wound through the roller 13, the aperture 21 and a winding side film roller 11. - 特許庁

照射場の大きさを連続的に変化させることができ、照射場を縮小して照射アパーチャが拡大するような、集束−対物−単一視野レンズ用の簡潔な照射システムを提供する。例文帳に追加

To provide a simple illumination system for a single sight condenser- objective lens that may continuously change the size of an illumination field, and make the illumination aperture seem to be enlarged by reducing the illumination field. - 特許庁

トリムアパーチャ３を透過したビームは内径の小さいレンズ４により、光軸から離れたビームほど距離に比例するよりも大きな角度で曲げられる。例文帳に追加

Beams transmitted through the trim aperture 3 are bent at an angle that is larger than a value proportional to distance as the beams are farther from a light axis by a lens 4 having a small internal diameter. - 特許庁

突出部８０は、副マニホールド５ａの延在方向に沿って千鳥状に配列していると共に、連通孔６８及びアパーチャ１３を介して圧力室１０と連通している。例文帳に追加

The protrusions 80 are arranged in a staggering form along an extension direction of the sub manifolds 5a, and at the same time communicate with the pressure chambers 10 via communication holes 68 and apertures 13. - 特許庁

色選別手段（アパーチャグリル）を陰極線管のガラスパネル内に支持する色選別支持装置の改良により熱膨張時の動きを抑えてビームランディングの温度ドリフトを低減させる。例文帳に追加

To reduce beam landing temperature drift by improving a color selection supporting apparatus to support a color selection measure (aperture grill) inside a glass panel of a cathode-ray tube and controlling movement at the time of thermal expansion. - 特許庁

アパーチャ部の径および形状を正確に測定することができる面発光型半導体レーザの検査方法および面発光型半導体レーザの検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for checking a surface emitting type semiconductor laser capable of accurately measuring a diameter and a shape of an aperture part. - 特許庁

マスクがマスク保持部に対して高い位置精度で搭載され、且つアパーチャブレードによる遮光精度を向上させることができる露光装置及びそのマスク装着方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus capable of attaching a mask to a mask holding section at high positional accuracy and enhancing the accuracy of light shielding by an aperture blade, and to provide a mask attaching method therefor. - 特許庁

偏向器７、８は、マスク３の所定の位置から出発した電子線が所定の電子線の偏向軌道１１上に乗って、散乱アパーチャー５を通過しウェハ４の所定の位置に結像するように電子線を偏向させる。例文帳に追加

Deflectors 7, 8 so deflect the electron beam that the electron beam started from a predetermined position of the reticle 3 proceeds on its predetermined deflecting trajectory 11 and passes a scattering aperture 5 to be imaged on a predetermined position of a wafer 4. - 特許庁

該ファン(40)はハウジング(10)内の入口アパーチャ(33)を通じてチャンバ(13)内に空気を引き込み、この空気はモーター(11)を冷却するためにそれを通過するように方向づけられる。例文帳に追加

A fan 40 draws in air into the chamber 13 through the inlet aperture 33 within a housing 10, and this air is directed to pass so as to cool the motor 11. - 特許庁

高輝度でライン状の光軸を持ち、赤、緑、青の３波長についてそれぞれ独立した光源１により構成された光源ユニットを、アパーチャ３と反射板４を兼ねた筐体２中に収納する。例文帳に追加

A light source unit composed of light sources 1 which have high luminance and a line-shaped optical path and are respectively independent about three wavelengths of red, green and blue is housed in the housing 2 also operating as an aperture 3 and a reflector 4. - 特許庁

ターゲット３とＸ線光学系６の間に、ターゲット３から所定距離離れた位置に所定幅の開孔をもち開孔をＸ線が通過する空間アパーチャー５を配置した。例文帳に追加

A space aperture 5 is provided between a target 3 and a X-ray optical system 6, with an preset-width opening hole located a given distance apart from the target 3, through which a X-ray passes. - 特許庁

ＬＥＤ２６からの直接光及び反射筒６による反射光の光束は、アパーチャ１０の制限開口部４０によって制限され、この制限された光束は、結像レンズ８によって照射面４２に結像される。例文帳に追加

Direct light from the LED 26 and a luminous flux of reflected light with the reflective tube 6 are limited with the limited opening 40 of the aperture 10, and the limited light flux is imaged on an irradiation surface 42 with the imaging lens 8. - 特許庁

コンピュータ装置は、ビームの操作と同時に、ビームの正確な移動制御と、連続的角度操作を実行するための電動アパーチャの制御された動きと、制御された支持構造体の動きと、画像データ処理を実行する。例文帳に追加

The computer device executes the exact movement control of the beam, the controlled movement of a motor driven aperture for executing the continuous angular operation, the movement of the controlled supporting structure and image data processing. - 特許庁

よって、ガス排気アパーチャー１７の直上では、真空度は１[Pa]以上（圧力１[Pa]以下）に保たれており、レチクルチャンバー５内は、１０^-4[Pa]程度の真空度が保たれている。例文帳に追加

Therefore, the vacuum level immediately above the aperture 17 is maintained at 1 Pa (≤1 Pa in pressure) or higher, and that in a reticle chamber 5 is maintained at about 10-4 Pa. - 特許庁

本圧板装置は、アパーチャ部上のフィルムに圧接し、その平面を保たせるための装置であり、圧板１１と、圧板１１に対して弾性変形による付勢力を与える圧バネ１２とからなる。例文帳に追加

This film pressure plate device is a device which is pressed against a film on an aperture part to keep its plane and composed of the pressure plate 11 and the pressure spring 12, which applies an energizing force by the elastic deformation to the pressure plate 11. - 特許庁

フィルム部はフリクションローラ１４の位置で定荷重が与えられるため、アパーチャーで走行方向に張力が生じ、平面性を確保することができる。例文帳に追加

Since constant load is applied to the film part at the position of the roller 14, the tensile force is generated in a traveling direction in the aperture, so that the flatness of the film part is secured. - 特許庁

多数回使用されるセルの内部のパターン（図４（ｂ）の斜線部）に対してのみアパーチャを用いた一括転写を行い、セルの周辺部（図４（ｃ）の斜線部）は従来の可変成形ビーム描画を行う。例文帳に追加

Only a pattern (shaded parts in Figure 4 (b)) inside a cell which is frequently used is collectively transferred through an aperture, and a peripheral part of the cell (shaded parts in Figure 4 (c)) is transferred through a usual variable formation beam drawing. - 特許庁

光３２の幅Ｗ２が従来の幅Ｗ１より狭まることで、アパーチャグリルの最外端のスリットの形状がどのような形状になろうとも、カラー蛍光面の品位に対する影響を低減することができる。例文帳に追加

As a width W2 of the light 32 is reduced in comparison with a conventional width W1, influence on the quality of the color fluorescent screen can be reduced without respect to the shape of the slit in the outermost end of the aperture grill. - 特許庁

低コストかつ高精度なＸ線ＣＴシステムにおけるアパーチャの位置調整機構を実現し、安定してＸ線断層像を再構成することを可能ならしめるガントリ装置およびその制御方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a gantry and a control method thereof which enables the stable restructuring of X-ray tomograms by realizing a position adjusting mechanism of apertures in an X-ray CT system with a less cost and a higher accuracy. - 特許庁

光走査装置における「光路屈曲用ミラーの反射面の向きの経時的な変化による光束とアパーチュアの位置関係のずれ」を有効に防止する。例文帳に追加

To effectively prevent the relative deviation of positions of a luminous flux and an aperture due to a secular change in the direction of the reflection face of a mirror for deflecting an optical path in an optical scanner. - 特許庁

空気導入シュラウド内の複数の空気導入アパーチャは、燃料ノズルの内部に導入される空気を該燃料ノズルの内部の周りに回転状態で旋回させるように配置することができる。例文帳に追加

A plurality of air admission apertures in the air admission shroud could be arranged to cause the air being admitted into the interior of the fuel nozzle to swirl around the interior of the fuel nozzle in a rotational fashion. - 特許庁

前記ウェーハ検査装置によって測定された前記欠陥の位置が前記ウェーハのベイカンシ−リッチ領域に該当するなら、前記欠陥の種類がパーチクルでないと判定する。例文帳に追加

If the position of the defect measured with the wafer inspection device agrees with a vacancy-rich region of the wafer, the kind of the defect is determined as being not particles. - 特許庁

幅方向及び高さ方向の所定の位置に中心を有し前後方向に貫通された径の異なるアパーチャを複数の同形のブロックのそれぞれに設ける。例文帳に追加

Apertures, which have the center in a prescribed position in the width and the height direction and which are penetrated in the front and the rear direction with different diameters, are installed in each of the plural blocks of the same shape. - 特許庁

本カメラは、アパーチャ１１ｄ，スプール室１１ｂ，パトローネ室１１ａを開閉する後蓋１３を有しており、後蓋１３の支持軸１４側に電池２１を収納する電池室１３ａが配置されている。例文帳に追加

This camera has a back cover 13 opening/closing an aperture 11d, a spool chamber 11b and a cartridge chamber 11a, and a battery chamber 13a in which a battery 21 is housed is arranged on the supporting shaft 14 side of the cover 13. - 特許庁

光源１３１から出力された屈折率変化誘起光は、光アッテネータ１３２により所定の減衰が与えられ、アパーチャ１３３により所定の光束幅とされ、ミラー１３４により反射される。例文帳に追加

Refractive index variation inducing light from a light source 131 is attenuated by an optical attenuator 132 as specified, passed through an aperture 133 to have a specified luminous flux width, and reflected by a mirror 134. - 特許庁

印刷ヘッド７６は、上記キヤリッジ７０と、各色のＬＥＤが配置されたヘッド基板７７と、パネルシェード７１と、アパーチャ４０とから構成されている。例文帳に追加

A printing head 76 comprises a carriage 70, a head substrate 77 with LEDs of different colors disposed, a panel shade 71, and an aperture 40. - 特許庁

ＣＰ方式の荷電ビーム露光方法において、荷電ビームをアパーチャによりデバイス設計の際に用いられるスタンダードセルの形状に成形し、試料に縮小照射・露光を行なう。例文帳に追加

In the charged-beam exposure method by the CP method, the charged beam is shaped in a shape of a standard cell used for designing of a device by an aperture, and reduced irradiation and exposure is executed on a specimen. - 特許庁

反射ミラー８４，８６は、発光部８２から側方に出射された光をアパーチャ４０の露光孔４０ｅに集光させるように形成された反射面８４ａ，８６ａを有する。例文帳に追加

The reflection mirrors 84, 86 have reflection surfaces 84a, 86a formed so as to collect the light outputted sideward from a light emitting part 82 to an exposing hole 40e of the aperture 40. - 特許庁

Ｘ線光学系は、Ｘ線源１０と、アパーチャスリット板１４が付属する放物面多層膜ミラー１８と、光路選択スリット装置２２と、ポリキャピラリー３６と、出射幅制限スリット３８を備えている。例文帳に追加

This X-ray optical system is equipped with the X-ray source 10, a paraboloidal multilayered film mirror 18 having an aperture slit plate 14 attached thereto, an optical path selection slit device 22, a polycapillary 36, and an outgoing width restriction slit 38. - 特許庁

相補形状のバランスウェイトを装填用アパーチャ（７６）を通して溝に挿入し、円周方向にすべらせてバランス調節位置に位置決めする。例文帳に追加

A balance weight in a complementary type is inserted into the groove 80 through a loading aperture to be positioned in a balance adjusting position by having it slipped circumferentially. - 特許庁

この導電性プローブ１４は、絶縁被膜１８により導電性被膜２０から絶縁され、かつ先端部１４ａがアパーチャ２１の内側に位置する。例文帳に追加

The conductive probe 14 is insulated from the conductive film 20 by the insulating film 18, and the tip 14a thereof is located on the inside of the aperture 21. - 特許庁

アパーチャ１６は面状光源２４からの光を投光する投光開口を有し、投光開口の大きさは面状光源２４の発光部と略同等または発光部よりも小さくなるように形成されている。例文帳に追加

The aperture 16 has a projection opening to project light from the surface light source 24, and the size of the projection opening is formed to be nearly same or smaller than the light-emitting part of the surface light source 24. - 特許庁

この駆動伝達手段７は、上記の電磁アクチュエータの１パルス駆動によりセクタをアパーチャの開放位置と閉鎖位置とに駆動する変速機構を備えているため、安価なパルス駆動回路を採用可能となる。例文帳に追加

Since the transmitting means 7 is equipped with a speed change mechanism for driving the sector to the opening position and the closing position of the aperture by the one-pulse driving of the actuator 4, an inexpensive pulse driving circuit can be adopted. - 特許庁

多数の開口が形成されたアパーチャを用いることなく、多数のビームスポットの形状を所望の形状に整形することが可能な露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus that can shape a large number of beam spots into desired formed, without having to use an aperture having a large number of openings. - 特許庁

スクリーン印刷機用スキージは、被印刷板１０上に重ねられた印刷マスク１１のアパーチュア１１ａに印刷剤４５を充填することにより被印刷板にスクリーン印刷を行う。例文帳に追加

In the squeegee for a screen printing machine, a printing agent 45 is filled in the aperture 11a of a printing mask 11 overlapped on a plate 10 to be printed to perform screen printing on the plate to be printed. - 特許庁

また、第２アパーチャは、第２の標準矩形開口部と、この第２の標準矩形開口部に対して４５度回転した第２の４５度矩形開口部と、第２の三角形開口部を有する。例文帳に追加

The second aperture comprises a second standard rectangular aperture part, a second 45° rectangular aperture part rotated from the second standard rectangular aperture part by 45° and a second triangular aperture part. - 特許庁

入射角調整用アパーチャ１は、グラファイト板からなる部材２にＶ字の溝を彫り込んだものを、２枚組み合わせて接合し、アスペクト比の高い開口３を構成している。例文帳に追加

In the aperture for incident angle adjustment 1, two sets of members 2 which are formed of graphite plates and in which grooves in V shapes are made are combined and bonded, and an opening 3 of a high aspect ratio is constituted. - 特許庁