「パーチ」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

荷電ビーム露光装置、アパーチャ、荷電ビーム露光方法、半導体装置の製造方法、フォトマスクの製造方法、露光パターンデータ生成方法、露光パターンデータ生成装置、及び、露光パターンを生成するためのデータを記録した記録媒体例文帳に追加

CHARGED-BEAM EXPOSURE SYSTEM, APERTURE, CHARGED-BEAM EXPOSURE METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING PHOTO MASK, METHOD AND APPARATUS OF GENERATING EXPOSURE PATTERN DATA, AND EXPOSURE PATTERN - 特許庁

この点は、キャビティプレート９００とともに積層構造物を構成するカバープレート及び、第一マニホールドプレート、第二マニホールドプレート、第三マニホールドプレート、サプライプレート、アパーチャプレート、ベースプレートにおいても同様である。例文帳に追加

A cover plate, a first manifold plate, a second manifold plate, a third manifold plate, a supply plate, an aperture plate, and a base plate constituting a layered structure along with the cavity plate 900 are also arranged similarly. - 特許庁

アパーチャグリル方式陰極線管に用いる降伏強度が２４ｋｇ／ｍｍ^2以上であるヒートシュリンクバンド用鋼板において、０．３Ｏｅの磁界における透磁率が４００以上６５０以下であるヒートシュリンクバンド用鋼板。例文帳に追加

The steel sheet for heat shrink band having ≥24 kg/mm^2 yield strength and used for an aperture grill type cathode-ray tube has 400 to 650 magnetic permeability in a magnetic field of 0.3 Oe. - 特許庁

可動アパーチャは、光軸に沿って移動可能に冷却ブロック１６によって支持され、光ファイバから遠ざかる方向に移動させると、レーザ光の一部を反射し、コリメートレンズ１７に入射するレーザ光のビーム径が変わる。例文帳に追加

The movable aperture is supported by a cooling block 16 movably along the optical axis, and when it is moved in the direction away from the optical fiber, a part of the laser beam is reflected, and the beam diameter of the laser beam incident on the collimate lens 17 is changed. - 特許庁

また、アパーチャコントロール回路４３においては段階的なレベルにてソフト処理を実現可能になっており、利用者はこの複数のレベルから所望のレベルを選択することができるため、より良好であって利用者の好みに合った画質で映像を視聴することが可能になる。例文帳に追加

In addition, since the aperture control circuit 43 can process the video signals with software in stages in a level and a user can select the desired level out of the plurality of levels, the user can watch and listen to videos with its favorite good picture quality. - 特許庁

光触媒体４０は、希ガス蛍光ランプのアパーチャの長手方向に沿って対向して配設されており、支持体４１の表面ほぼ全体に亘って、ＴｉＯ_2を主体とした微粒子を被着することによって光触媒膜４２を形成している。例文帳に追加

A light catalyst mediums 40 is arranged opposing along a longitudinal direction of an aperture of a rare gas fluorescence lamp and forms a photocatalytic film 42 by coating fine particle as main material TiO2 over substantially a total of surface of a support 41. - 特許庁

ＥＵＶ放射発生装置は、ＥＵＶ放射放出プラズマを生成するためにターゲット材料と相互作用するためのレーザ放射を生成するように構成された光利得媒体と、レーザ放射がその中を通過しうるアパーチャを画定する構造とを含む。例文帳に追加

The EUV radiation generator includes a structure for defining an optical gain medium formed to generate laser radiation for interaction with a target material to generate the EUV radiation releasing plasma and an aperture through which the laser radiation can be guided. - 特許庁

電子ビーム描画装置１は、電子ビームを照射する電子銃２と、電子ビーム１５のビーム軸の下流方向に順次配置されたアライナ１４と、ブランキング電極６と、偏向器７と、第１成形アパーチャ１１とを有する。例文帳に追加

This charged particle beam drawing device 1 includes: an electron gun 2 for emitting an electron beam; and an aligner 14, a blanking electrode 6, a deflector 7 and a first shaping aperture 11 which are sequentially arranged in the downstream direction of the beam axis of the electron beam 15. - 特許庁

効率上昇のためにローターとローターハウジングの一様な加熱を実現し、その結果、空隙量を可能か限り小さく保持することができるという目的のもと両部材の間にできる限り低い温度差が発生することが可能であるプレッシャーウェーブ・スーパーチャージャーを提供する。例文帳に追加

To provide a pressure wave supercharger achieving even heating of a rotor and a rotor housing to raise efficiency, and as a result, capable of restricting a temperature difference to be generated between both members as much as possible to maintain the gap amount as small as possible. - 特許庁

自動車の内燃機関に設けるためのプレッシャーウェーブ・スーパーチャージャー（１）であって、ローター（２）及びローターハウジング（３）を有するものにおいて、ローターハウジング（３）が、熱放射の吸収のための皮膜層（４）をローターハウジング内表面（５）に備えていることにより解決される。例文帳に追加

In this pressure wave supercharger (1) for an internal combustion engine of an automobile and including the rotor (2) and the rotor housing (3), the rotor housing (3) includes a coating layer (4) for absorbing heat radiation in the inner surface (5) of the rotor housing to solve the described problem. - 特許庁

本発明は、アパーチャを立体サンプル近傍およびその周辺に配置し、スプレーの特定領域が成膜に寄与する機構をスプレーコータに組み込むことで、凹凸のある立体サンプル上にも均一なレジスト膜を堆積させることを可能にしたものである。例文帳に追加

An aperture is disposed near the solid sample and therearound, and a mechanism of a specific region of spray contributing to film formation is incorporated into the spray coater, to deposit a uniform resist film even on the solid sample with irregularity. - 特許庁

パーチクルボード、ＭＤＦ等の木質ボードを使用した場合においても、耐傷性能を有し、かつ吸水に起因する表面品質低下が防止された化粧材、および上記化粧材を形成するための化粧シートを提供する。例文帳に追加

To provide a decorative material having scratch resisting performance and prevented from surface quality degradation caused by water absorption even in the case of using a wood board such as a particle board or MDF (Medium Density Fiberboard), and a decorative sheet for forming the decorative material. - 特許庁

これにより、位相反転膜に厚さ方向に相異なる組成比を持たせることによって、位相反転膜の接着力、パーチクル、ピンホール、耐化学性、耐露光性、残留応力、面抵抗特性の優秀なハーフトーン型位相反転ブランクマスクの製造ができる。例文帳に追加

In this way, the phase inversion film has mutually different composition ratios in the thickness direction, and the halftone phase inversion blank mask having the phase inversion film, which has excellent adhesiveness, particle property, pin hole property, chemical resistance, exposure resistance, residual stress, and surface resistance, can be manufactured. - 特許庁

シール部材１００は、アクセス部材２００の長軸方向の開口部を横切って設置され、そして、アクセス部材２００の長軸方向の開口部を通して導入される外科手術の対象物の周りに実質的なシールを形成するためのアパーチャを規定する内側部分を有する。例文帳に追加

A seal member 100 is mounted across the longitudinal opening of the access member 200 and has an internal portion defining an aperture for forming a substantial seal about the surgical object introduced through the longitudinal opening of the access member 200. - 特許庁

蛍光体層１５の上面には半導体層１４、保護層１３の被膜が積層され、バルブ１１の管軸方向に沿ってアパーチャ１８と対向する蛍光体層１５、半導体層１４、保護層１３に蛍光ランプ１００点灯時に微小放電をさせるスリット１９を形成した。例文帳に追加

The coats of a semiconductor layer 14 and a protective layer 13 are laminated on the upside of the phosphor layer 15, and a slit 19 for causing minute discharge when lighting the fluorescent lamp 100 is formed along the tube axial direction of the bulb 11 in the phosphor layer 15, the semiconductor layer 14, and the protective layer 13 which face the aperture 18. - 特許庁

ラスタ走査システムは、ポリゴン前光学系に非球面コリメータレンズ２２、アパーチュア２４及び四レンズ素子シリンドリカルレンズグループ２６を有し、ポリゴンミラー後光学系に二シリンドリカルレンズ素子ｆθレンズグループ及びシリンドリカルウォブル補正ミラー５６を有する。例文帳に追加

The raster scanning system is provided with an aspherical collimator lens 22, an aperture 24 and a group 26 of four lens elements and a cylindrical lens as a polygon mirror pre-stage optical system and provided with the group 44 and a cylindrical wobble correction mirror 56 as a polygon mirror post-stage optical system. - 特許庁

低域通過型のフィルタ特性を有するワッフル部８の入力側伝送路および出力側伝送路に、ワッフル部８の低域通過帯と重なり合う高域通過帯を有する高域通過フィルタ特性のスモールアパーチャー部４を設ける。例文帳に追加

Small aperture sections 4 having high-pass filter characteristics with high-pass bands superposed to a low-pass band for a waffle section 8 are fitted to an input-side transmission line and an output-side transmission line for the waffle section 8 with low-pass type filter characteristics. - 特許庁

ブリッジ部１６を設けたため、アパーチャーグリル６Ａの組み立て時、金属薄板８Ａとフレーム１２とが正規の相対位置関係になっていない場合、或いはフレーム１２への力Ｆの加圧が不均一の場合であっても、エキストラスリット１１Ａの幅が所定幅以上に広がることがなくなる。例文帳に追加

Because the bridge part 16 is provided, even if the metal strip 8A and a frame 12 do not assume normal relative positions, or if a force F is unevenly applied to the frame 12, during assembly of the aperture grille 6A, the width of the extra slit 11A will not become greater than the predetermined width. - 特許庁

そして、偏向前光学手段は、被走査面の主走査方向と直交する副走査方向に所定の間隔でレーザビームを走査したときに発生するフレアが隣り合うレーザビームにより発生するフレアとの間の干渉を抑える形状及び大きさのアパーチャを有することを特徴とする。例文帳に追加

The optical means before deflection has an aperture having such a shape and a size that prevent the flare caused, when scanning laser beam at the predetermined interval in the direction of auxiliary scanning crossing the direction of main scanning on the face to be scanned from interfering with the flare caused by adjacent laser beams. - 特許庁

第１の筐体内確認用窓２とそれに対向する第２のアパーチャ部材１８との間に位置する第２のダクト１２の光軸方向の端部には、第１の開口が設けられており、この第１の開口には第１の透明部材２１が設けられている。例文帳に追加

A first opening is formed at an optical axis-directional end of a second duct 12 positioned between a first housing in confirmation window 2 and a second aperture member 18 opposed thereto, and a first transparent member 21 is provided at the first opening. - 特許庁

発光素子１ａが発光する光の光路Ｂ１を第１のプリズム２により光路Ｂ２，Ｂ３と偏向して、アパーチャ５ｆの上端及び右端（左端）付近を通し、第２のプリズム３によりフィルム８にデータを写し込む。例文帳に追加

The optical path B1 of light emitted by a light emitting element 1a is deflected to optical paths B2 and B3 through a 1st prism 2, and the light goes through near the upper and right (left) ends of an aperture 5f so as to imprint the data on a film 8 through a 2nd prism 3. - 特許庁

第２の管電流曲線決定部３０ｆは、アパーチャを通った放射線が同時に照射される領域に対し、第１の管電流曲線Ｉ１上で当該領域に対応する管電流のうち最大の管電流の放射線が照射されるよう、位置ｚ毎に管電流を決める。例文帳に追加

A second tube current curve determination section 30f determines the tube current for every position (z) so as to irradiate a region where the radiation passing through the aperture is simultaneously irradiated with the radiation of the maximum tube current, out of the tube currents corresponding to the region on the first tube current curve I1. - 特許庁

このようなホローアパーチャを、荷電粒子線のクロスオーバー位置又はクロスオーバーと荷電粒子線光学系において共役な位置に設置することにより、開き角を制限すると共に、クーロン効果を低減することができる。例文帳に追加

By making such a hollow aperture positioned in the cross-over position of a charged particle beam or setting the position in a charged particle beam optical system which is conjugate with the crossover position, the opening angle of the aperture can be limited, and at the same time, coulomb effect can be reduced. - 特許庁

第２アノード４、第３アノード５の電圧を調節することにより、再び一次電子線２８が絞られてできる第２クロスオーバー３０の位置をガンアパーチャ６の位置にすると共に、第２クロスオーバー３０の大きさを調整することが可能となる。例文帳に追加

The electron beam 28 is again constricted by regulating the voltages of a second anode 4 and a third anode 5 so that a second cross-over 30 is formed, which is located at the position of a gun aperture 6, and also it is possible to adjust the size of the second cross-over 30. - 特許庁

チャンバー内部の上部電極の妨げなしに基板の位置を正確に知ることができ、また、基板の上下エッジ及び側面だけではなく基板の背面の全体に存在するパーチクルと堆積物を効率よく除去することができるプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing apparatus so that a position of a substrate can be accurately detected without obstruction by the upper electrode inside a chamber, and capable of effectively removing particles and deposits that are present not only on upper and lower edges and a side surface of the substrate but also on an entire backside of the substrate. - 特許庁

照明有効領域２は電子ビーム露光法において、露光に寄与する有効な電子放射領域であり、照射制限領域１は露光には直接寄与せず、制限されていなければ電子銃またはカラム内のアパーチャ電極で遮蔽される電子ビームを放射する領域である。例文帳に追加

In an electron beam exposure method, the irradiation effective region 2 is an electron emission region which effectively contributes to exposure, and the irradiation limited region 1 is a region which does not contribute directly to exposure and which emits electron beams to be shielded by an aperture electrode in an electron gun or a column, if not limited. - 特許庁

ＬＥＤ２６と、ＬＥＤ２６から発する光を反射させるための反射筒６と、反射筒６の前方に設けられた結像レンズ８と、反射筒６と結像レンズ８との間に設けられ、制限開口部４０を有するアパーチャ１０と、を備える。例文帳に追加

The LED lighting device includes an LED 26, a reflective tube 6 for reflecting light emitted from the LED 26, an imaging lens 8 arranged in front of the reflective tube 6, and an aperture 10 arranged between the reflective tube 6 and the imaging lens 8 and having a limited opening 40. - 特許庁

粒子ビームを生成し、アパーチャアレイ手段（２０３）およびブランキング手段（２０２）を用いて粒子ビームを多数のビームを生成するパターン描画手段を通して方向づけ、残りの全部が全体としてパターン化された粒子ビーム（ｐｂ）を形成する。例文帳に追加

Particle beam is created, the particle beam is directed through pattern drawing means that creates a number of beams using aperture array means 203 and blanking means 202, and all of the remainings form a patternized particle beam pb as a whole. - 特許庁

アパーチャ電極４１は、板状部材からなり、中心軸が集電極４５の中心軸と同軸上に位置し且つ集電極４５の中心軸に垂直な面内におけるイオン化室１の内部空間の断面積よりも小さい開口４１ａが形成されている。例文帳に追加

The aperture electrode 41 is made of a plate-shaped member, and an opening 41a is formed, wherein the center axis thereof is positioned on the same axis as a center axis of a collecting electrode 45 and a size is smaller than a cross-sectional area of an inner space of the ionizing chamber 1 within a face perpendicular to the center axis of the collecting electrode 45. - 特許庁

ＡＰＳフィルム２、３５ｍｍフィルム３及び反射原稿４の各アパーチャ２２b、５１a、６１aにおける読み取り位置の上流に、不織布４１、５９、７２(異物除去部材)をフィルム及び反射原稿４に軽圧接するように備えることで、本来の原稿情報を得ることを可能とした。例文帳に追加

Nonwoven fabrics 41, 59, and 72 (members for removing foreign matters) are provided above read positions in respective apertures 22b, 51a, and 61a for an APS film 2, a 35 mm film 3, and a reflection document 4 so that they may be lightly pressed to the films and the reflection document 4, and thus intrinsic document information can be obtained. - 特許庁

発光素子２を、その光軸Ａ２が略垂直となるよう回路基板４に実装し、発光素子２の上部に、照射領域周縁の光を遮るアパーチャー６を介在させて、その垂直光軸Ａ２’が前記平行光軸となるよう屈曲させるプリズム体７を設ける。例文帳に追加

The light emitting element 2 is mounted on the circuit board 4 in a state that the optical axis A1 is approximately vertical to the circuit board 4, an aperture 6 is mounted on an upper part of the light emitting element 2 for intercepting a peripheral edge of the irradiation area, and a prism member 7 is mounted to bend the vertical optical axis A2' to be the parallel optical axis. - 特許庁

第１のモータ本体３９が第１の減速機構２８の従動歯車３４の回転中心Ｃ１の回りに回転し、その回転運動がリンク機構５７を介してステアリングコラム５のアッパーチューブ１２の軸方向Ｘ１の運動に変換される。例文帳に追加

A first motor body 39 rotates around a rotation center C1 of a driven gear 34 of the first speed reduction mechanism 28, and the rotary motion is converted into a motion of an axial direction X1 of an upper tube 12 of a steering column 5 via a link mechanism 57. - 特許庁

ウェーハ上の欠陥の種類を判別するためのアルゴリズムによれば、複数の暗視野部検出器を含むウェーハ検査装置によって測定されたウェーハ上の欠陥のサイズがＣＯＰの最大サイズを表わす限界値よりも小さければ前記欠陥の種類がパーチクルでないと判定する。例文帳に追加

According to algorithm for discriminating the kind of defect on a wafer, if the size of defect measured with a wafer inspection device containing a plurality of dark field part detectors is smaller than a limit value indicating the maximum size of COPs, the kind of defect is decided as being not particles. - 特許庁

本発明により、人工関節１の特性を、更に改良するために、両方の関節コンパーチメント２、５の接触面Ｃが、屈曲角度に依存して、これら接触面Ｃの面法線８、９が、それぞれの屈曲角度において、共通の交点を有するように傾斜されて配設されていることが提案される。例文帳に追加

In order to improve the characteristic of the artificial joint 1, the contact surfaces C of both joint compartments 2, 5 are disposed with a gradient depending on the bending angle so that the surface normals 8, 9 of the contact surfaces C have a common intersection at the respective bending angles. - 特許庁

シール要素１６は、各々、第２収容室４の開口９からハウジング２の後側６を越えて突出し且つ少なくとも一つのマットシール１８，１９のアパーチャ２０，２１の一つの中に封止的に配置されるシール部１７を備えている。例文帳に追加

The seal elements 16 respectively project beyond the rear side 6 of the housing 2 from the opening 9 of the second housing chamber 4, and includes a seal part 17 sealingly arranged in one of the apertures 20, 21 of at least the one mat seal 18, 19. - 特許庁

原稿ホルダまたは原稿台（枠部材）のアパーチャがフィルム原稿の画像領域より大きい場合でも、フィルム原稿の画像領域のみを選択できる画像入力システム、および、画像入力プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供すること。例文帳に追加

To provide a picture input system capable of selecting only the picture area of a film original even when the aperture of an original holder or an original placing plate (frame member) is larger than the picture area of the film original, and to provide a computer readable recording medium for recording a picture input program. - 特許庁

そして、軸外の電子線３がコントラストアパーチャ４の中心を通るように偏向器Ｒ１と偏向器Ｒ２の励磁電流を定めたときに、その電子線３がウエハ５に入射する位置が目標位置からずれた場合、そのずれを、前記感度を使用して補正する。例文帳に追加

If the point of incidence of the electron beam 3 on the wafer 5 deviates from a target position while the exciting currents of the deflectors R1 and R2 are determined so as to enable the electron beam 3 located out of the optical axis to pass through the center of the contrast aperture 4, the above deviation is corrected by the use of the above sensitivity. - 特許庁

ＰＥ−ＳｉＯＮ薄膜蒸着の際、ＲＦパワーとＳｉＨ４のターンオン時点とを変更することにより、既存対比パーチクル発生を大幅軽減させることができるＡＲＣ用ＰＥ−ＳｉＯＮ薄膜の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for fabricating a PE-SiON thin film for ARC, by which particle generation is reduced compared to the conventional method by changing the RE power and the turn-on time of SiH4 in the PE-SiON thin film vapor deposition. - 特許庁

シリンダブロック３の接合部５に、スーパーチャージャ１０のハウジング１２の外壁部に設けたフランジ部１２ａを取付け、フランジ部１２ａの内側には形成したウォータジャケット１２ｂとシリンダブロック３側のウォータジャケット３ａとを連通させる。例文帳に追加

A flange portion 12a arranged on an outer wall portion of a housing 12 of a mechanically driven supercharger 10 is mounted on a joint portion 5 of a cylinder block 3, and a water jacket 12b formed in the flange portion 12a and a water jacket 3a in the cylinder block 3 are interconnected. - 特許庁

ＭＦＰにネイティブなまたはネイティブでない、多数のフォーマットの多数の入力ジョブを受信し、これらジョブをＭＦＰにネイティブなまたはコンパーチブルなフォーマットの単一の組み合わされた出力ジョブに組み合わせ、処理し、このジョブを出力する。例文帳に追加

A number of input jobs in a number of formats that are native or non-native to MFP are received, these jobs are combined into a single combined output job in a native to MFP or MFP-compatible format and are processed, and this job is outputted. - 特許庁

光源ユニット２Ｃ、２Ｂｋは各光軸が交差するように、かつ副走査方向に離間して配置され、光源ユニット２Ｃ、２ＢｋからＣ、Ｂｋの各ビームは、それぞれカップリングレンズ３Ｃ、３Ｂｋ、アパーチャ４Ｃ、４Ｂｋ、第１、第２結像光学系５Ｃ、５Ｂｋを介して直進する。例文帳に追加

Light source units 2C and 2Bk are arranged separately in the subscanning direction, so that respective optical axes cross, and respective beams C and Bk from the units 2C and 2Bk advance straight via coupling lenses 3C and 3Bk, apertures 4C and 4Bk, and 1st and 2nd image forming optical systems 5C and 5Bk. - 特許庁

光走査装置の筐体は、光源１、カップリングレンズ２、アパーチャ３、シリンドリカルレンズ４、光偏向器５及び走査レンズ６を保持する第１筐体１４と、導光用光学素子である折り曲げミラー７を保持する第２筐体１５の２筐体から成っている。例文帳に追加

The casing of the optical scanner is composed of: a first case 14 which holds a light source 1, a coupling lens 2, an aperture 3, a cylindrical lens 4, an optical deflector 5 and a scanning lens 6; and a second casing 15 which holds a bending mirror 7 being an optical element for guiding light. - 特許庁

レーザ光を出射する光源２と、アパーチャを介して入射されたレーザ光を光ディスク１１の信号記録面に集光する１枚以上の対物レンズ群５と、光源２付近に配設され、屈折力を可変することにより球面収差を補正する屈折力可変素子６とを備える。例文帳に追加

An optical pickup comprises a light source 2 for emitting the laser beam; a group of objective lenses 5 for condensing the laser beam incident via an aperture onto the signal recording surface of an optical disk 11; and a refractive power variable element 6 that is provided near the light source 2 and corrects the spherical aberration by varying refractive power. - 特許庁

光路沿いの光の伝播を選択的に阻止する第一の状態と、光路に沿って光が伝播することができる第二の状態とで動作することができるシャッター機構と；ステータ１２０と環状ロータ１３０とを含むモータとを備える光路を形成するアパーチャ／シャッターシステム。例文帳に追加

This aperture/shutter system has an optical path equipped with a shutter mechanism capable of acting between a 1st state where light along an optical path is selectively prevented from being propagated and a 2nd state where the light can be propagated along the optical path, and a motor including a stator 120 and an annular rotor 130. - 特許庁

第１アパーチャ３は、ファイバ７の入射端面での像が結合レンズ６と第２リレーレンズ４とにより結像される位置で、且つ、第１リレーレンズ２と第２リレーレンズ４間の位置に配置され、ファイバ７に入射するレーザビームの集光径を制限する。例文帳に追加

The first aperture 3 is arranged at a position where an image on the incident end plane of the fiber 7 is formed by the joint lens 6 and the second relay lens 4 and that is between the first relay lens 2 and the second relay lens 4, so that the condensing size of a laser beam made incident on the fiber 7 is restricted. - 特許庁