「パーチ」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

最初にフラットアパーチャーグリル１の細条グリッド１２の長手方向の外周部を、グリッド長手方向クランプ板８ではさんでクランプする。例文帳に追加

First, longitudinal peripheral parts of a filamentary grid 12 of a flat aperture grille 1 are clamped by putting them between clamp plates 8 running along the longitudinal direction of the grid. - 特許庁

この性能の向上は、複数の送信焦点ゾーンが用いられる用途では、特定の深度に対してアパーチャを調整できることによってもたらされる。例文帳に追加

The improved performance, for application in which multiple transmit focal zones are employed, arises from the ability to adjust the aperture for a particular depth. - 特許庁

そして、第１アパーチャは、第１の標準矩形開口部と、この第１の標準矩形開口部に対して４５度回転した第１の４５度矩形開口部と、第１の三角形開口部を有する。例文帳に追加

The first aperture has a first standard rectangular aperture part, a first 45° rectangular aperture part rotated from the first standard rectangular aperture part by 45° and a first triangular aperture part. - 特許庁

表面部に化粧模様のためのＶ字状の溝４の加工が施されても、表層が厚いので、前記Ｖ字状の溝４は、内層２にまで達することがなく、パーチクルボード１の強度が劣化しない。例文帳に追加

Even if the V-shaped groove for a decorative pattern is machined on the surface part, since the surface layer is thick, the V-shaped groove 4 does not reach the inner layer 2, so that the strength of the particle board 1 is not degraded. - 特許庁

フィルムのリーダー部をアパーチャーの巻取りスプール室側の端縁に引っかけることなく、巻取りスプール室に確実に安定して案内すること。例文帳に追加

To surely and stably guide the leader part of a film into a take-up spool chamber without catching the leader part on the end edge on the take-up spool chamber side of the aperture. - 特許庁

曲線のグルーブを有する洗浄プローブを回転させながら使用すれば、ウェーハ表面のダメージは制限しながらウェーハからパーチクルを効果的に洗浄できる。例文帳に追加

If the cleaning probe having the curved line group is used while being rotated, particles can be effectively removed from the wafer while the damages to the surface of the wafer can be suppressed. - 特許庁

フォーカルプレンシャッタ１のシャッタ地板２には、アパーチャ２ａを閉鎖・開放する２枚の羽根３Ａ，３Ｂが走行自在に支持されている。例文帳に追加

Two blades 3A and 3B for closing/opening an aperture 2a are supported on the shutter base plate 2 of the focal plane shutter 1 so that the blades may freely travel. - 特許庁

電気プラグの突片を挿入すると、プラグの突片がアパーチャ内の接点に接続し、プラグを接続した電気機器だけでなく、トッププレート３０内の電気回路にも電力が供給される。例文帳に追加

When the protruding piece of the electric plug is inserted, the protruding piece of the plug is connected with the contact point in the apertures, and electric power is supplied not only to the electric equipment connected with the plug but also to the electric circuit in the top plate 30. - 特許庁

放出イオンの照射を受けるアパーチャを、スズを基板としイオン照射を受ける側に、インジウム薄片またはインジウムとガリウムの合金からなる薄片を配設した構造とする。例文帳に追加

An aperture of a focused ion beam device, which is irradiated by ions emitted from the ion source, is so constituted that a base of the aperture is made of tin and an indium lamina or a lamina of alloy consisting of indium and galium is disposed on an ion irradiating side of the aperture. - 特許庁

あるいは、コア基板をベーパーチャンバで構成し、コア基板を貫通する貫通孔を嵌合する金属管で密封し、その金属管内を埋める絶縁物中にビアを形成する。例文帳に追加

The via is formed in the insulator with which the metal pipe is filled. - 特許庁

特殊なブレードおよび駆動機構を必要とせず、アパーチャ調節の自由度が高いコリメータ、および、そのようなコリメータを備えたＸ線照射装置並びにＸ線撮影装置を実現する。例文帳に追加

To provide a collimator having a high degree of freedom of adjusting an aperture without requiring a special blade and a driving mechanism; an X-ray irradiator having such a collimator; and a radiographic device. - 特許庁

その結果、カラーブラウン管の製造工程やセット状態でのコンバーゼンス調整時にアパーチャグリルの熱変形の影響を排除してコンバーゼンス調整の適正化を図ることができる。例文帳に追加

Therefore, when adjusting the convergence in a manufacturing process of the colored cathode-ray tube or under setting condition, effects of thermal deformation of the aperture grille can be eliminated to correct the convergence adjustment. - 特許庁

アパーチャグリル構体１のフレーム６の弾性支持体２及び３に、熱補正部材４及び５を固着する各固着点４ａ，４ｂ，４ｃ及び５ａ，５ｂ，５ｃの位置が、（ｙ１＝ｙ４）＞（ｙ２＝ｙ３）となるように構成する。例文帳に追加

The aperture grille structure is constructed so that the position of each fixing point 4a, 4b, and 4c and 5a, 5b, and 5c where the thermal correction members 4 and 5 are fixed to the elastic support bodies 2 and 3 of the frame 6 of the aperture grille structure 1 may be (y1=y4)>(y2=y3). - 特許庁

ホローアパーチャ、荷電粒子線露光装置、荷電粒子線露光装置におけるビームの位置合わせ方法、荷電粒子線量の調整方法、荷電粒子線発生源の調整方法、及び半導体デバイスの製造方法例文帳に追加

HOLLOW APERTURE, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS, METHOD OF ALIGNING BEAM POSITION IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS, METHOD OF ADJUSTING CHARGED PARTICLE BEAM DOSE, METHOD OF ADJUSTING GENERATION SOURCE OF CHARGED PARTICLE BEAM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

アパーチャーグリル９を架張するフレーム１は、第１の支持体２ａ，２ｂと、第１の支持体２ａ，２ｂのそれぞれに接合されて、これらを連結する第２の支持体３ａ，３ｂとを備えている。例文帳に追加

A frame 1 for placing an aperture grille 9 is provided with first bases 2a, 2b, and second bases 3a, 3b, respectively joined to the first bases 2a, 2b to connect them. - 特許庁

したがって、温度変化、取り付け誤差などの装置内外の環境変化に応じてアパーチャ７の位置を最適位置に調整することができ、最良な単一横モードのレーザ光を容易に得ることができる。例文帳に追加

Accordingly, the position of the aperture 7 is adjusted to an optimum position, according to the change in the environment inside and outside of the system, such as changes in the temperature and attachment errors, and the laser beam of the best single transverse mode is easily obtained. - 特許庁

色選別電極構体を製造する際、アパーチャグリルにしわが生じないようにし、この色選別電極構体を用いた後の露光工程での蛍光面への露光を均一にすることにより高品質の蛍光面が得られるようにする。例文帳に追加

To provide a high quality fluorescent surface by preventing creases on an aperture grille upon manufacturing a color selecting electrode structure body and uniformly exposing the fluorescent surface in an exposing process after using the color selecting electrode structure body. - 特許庁

この装置及び方法は、例えば融合状態にあるシリカと単結晶シリコン、炭化ケイ素及び他の材料のサブアパーチュアポリッシャとして大気圧混合ガスプラズマ放出物を用いる。例文帳に追加

In the device and method, an atmospheric-pressure mixed gas plasma emission substance is used as a sub-aperture polisher of, for instance, silica in a fusion state and single-crystalline silicon, silicon carbide and other materials. - 特許庁

「クリッパーチップ」とそれに続く「キーエスクロウ」提案の採用を止めるにあたっては大きな役割を果たし、小細工のない、解読不可能な暗号技術の広範な流通と使用を推進している。例文帳に追加

It was a significant force in preventing the adoption of the "Clipper chip" and its follow-on "key escrow" proposals, and continues to advocate for wide public availability and use of uncompromised and unbreakable encryption technology.  - Electronic Frontier Foundation『DESのクラック：暗号研究と盗聴政策、チップ設計の秘密』

また、第１の処理チャンバにおいて基板上にハードマスクを堆積するステップと、レジスト層を該基板上に堆積するステップと、該レジスト層をパターニングするステップと、第２のチャンバにおいて該パターニング済みレジスト層上に形成されたアパーチャを介して該ハードマスクをエッチングするステップと、第３のチャンバにおいて該ハードマスクに形成されたアパーチャを介してクロム層をエッチングするステップと、を含んでいる。例文帳に追加

The method includes steps of depositing a hard mask on a substrate in a first processing chamber, depositing a resist layer on the substrate, patterning the resist layer, etching the hard mask through apertures formed in the patterned resist layer in a second chamber, and etching a chromium layer through apertures formed in the hard mask in a third chamber. - 特許庁

別の実施形態では、フォトマスク製造におけるプロセス集積方法は、第１の処理チャンバにおいて基板上にハードマスクを堆積するステップと、レジスト層を該基板上に堆積するステップと、該レジスト層をパターニングするステップと、第２のチャンバにおいて該パターニング済みレジスト層上に形成されたアパーチャを介して該ハードマスクをエッチングするステップと、第３のチャンバにおいて該ハードマスクに形成されたアパーチャを介してクロム層をエッチングするステップと、を含んでいる。例文帳に追加

In another embodiment, a method for process integration in manufacture of a photomask includes depositing a hard mask on a substrate in a first processing chamber, depositing a resist layer on the substrate, patterning the resist layer, etching the hard mask through apertures formed in the patterned resist layer in a second chamber, and etching a chromium layer through apertures formed in the hard mask in a third chamber. - 特許庁

レンズ１２を介した撮影により得られたデジタル画像データに含まれる光学歪みをディストーション補正部２８によって補正し、当該光学歪みの補正量が大きくなるほど補正量が大きくなるように補正係数（ゲイン）をＣＰＵ２１によって設定し、アパーチャ補正部２９により、光学歪みが補正されたデジタル画像データに対し、ＣＰＵ２１によって設定された補正係数を用いてアパーチャ補正を行う。例文帳に追加

A distortion corrector 28 corrects optical distortions involved in digital image data obtained by the photograph through a lens 12, a CPU 21 sets a correction factor (gain) so as to increase the correction quantity with the increase of the correction quantity of the optical distortions, and an aperture corrector 29 corrects the aperture for the digital image data corrected about the optical distortions using the correction factor set by the CPU 21. - 特許庁

日本の18 億SDR（約27 億米ドル）をはじめ、英国の13 億2,800 万SDR（約20 億米ドル）と中国人民銀行の8 億SDR（約12 億米ドル）は、IMF の譲許的融資への拠出としては初の債券購入契約（ノート・パーチェス・アグリーメント）となる。例文帳に追加

Note Purchase Agreements—the first ever to fund the IMF’s concessional lending—were signed with the Japanese authorities for SDR 1.8 billion (about US$2.7 billion), the United Kingdom authorities for SDR 1.328 billion (about US$2 billion), and the People’s Bank of China for SDR 800 million (about US$1.2 billion). - 財務省

本発明によるスーパーチャージャーを有する大型内燃機関は、排気ガスによって駆動されるタービン（６）と、当該タービンによって駆動されてエンジンのシリンダに給気を供給するコンプレッサー（９）を有するターボチャージャーを有する。例文帳に追加

The large internal combustion engine with a super charger comprises a turbocharger having a turbine (6) driven by an exhaust gas, and a compressor (9) driven by the turbine for supplying supply air to a cylinder of the engine. - 特許庁

内壁及び外壁は、Ｘ線ファン・ビーム（３８）をコリメートして第一の幅を有する第一のコリメート後のビームと第二の幅を有する第二のコリメート後のビームとを形成するように位置決めされている第一の組のアパーチャを有している。例文帳に追加

The inner wall and the outer wall are respectively provided with a first set of apertures positioned to form a beam after a first collimate having a first width and a beam after a second collimate having a second width by collimating X-ray fan beam 38. - 特許庁

アパーチャープレートの孔部がイオンビームによりエッチングされてその開孔面積が大きくなっても、ドーズ量を正確に求めることができるイオン注入におけるドーズ均一性検査装置およびドーズ均一性検査方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a device and a method for inspecting dose uniformity in ion implantation, accurately obtaining the dose even if a hole of an aperture plate is etched by ion beams to enlarge its aperture area. - 特許庁

第１のクロスオーバーは引き出し電極３内に形成されるようになっており、その位置にアパーチャー８が設けられて、クロスオーバーで外周側に位置する、カソードの端面から放出された電子ビーム２’を遮蔽して吸収する。例文帳に追加

A first crossover is formed inside the extraction electrode 3 where an aperture 8 is provided to shield and absorb an electron beam 2' emitted from an end surface of the cathode, and positioned on the outer peripheral side of the crossover. - 特許庁

レーザー光源１から出射されたレーザー光は稼動ミラー２０に入射されて反射するが、この反射光がアパーチャ２１を通過する方向であった場合、信号光１００と参照光２００がホログラム記録媒体６０に照射されて記録が行われる。例文帳に追加

Laser light emitted from a laser light source 1 is made incident on a working mirror 20, so as to be reflected. - 特許庁

複数のパターン生成装置を備えたパターンジェネレータ１０４と、パターンジェネレータ１０４からの光を配向する投影システム１０８と、対象物ウィンドウ２１０のところにまたはその近くに配置されたアパーチャが設けられている。例文帳に追加

The system includes a pattern generator 104 with multiple pattern generating devices, a projection system 108 for directing light from the pattern generator 104, and an aperture located at or near an object window 210. - 特許庁

波長の異なる２つの光ビームは、その波長に応じた大きさのビーム通過部を有するアパーチャ（図示せず）を通過することによってそれぞれ所望の形状に成形され、ビーム径が同等にされることで、均一で高品質な静電潜像を形成することが可能となる。例文帳に追加

The two light beams having different wavelengths are shaped into the respectively desired forms by passing through apertures (unillustrated) having a beam passing part of a size corresponding to the wavelength and the beam diameters are equalized; thus a homogeneous and high quality electrostatic latent image is formed. - 特許庁

ＦＩＢ駆動部１４は、設定条件データ出力部２０から出力された光学条件及び加工走査条件に基づいて、集束レンズ８、ビームブランキング電極９、可変マルチアパーチャ１０、ビーム偏向電極１１及び対物レンズ１２を駆動する。例文帳に追加

The FIB drive part 14 drives the focusing lens 8, beam blanking electrode 9, variable multi-aperture 10, beam deflecting electrode 11, and objective lens 12 based on the optical conditions and processing scanning conditions outputted by the setting condition data output part 20. - 特許庁

インターポーザー７の表面側からアパーチャ１１および第１開口１５を通じて第１電気接点にアクセス可能であって、第２開口１６がパッケージ領域外に位置するように、インターポーザー７をマイクロチップデバイス１の近隣に配置する。例文帳に追加

The interposer 7 is arranged in the vicinity of a microchip device 1 so that a first electric contact point is accessible from the surface side of the interposer 7 via the aperture 11 and the first aperture 15 while the second aperture 16 is positioned outside a packaging region. - 特許庁

ＧＡ生成回路４６Ｇは、Ｇ信号と、ＲＢＨ・ＲＢＶ生成回路４４からの補間信号であるＲＢＨ信号及びＲＢＶ信号に対し、係数制御信号ＦＮで設定される乗算係数を用いて演算して、アパーチャ補償信号ＧＡを生成する。例文帳に追加

A GA generating circuit 46 uses a multiplication coefficient set by a coefficient control signal FN for a G signal, RBH and RBV signals being interpolation signals from an RBH/RBV generating circuit 44 to generate an aperture compensation signal GA through an arithmetic operation. - 特許庁

操作レバーがアンロック操作された状態で、アッパーチューブと一体のコラム側ブラケットが車両前方へテレスコ調整されるとき、コラム側ブラケットを支持するブレークアウエイブラケットに衝撃力が伝達されないようにする。例文帳に追加

To prevent an impact force from being transmitted to a brake-away bracket for supporting a column side bracket when the column side bracket formed integrally with an upper tube is adjusted to extend forward of a vehicle while an operation lever is unlocked. - 特許庁

例えば局所的空間に液浸液が供給される液浸リソグラフィ装置において、空間を２つの部分に分割するための平行のプレートであって、前記基板上への前記パターンの透過を可能にするアパーチャを有しているプレート２４が提供される。例文帳に追加

For example, in the immersion lithography device in which the immersion liquid is supplied to a local space, parallel plates for dividing the space into two portions include a plate 24 having an aperture capable of transmitting the pattern onto the substrate. - 特許庁

レーザ発振器１とアパーチャ８との間に、凹レンズ３と、凸レンズ４、５および、凹レンズ３を移動させるレンズ移動手段６と、凸レンズ４を移動させるレンズ移動手段７とから構成されるビーム特性変換手段２を配置する。例文帳に追加

Beam characteristic conversion means 2 comprising a concave lens 3, convex lenses 4 and 5, lens moving means 6 for moving the concave lens 3 and lens moving means 7 for moving the convex lens 4 is arranged between a laser oscillator 1 and an aperture 8. - 特許庁

擬似トラック・ボールのような光学式指先トラッカ１が、画像入力アパーチャ８に対して押されたユーザの指３の１つのテクスチャ（指紋等）の動きに応答して、制御すべき器具内で処理されるモーション信号２２を生成する。例文帳に追加

An optical fingertip tracker 1, which may be a pseudo trackball, responds to the motion of one texture (fingerprint etc.), of user's digits 3 pressed against an image input aperture 8 to produce motion signals 22 processed within an appliance to be controlled. - 特許庁

アパーチャ１６は、イオンビーム１５の通過を許容する開口３０を有し、特定の散乱角を有しかつ前記磁場により前記イオンビーム１５のビーム軸に特定の位置で収束するイオンのみが前記開口３０を通過する位置に設けられる。例文帳に追加

The aperture 16 has an opening allowing passage of the ion beam 15, has a specific scattering angle, and is provided at the position where only the ions converging at a specific position in the beam axis of the ion beam 15 pass through the opening by the magnetic field. - 特許庁

ユーザは、従来のような機器購入費用（もしくはリース費用）、コピー等の出力数に応じた費用（パーチャ費用）、消耗品費用等を個別に支払う必要なく、機器から出力された所定の媒体の量に応じて算出された課金のみが一元的に行われる。例文帳に追加

The users need not pay equipment purchase costs (or lease cost), costs corresponding to output quantities of copies, etc., (performance charge), consumables costs, etc., individually and are charged unitedly only for the quantity of specific media outputted from the equipment. - 特許庁

そして、偏向前光学手段は、開口形状が少なくとも５辺以上を有する多角形であり、かつ、上記開口形状の辺長及び頂点位置がフレアの分散方向を所定の方向にするように選定されたアパーチャを有することを特徴とする。例文帳に追加

The predeflection optical means is characterized by having an aperture whose shape is a polygon having at least five sides, and the aperture is so selected that the side length and the peak position of the aperture directs the flair dispersion into a prescribed direction. - 特許庁

本発明のシステムは、少なくとも１つのアパーチャアレイを使用して、割当て要求に応答して利用可能な無線通信リソースの動的仮想的セクタ化を動的に提供するように構成された仮想セクタ形成ユニットをさらに備える。例文帳に追加

The system further includes a virtual sector formation unit configured to employ the at least one aperture array to provide dynamic virtual sectorization of the available wireless communication resources in response to the allocation request. - 特許庁

希ガス蛍光ランプ１０は、ガラスバルブの外面に一対の外部電極１２が粘着され、ガラスバルブ内面には蛍光体層がアパーチャを形成するように塗布され、キセノンガスが放電媒体として封入されている。例文帳に追加

In a rare gas fluorescence lamp 10, a pair of external electrodes 12 is adhered into an outer surface of a glass bulb, a fluorescence substance layer is coated to form an aperture into an internal surface of the glass bulb and a xenon gas as a discharge medium is sealed. - 特許庁

カメラ信号処理回路１８は、Ａ／Ｄ変換器１６からの画像データに、輝度／色差分離処理、アパーチャ補正及び色バランス調整などの処理を施し、得られた輝度データＹ及び色差データＲ−Ｙ，Ｂ−Ｙをビデオ信号処理回路２０に印加する。例文帳に追加

The circuit 18 performs processing, such as luminance/color difference separation processing, aperture correction and color balance adjustment of image data from the converter 16 and applies obtained luminance data Y and applies color difference data R-Y and B-Y to a video signal processing circuit 20. - 特許庁

フローセルの位置検出光センサ側の液体流路形状を投影した平行光線の範囲より小さい開口部を有するアパーチャを、フローセルの位置検出光センサ側に近接して設置することで、前記課題を解決することができた。例文帳に追加

An aperture having an opening part smaller than the range of parallel rays projecting a liquid flow channel form on the position detection optical sensor side of a flow cell is placed close to the position detection optical sensor side of the flow cell. - 特許庁

各マイクロレンズは、対応するアパーチャ要素によってフィルタリングされた光を前記撮像領域に結像するマイクロレンズアレイと、前記撮像領域に撮像された画像の信号を処理し、前記被写体までの距離を推定する信号処理回路と、を備えている。例文帳に追加

Each micro-lens has a micro-lens array for imaging light, filtered by the corresponding aperture element, onto the imaging area, and a signal processing circuit for processing a signal of an image, picked up in the imaging area, and estimating the distance to the subject. - 特許庁