「パーチ」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

静電４重極レンズを構成する固定フォーカス電極７及び可変フォーカス電極８のアパーチャ１５Ｒ，１５Ｂ，１５ＧＧ，１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの水平垂直方向に柱状の衝立部材２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｂ，２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂを配設する。例文帳に追加

Pillar-shaped screen members 23R, 23G, 23B, 24R, 24G, 24B are arranged in horizontal and vertical directions of apertures 15R, 15G, 15B, 17R, 17G, 17B of a fixed focus electrode 7 and movable focus electrode 8 composing an electrostatic quadrupole lens. - 特許庁

シールデバイスであって、該シールデバイスは、複数の弾性ディスクを備え、各弾性ディスクは、アパーチャー４０を規定し、中心軸に沿って整列されている、シールデバイスを提供する。例文帳に追加

A seal device comprises a plurality of elastic disks with each disk defining an aperture 40 and configured along a central axis. - 特許庁

アパーチャＡ１は、レジデュアル・エリプティシティ（ｒｅｓｉｄｕａｌ ｅｌｌｉｐｔｉｃｉｔｙ）の補償のために光路の端部に配置され、従って、レーザビームを円形にする。例文帳に追加

An aperture A1 is placed at the end of an optical path to compensate for residual ellipticity and therefore circularizes the laser beam. - 特許庁

少なくとも一つのマットシール１８，１９がハウジング２の後側６に支持され、当該少なくとも一つのマットシール１８，１９が開口８，９に位置合わせされた複数のアパーチャ２０，２１を備える。例文帳に追加

At least one mat seal 18, 19 is supported on the rear side 6 of the housing 2, and includes a plurality of apertures 20, 21 with at least the one mat seal 18, 19 aligned on the openings 8, 9. - 特許庁

撮像条件は、距離ランクが大きいほど露出値（オート）、ゲインおよび発光量は大きくなるよう、アパーチャ（輪郭強調）処理レベルはゲインの増加に応じて低下するように設定されている。例文帳に追加

The image pickup conditions are set so that an (auto-) exposure value, a gain and the light emission quantity can be increased, corresponding to the enlargement of the distance rank and an aperture (contour emphasis) processing level can be lowered corresponding to the increase of the gain. - 特許庁

アッパーチューブ２１とロアチューブ２２との積層部分Ａの下部にて、チルトレバーボルト４１の車両前方部位に係合片２４の接触部２４ｃの車両後方部位（面Ｍ１）を接触させる。例文帳に追加

In the lower part of the laminated portion A of the upper tube 21 and the lower tube 22, a vehicle rear portion (surface M1) of a contact part 24c of an engagement piece 24 is made to contact with a vehicle front portion of a tilt lever bolt 41. - 特許庁

光源部から拡散した光や、光源部とアパーチャーとの間に設けられたコリメートレンズなどの光学レンズからの内部反射光が遮光部によって遮光される。例文帳に追加

The ray of light diffused from a light source part and the ray of light internally reflected from such an optical lens as a collimator lens provided between the light source part and an aperture are shielded with a light shielding part. - 特許庁

試料台４１上の広い範囲の画像をＣＣＤカメラ２４で取り込み、仮想枠作成部１２で作成された仮想的なアパーチャ開口を示す矩形状の仮想枠を重畳してディスプレイ５に表示する。例文帳に追加

An image with a large range on a sample board 41 is fetched by a CCD camera 24, and a rectangle virtual frame expressing a virtual aperture formed by a virtual frame forming part 12 is superposed on the image, and an image is displayed on a display 5. - 特許庁

そして、中心部のレーザ光の偏光面を９０度偏向させると共に、レーザ光の外縁部を、中心部の中心から計った偏角に応じて移相させて、アパーチャ５に照射する。例文帳に追加

Further, the polarization plane of the laser beam at the central part is deflected by 90 degrees and the inframarginal part of the laser beam is phase-shifted according to the deviation angle measured from the center of the central part and an aperture 5 is irradiated with the laser beam. - 特許庁

アパーチャ開口部１６ｃはシリンダレンズ３ｂの副走査方向光軸中心と一致するようベース１２ｂと同一構成で形成する。例文帳に追加

An opening 16c of an aperture is formed of the same constitution as the constitution of the base 12b so as to be aligned to the optical axis center in the sub-scanning direction of the cylindrical lens 3b. - 特許庁

次に各サブアパーチャを多次元配列の異なる座標方向に円形及び／又は線形配列のビームパターンの２つの干渉性サブセットに分解する。例文帳に追加

Next, each subaperture is divided into two interferential subsets of the beam pattern with a round/linear layout in the directions of different coordinates in the multi-dimensional layout. - 特許庁

アパーチャーグリル方式のカラーブラウン管に好適に使用でき、熱膨張が少なく、高張力での展張・固定作業に耐えることができる展張型シャドウマスクを提供する。例文帳に追加

To provide an extension type shadow mask suitably usable for a color cathode ray tube of an aperture grill system, small in thermal expansion and capable of withstanding extending and fixing operations under hign tension. - 特許庁

カラーＣＲＴにおいて、色識別機構１のアパーチャグリル１０を支持する支持メンバ２，３の端部２１の曲率半径ＲＡを、中心部２０の曲率半径Ｒｚよりも小さくする。例文帳に追加

In a color cathode-ray tube, a radius of curvature RA of an end 21 of a support members 2, 3 for supporting an aperture grille 10 of a color selection mechanism 1 is made smaller than a radius of curvature Rz of a central portion 20 thereof. - 特許庁

そして、モータ(7)によって第２シャフト(25)が偏心回動すること、および、その偏心回動に従動して当該回動方向とは逆方向に第１シャフト(23)が偏心回動すること、に伴ってアパーチャ(6)がレール(21a,21b)に沿って移動する。例文帳に追加

The second shaft (25) is rotated eccentrically by a motor (7) and the first shaft (23) is driven to rotate eccentrically opposite to the direction of the eccentric rotation thereby leading the aperture (6) to move along the rail (21a and 21b). - 特許庁

第２カートの上面が、第１ポンプ（６４）の出口点（６４ｂ）が実質的にフィルタ（５８）の入口／出口アパーチャ（５８ｂ）に面して位置付けられるようにフィルタ（５８）を支持する。例文帳に追加

The top face of the second cart supports a filter (58) so that an outlet point (64b) of the first pump (64) is located substantially facing an inlet/outlet aperture (58b) of the filter (58). - 特許庁

光源１からのレーザー光２は、ビーム成形光学系３、エネルギー調整光学系４、アパーチャー５を通過し、ビームスプリッタ６により照射光７参照光１２とに分離される。例文帳に追加

A laser beam 2 from a light source 1 passes through a beam forming optical system 3, an energy adjusting optical system 4, and an aperture 5, and it is separated into an irradiation beam 7 and a reference beam 12 by a beam splitter 6. - 特許庁

従って、電流計２により検出される電流が最大になるようにビーム位置調整用アライナ５で電子線２の位置を調整すれば、ホローアパーチャ１の中心と電子線２のビーム位置を合わせることができる。例文帳に追加

Consequently, if the position of the electron beam 2 is so adjusted by an aligner 5 for beam position adjustment as to maximize the current detected by the ampere meter 4, it is possible to align the center position of the hollow aperture 1 to the beam position of the electron beam 2. - 特許庁

本発明は、バイア構造体を形成するため、比較的低価格で、かつ、容易に導電性材料を基板の小型アパーチャ内に堆積させる改良された方法の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide an improved method in which an electrically conductive material is easily deposited in a small aperture of a substrate at a relatively low price to form a via structure. - 特許庁

半導体レーザアレイ１の複数の光ビームを、共通のカップリングレンズ２、アパーチャ３およびシリンドリカルレンズ４を介して回転多面鏡５の偏向反射面に入射させる。例文帳に追加

A plurality of light beams of the semiconductor laser array 1 are made incident on a deflecting and reflecting surface of a rotary polygon mirror 5 through a common coupling lens 2, an aperture 3, and a cylindrical lens 4. - 特許庁

レンズで捉えた被写体を表す画像データをＣＣＤ１０Ｂで生成し、その生成した画像データに、画像処理部１０６で上記パラメータに基づくアパーチャ補正を施す。例文帳に追加

Image data indicative of an object caught through a lens is generated in the CCD 10B and subjected to aperture correction at the image processing section 106 based on the parameters. - 特許庁

楕円形又は長円形断面形状を有する複数の冷却孔又はアパーチャ（２６）が、上壁、底壁及び一対の側壁の１以上に設けられ、閉鎖周辺フレーム部を軸方向に貫通して延びる。例文帳に追加

A plurality of cooling holes or apertures (26) having an oval or elliptic cross-sectional shape are arranged in one or more of the upper wall, the bottom wall and the pair of sidewalls, and extend by penetrating in the axial direction through the closed peripheral frame part. - 特許庁

シャドウマスク５０は、電子ビームが通過する複数のアパーチャが形成された有孔領域を含む主面部５７と、主面部の周囲に連設されたスカート部５３とを備える。例文帳に追加

The shadow mask 50 has a main surface part 57 including a porous region on which a plurality of apertures in which electron beams pass are formed and skirt parts 53 which are installed at the surroundings of the main surface part. - 特許庁

光源１０１から射出され、カップリングレンズ１０２，線像形成レンズ１０３，アパーチャ１０４のカップリング光学系によりカップリングした光束が成形される。例文帳に追加

A scanner forms a light flux which is emitted from a light source 101 and which is coupled by a coupling optical system of a coupling lens 102, a line image forming lens 103, and an aperture 104. - 特許庁

撮像条件は、ストロボ３６の発光量が少ないほど露出値（オート）、ゲインおよび発光量は大きくなるように、アパーチャ（輪郭強調）処理レベルはゲインの増加に応じて低下するように設定されている。例文帳に追加

The image pickup conditions are set so that the smaller the emmitted light quantity from a strobo 36 is, the larger the exposure (automatic), the gain and the emmitted light quantity are and the aperture (contour emphasis) processing level is decreased in accordance with the increase of the gain. - 特許庁

アパーチャに多数配置されたパターンの一つから複数のパターンを描画する一括描画方式での荷電粒子ビーム描画と、可変成形ビーム描画方式による荷電粒子ビーム描画との両方を行う。例文帳に追加

To provide a charged particle beam lithography system capable of conducting both charged particle beam lithography by a character projection method for drawing one or more patterns of many patterns arranged in an aperture, and a charged particle beam lithography by a variable shaped beam method. - 特許庁

矩形開口パターンのコーナＲ値が非常に小さく、その結果として矩形性の良好な形状のレジストパターンを形成できるステンシルマスク又はアパーチャ、およびそれらの製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a stencil mask or an aperture, which has an extremely small corner R value of rectangle opening pattern, thereby forming a resist pattern in a good rectangular shape, and to provide its production method. - 特許庁

アパーチャーサイズが小さいサイズ（例えばＣサイズ）に固定されたカメラにおいて、それより大きい標準サイズ（例えばＨサイズ）を基本とする現像システムに混乱を来すことなく、カメラの小型化を図る。例文帳に追加

To attain the miniaturization of a camera without disordering a developing system where a standard size (for example, size H) which is larger than the size of an aperture of a small one (for example, size C) is regarded as a basic size, as for a camera whose aperture size is fixed to a small one (for example, size C). - 特許庁

周囲の気圧変動による顕微作業部材（試料保持部材、プローブ保持部材、ビーム絞り用アパーチャ保持部材等）のドリフト（位置変動）を減少させること。例文帳に追加

To reduce a drift (a positional shift) of micro-working members (a sample holding member, a probe holding member, an aperture holding member for a beam-diaphragm) due to an ambient atmospheric fluctuation. - 特許庁

アパーチャグリルの張力分布形状の安定化を図り、製品歩留まり及び作業性の向上に寄与する陰極線管用色選別機構の組立装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an assembling device of a color selection mechanism for a cathode-ray tube, which can stabilize the tension distribution form of an aperture grille, and can contribute to improve the product yield and productivity. - 特許庁

レーザ発振器１１からのレーザ光を計測対象物１９に照射し、その反射光を第１のビームスプリッタ１２で取り出し、アパーチャ１４、集光レンズ１５を介して光検出器１６で検出する。例文帳に追加

The method for measuring a strain comprises the steps of irradiating an object 19 to be measured with a laser beam from a laser oscillator 11, taking out its reflected beam by a first beam splitter 12, and detecting the object by a photodetector 16 through an aperture 14 and a condenser lens 15. - 特許庁

光走査装置における光束とアパーチュアの位置関係のずれに拘わらず、被走査面上に形成される光スポットの光強度を常に適正に保ち、適正な画像書き込みを実現する。例文帳に追加

To realize proper image writing by keeping the light intensity of a light spot formed on a scanned surface always proper regardless of deviation in positional relation between luminous flux and an aperture in an optical scanner. - 特許庁

カバーガラスを保持するカートリッジに於いて、該カートリッジが該カバーガラスを位置内に押すフオークが入ることを可能にするために該カートリッジの底部端部内に１つ以上のアパーチャーを具備することを特徴とする該カートリッジ。例文帳に追加

A cartridge for holding the coverglasses is provided with one or more apertures in the bottom end of the cartridge for allowing entry of a fork to push the coverglasses into position. - 特許庁

レーザー光源１より放出された平行光束は、ダイクロイックミラー４で反射されて９０°向きを変え、開き角制限アパーチャー１０で開き角を制限された後、スキャンミラー１１で反射される。例文帳に追加

The parallel luminous fluxes released from a laser beam source 1 are reflected by a scan mirror 11 so as to be changed in their direction by 90° with a dichroic mirror 4 and are limited of an aperture angle by an aperture angle limiting aperture 10, following which the luminous fluxes are reflected by a scan mirror 11. - 特許庁

最小限のアパーチャ径を備え２つの次元で狭峻分散の広帯域または狭帯域音響ビームの組を形成可能である音響アレイ送受波器を提供する。例文帳に追加

To provide an acoustic array transmitter-receiver which has a minimum diameter of an aperture, and which can form a wide band of narrowing disperse or a group of narrow bandwidth acoustic beam at two dimensions. - 特許庁

この際、調整用治具支持部２７，２８により構成される突起部２９は、アパーチャ１８の端面５０と鏡筒１２の後面２３に当接する。例文帳に追加

At this time, a projection part 29 composed of adjustment tool support parts 27 and 28 abuts against an end surface 50 of an aperture 18 and a rear surface 23 of a lens barrel 12. - 特許庁

アパーチャーグリル用金属薄板８Ａにおいて、最端スリット９ａの幅のバラツキを吸収するためのエキストラスリット１１Ａの中央部に、当該エキストラスリットの両側を結ぶブリッジ部１６を設ける。例文帳に追加

On a metal strip 8A for an aperture grille, the extra slit 11A for taking up dispersions of the width of an endmost slit 9a is provided at its center with a bridge part 16 interconnecting both sides of the extra slit. - 特許庁

アパーチャーグリル方式カラー陰極線管に用いられる色選別電極構体の細条グリッドの固有振動数分布を所望の形状に保ちながら、フレームの局所的変形による固有振動数バラツキを低減する。例文帳に追加

To reduce variations in natural frequency caused by the local deformation of a frame, while keeping a natural frequency distribution of slender grids of a color selecting electrode body used for an aperture grill type color cathode- ray tube to be a required shape. - 特許庁

押しハンドルカップ７４は、押しハンドルの下側部分８２が押しハンドルカップ７４内に配置されるとき、押しハンドルのスプリングピン１２２を収容するためサイズが定められ、配置されているアパーチャ９４を備えている。例文帳に追加

The push-handle cup 74 comprises an aperture 94 having a size defined and disposed to receive the spring pin 122 of the push-handle when the lower portion 82 of the push-handle is disposed in the push-handle cup 74. - 特許庁

レーザビーム２の吸収率が高い材質、例えばカーボン、で形成した内面が平行の中空のカバー１３を、内面がレーザビーム２と平行になるようにしてアパーチャ１０のレーザビーム２の入射側に配置する。例文帳に追加

A hollow cover 13, whose inner faus are parallel, formed of a high laser beam 2 absorptive material, such as carbon, is arranged on an incident side of the laser beam 2 of an aperture 10 in a way that the inner faces are parallel to the laser beam 2. - 特許庁

投光像の輪郭を拡散させてぼやけさせる場合には、投光像形成部14のアパーチャ23の開口寸法を光学系13で投光像を結像可能な結像可能範囲ａよりも大きい結像可能範囲外に調整する。例文帳に追加

If a contour of the projection image is to be diffused and gradated, an opening size of the aperture 23 of the projection image forming part 14 is adjusted outside the imageable range 'a' in which the projected image can be formed by the optical system 13. - 特許庁

外部からの振動、及びアパーチャグリル部材の線膨張による、アパ−チャグリルの線乱れを抑制し、画面上に縦縞（筋状ムラ）が現われることによる画面品位劣化を防ぐ。例文帳に追加

To prevent from deterioration of quality of an image screen caused by emerging vertical stripes (a striped unevenness) on the image screen by means of restraining wire disarrangement of an aperture grille caused by a vibration from outside and linear expansion of the aperture grille member. - 特許庁

部分負荷域でチャージャを切換える際に発生するジャークを簡単な手段で低減することができるスーパーチャージャ付き内燃機関を提供する。例文帳に追加

To provide an internal combustion engine with a supercharger, which can reduce jerks generated when switching a charger in a partial load area using a simple means. - 特許庁

投光像の輪郭をはっきりさせる場合には、投光像形成部14のアパーチャ23の開口寸法を光学系13で投光像を結像可能な結像可能範囲ａ内で調整する。例文帳に追加

If a contour of the projected image is to be made clear, an opening size of an aperture 23 of a projection image forming part 14 is adjusted within an imageable range 'a' in which the projected image can be formed by an optical system 13. - 特許庁

パターン設計仕様に関する情報は、アニュラリングに関する情報や、ラインアパーチャに関する情報を各層毎にリストアップされ、かつ、補正情報を入力するための欄が設けられた電子文書として生成する。例文帳に追加

The information regarding the pattern design specifications is generated as an electronic document in which information regarding an annular ring and information regarding a line aperture are listed up by layers and which is provided with a field for inputting the correction information. - 特許庁

光源部を別体とせず、直接筐体に組み込み、アパーチャも筐体と一体として低コストに抑える光書き込み装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical writing unit whose cost is suppressed low, rather by not providing a light source part as a different body, but incorporating the light source part directly in a housing and also uniting an aperture with the housing. - 特許庁