「レジ」に関連した英語例文の一覧と使い方(812ページ目) - Weblio英語例文検索

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing repeating units corresponding to hydroxystyrene and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether propionate and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether and ethoxyethyl propionate. - 特許庁

特定の構造を有するオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩系のカチオン重合開始剤と、ラクトン系溶剤及びヒドロキシカルボン酸系溶剤とを含有する感光性樹脂組成物によれば、塗膜の均一性に優れ、硬化樹脂パターンの硬化密度を向上することができ、さらに高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供できる。例文帳に追加

The high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition excellent in uniformity of a coating film, capable of enhancing the curing density of a cured resin pattern, and forming the fine resist pattern having the large film thickness and the high aspect ratio comprises an onium fluoroalkylfluorophosphate type cationic polymerization initiator having a specific structure, a lactone solvent and a hydroxycarboxylic acid based solvent. - 特許庁

フォトマスクのパタン密度を均一化する付加パタンを設けた、付加パタン付きフォトマスクの描画方法で、ポジレジストを用い、パタンデータの無い部分に電子ビームまたはレーザ光を照射して描画する、描画方式に適用できる描画方法を提供しようとするものであり、該描画方法に用いられる描画データを作成するためのデータ処理方法で、配線層だけでなくポリリシリコン層等他の処理層にも対応でき、多大な処理時間を必要としないパタンデータの作成方法を提供する。例文帳に追加

The method for forming the pattern data, which is dealable not only with wiring layers but with other processing layers, such as polysilicon layers, as well and does not require an enormous processing time, is provided in a data processing method for forming the drawing data used in this drawing method. - 特許庁

本発明は、ネガ型フォトレジスト(Negative Type Photo Resist)を用いた自己整列方式を利用してフォトマスクパターンの間に感光膜パターンを形成し、感光膜パターンを拡大するための熱処理工程を行った後、感光膜パターンをエッチング防止膜として用いてフォトマスクパターンに対してエッチング工程を行うことにより、さらに微細なフォトマスクパターン工程が可能な半導体素子のパターン形成方法を提供するものである。例文帳に追加

To provide a method of forming a pattern of a semiconductor device in which a smaller photomask pattern stage can be achieved by performing an etching stage for photomask patterns using photosensitive film patterns as an etch-stop layer after forming the photosensitive film patterns between the photomask patterns by using a self-alignment system using negative photoresist and then performing a heat treatment stage for expanding the photoresist film patterns. - 特許庁

突起を形成するのに用いられ、複数の遮光ユニットからなる第１形状を有するパターンから構成される第１フォトマスクパターンと、スペーサを形成するのに用いられ、第２形状を有する遮光パターンから構成される第２フォトマスクパターンとを備えてなるフォトマスクを準備するステップを行った後、このフォトマスクを用いてフォトレジスト層に露光現像を施すステップを実行する。例文帳に追加

A step for preparing the photomask provided with a first photomask pattern used for forming the protrusion and constituted of a pattern having a first shape consisting of a plurality of light shielding units and a second photomask pattern used for forming the spacer and constituted of a light shielding pattern having a second shape is performed and then a step for exposing and developing the photoresist layer using the photomask is performed. - 特許庁

インターネットＮＥＴを介して接続された情報の公開依頼者の端末に対して制御手段０２は、施設の公開情報の入力を促し、入力された施設の公開情報を顧客ファイルとして記憶手段０７に格納する一方、施設の公開情報受給者（利用者）の端末に対して制御手段０２は、所望するスポーツ施設または、レジャー施設の選択を促し、選択された施設の公開情報を読み出し、読み出された施設の公開情報を情報受給者の端末に対して出力する。例文帳に追加

The control means also urges a receiver for disclosure information of facility (user) to select the desired sport facility or leisure facility, reads the disclosure information for the selected facility and outputs the read disclosure information for the facility to the terminal of the information receiver. - 特許庁

店舗情報生成装置１０３が、店舗２０内のＰＯＳレジスター２０Ａのデータから店舗情報を生成すると、チューニングサーバー１０４が店舗情報に基づいて、挿入コンテンツを選択し、選択した挿入コンテンツを指定する指定情報を送信し、端末装置１０２が、コンテンツ再生順番で指定されたコンテンツの再生中またはコンテンツ再生順番の間に指定情報で指定された挿入コンテンツを割り込ませて優先的に再生する。例文帳に追加

A store information generating device 103 generates store information from data in a POS register 20A in the store 20, a tuning server 104 selects insert contents on the basis of the store information and transmits specification information specifying the selected insert contents, and a terminal device 102 preferentially reproduces the insert contents specified with the specification information by interrupting reproduction of contents specified with content reproduction order or the content reproduction order. - 特許庁

ヘッドユニットの組立装置および組立方法、液滴吐出ヘッドの位置決め装置および位置決め方法、液滴吐出ヘッドの固定装置および固定方法、並びに液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法例文帳に追加

DEVICE AND METHOD FOR ASSEMBLING HEAD UNIT, DEVICE AND METHOD FOR POSITIONING DROPLET DISCHARGE HEAD, DEVICE AND METHOD FOR FIXING DROPLET DISCHARGE HEAD, METHODS FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY, ORGANIC EL DEVICE, ELECTRON EMISSION DEVICE, PDP DEVICE, ELECTROPHORETIC DISPLAY, COLOR FILTER, AND ORGANIC EL, AND METHODS FOR FORMING SPACER, METAL WIRING, LENS, RESIST, AND OPTICAL DIFFUSER - 特許庁

一枚の半導体ウエーハ５からペレット１，２，３，４を複数個製造する場合、フォトレジストを現像液で現像する前に、一部分のみ紫外線や赤外線などの光線を透過するパターンを有する露光用のレテイクルを用いて再度露光する工程を含み、再度露光する時のマスクは、ペレット１個分の識別用パターン作成用の開口部のみ有し、再度露光する時の、Ｘ方向とＹ方向とにステップする時に、ペレットの寸法と異なるステップ幅でＸ，Ｙ方向に移動する。例文帳に追加

The production method of semiconductor element comprises a step for performing exposure again using an exposing reticle having a pattern for passing UV-rays or infrared rays only partially before photoresist is developed with developer when a plurality of pellets 1, 2, 3, 4 are produced from a sheet of semiconductor wafer 5. - 特許庁

（Ａ）：下記一般式（１）で示される、分子鎖両末端にケイ素原子結合アルケニル基を有するジオルガノポリシロキサン １００重量部（式中、Ｒ^１は非置換もしくは置換の一価の飽和炭化水素基、Ｒ^２は炭素原子数２〜１０のアルケニル基であり、ｋは２０００以上の整数であり、ｓは０≦ｓ／（ｋ＋ｓ）≦０．０２の関係を満たす０または正の整数である。）（Ｂ）：１分子中に１以上のシラノール基（＝ＯＨ基）を有するオルガノポリシロキサンレジン １０〜２００重量部 および（Ｃ）：少なくとも１種の有機過酸化物 触媒量。例文帳に追加

(B) 10-200 pts.wt. of an organopolysiloxane resin containing one or more silanol groups (=OH group) in one molecule and (C) a catalytic amount of at least one kind of an organic peroxide. - 特許庁

半導体基板ＳＵＢの主表面上に、主表面に対して段差を有するパターンＭＫが形成される工程と、パターンＭＫ上に、半導体材料を含む第１の半導体層ＰＳ１が形成される工程と、第１の半導体層ＰＳ１上に、半導体材料を含む第２の半導体層ＰＳ２が形成される工程と、第２の半導体層ＰＳ２上にレジストパターンＲＳが形成される工程とを備えている。例文帳に追加

A method of manufacturing a semiconductor device comprises the steps of: forming patterns MK having a step with respect to a primary surface of a semiconductor substrate SUB, on the primary surface; forming a first semiconductor layer PS1 containing a semiconductor material above the patterns MK; forming a second semiconductor layer PS2 containing a semiconductor material above the first semiconductor layer PS1; and forming resist patterns RS above the second semiconductor layer PS2. - 特許庁

オペレータなどによって入力装置２が操作されて、プログラム作成指示とともに、機械メーカーなどから渡されたインターロックマトリックス５の内容などが入力されたとき、予め登録されているレジスタ表１１と、インターロックマトリックス５の内容とに基づき、並び替え表８、ラダー回路図９を作成した後、このラダー回路図９に基づき、プログラマブルロジックコントローラ装置用のプログラムを作成する。例文帳に追加

When an operator, etc., operates an input device 2 to input the contents of the interlock matrix 5 handed over from a machine maker together with a program generation instruction, a rearrangement table 8 and the ladder circuit diagram 9 are generated according to a previously registered register table 11 and the contents of the interlock matrix 5 and then the program for the programmable logic controller is generated according to the ladder circuit diagram 9. - 特許庁

表面に複数本の配線パターンＨＰが形成され、かつ当該配線パターンを絶縁被覆するためのソルダーレジスト１１５が形成された回路基板１０１上に半導体チップ１０５を封止するための封止樹脂１０３をモールド成形してなる半導体装置において、配線パターンＨＰは封止樹脂１０３のモールドライン領域ＭＬＡでは隣接する配線パターンＨＰの間隔ｄをほぼ均一にする。例文帳に追加

In the semiconductor device, in which the sealing resin 103 for sealing the semiconductor chip 105 is molded on the circuit board 101 where a plurality of wiring patterns HP are formed on the surface and solder resist 115 for insulating and coating the wiring patterns is formed, the wiring patterns HP have the interval (d) of adjacent wiring patterns HP that is made almost uniform in a mold line region MLA of the sealing resin 103. - 特許庁

レジオネラ菌，大腸菌若しくはサルモネラ菌等のグラム陰性菌に対して殺菌作用を有するフマール酸と、黄色ブドウ球菌，バチラス菌若しくは乳酸菌等のグラム陽性菌に対して殺菌作用を有するナイシンとから成る殺菌剤であって、フマール酸の濃度は０．０３％乃至０．１％（ｗ／ｖ）に設定され、ナイシンの濃度は１ｐｐｍ乃至１００ｐｐｍに設定されていることを特徴とする殺菌剤。例文帳に追加

This bactericide consists of fumaric acid having the bactericidal activity against the Gram negative bacteria such as legionella bacteria, E. coli, Salmonella enteritidis, and nicin having the bactericidal activity against the Gram positive bacteria such as Staphilococcus aureus, Bacillus bacteria or lactobacilli, and the concentration of the fumaric acid is set to 0.03-0.1 % (w/v), and that of nicin is set to 1-100 ppm. - 特許庁

ＬＳＩ３に設けられた半導体動作速度保証回路１０においては、速度測定専用テストベクタ１とＬＳＩテスタ２を用いることにより、ＬＳＩ３内の組み合わせ回路４を含むレジスタ５、６間の動作をもっともクリティカルな状態に設定するために、入力セレクタ１３に対し、動作速度保証モード選択回路１１が測定モードを設定し、動作速度保証状態入力回路１２が入力データを生成する。例文帳に追加

In the semiconductor operating speed guaranteeing circuit 10 provided in an LSI 13, an operating speed guaranteeing mode selector 11 sets a measuring mode and an operating speed guaranteeing state input circuit 12 generates input data to an input selector 13 to set operations of registers 5, 6 including a combinational circuit 4 in the LSI 3 to a most critical state by using a speed measuring special purpose test vector 1 and an LSI tester 2. - 特許庁

本発明に係るコンタクトホールの形成方法、並びに半導体装置、ＥＬ表示装置及び液晶表示装置の作製方法は、半導体層、導電層又は絶縁層の上方に島状の有機膜を選択的に形成し、前記島状の有機膜の周囲に絶縁膜を形成することによりコンタクトホールを設けるため、従来のようなレジストによるパターニングが不要となり、スループットの向上、コストの削減を図ることができる。例文帳に追加

The forming method of the contact holes and the manufacturing methods of the semiconductor device, EL display and liquid crystal display each dispense with the patterning by the resist as in the prior art since the island organic film is selectively formed above the semiconductor layer, conductive layer or insulating layer and the contact holes are provided by forming an insulating film around the island organic film, thereby realizing improvement of the throughput and reduction of the cost. - 特許庁

金属パターンがパターニングされている基板のモールド用レジンをナノインプリントと乾式エッチング工程とを用いて、ナノインプリント工程を適用する上で難が多かった様々な形態のモールドを容易に製作し、複雑な工程を数回行うことなく、製作されたモールドでナノインプリント工程を用いてナノ級パターンや複雑な３次元形状の微細パターンの成形を可能にする工程方法を提供する。例文帳に追加

There is provided a process method for easily manufacturing various forms of molds which have disadvantages in applying a nano imprint process by using nano imprint and a dry etching process by patterning a molding resin of a substrate having a metal pattern patterned thereon, and forming a nano-class pattern and a complicated three-dimensional micro pattern using a nano imprint process with the manufactured molds without executing a complicated process several times. - 特許庁

当該コントローラ５０は、汎用レジスタＲと、予め記憶された主要パラメータＰ１と、受信した当該主要遮断器パーソナリティパラメータＰ２を記憶するメモリ６０と、当該回路遮断装置１内の電流および電圧の少なくとも一方が、予め記憶された当該主要パラメータＰ１と受信した当該主要遮断器パーソナリティパラメータＰ２とによって規定される各既定閾値を上回る場合に、トリップ保護を実行するための構成部品とを含む。例文帳に追加

The controller 50 includes a memory 60 on which a universal register R, previously stored key parameters P1 and the received key breaker personality parameters P2 are stored, and components to execute trip protection when at least one of a current and a voltage within the circuit breaker device 1 exceeds a respective predetermined threshold as defined by the previously stored key parameters P1 and the key breaker personality parameters P2. - 特許庁

本発明は、（Ｉ）マルチドラッグレジスタンスアソシエーテッドプロテイン（ｍｕｌｔｉｄｒｕｇ ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ−ａｓｓｏｃｉａｔｅｄ ｐｒｏｔｅｉｎ；ＭＲＰ）をコードする遺伝子を植物細胞に導入することにより、ＭＲＰ形質転換植物を得る工程、（ＩＩ）工程（Ｉ）において得られたＭＲＰ形質転換植物を農薬汚染土壌で生育させる工程、及び、（ＩＩＩ）工程（ＩＩ）において生育させたＭＲＰ形質転換植物を回収する工程を包含する、農薬汚染土壌の浄化方法を提供する。例文帳に追加

The method for cleaning soil contaminated with agrochemicals comprises following processes, (I) transducing a gene encoding a multidrug resistance-associated protein (MRP) into a plant cell to obtain the MRP transformed plant, (II) a process growing the MRP transformed plant obtained in the process (I), in the soil contaminated with agrochemicals, and (III) a process collecting the MRP transformed plant grown in the process (II). - 特許庁

ストリーミング配信サーバは、オーディオ／ビデオデータを配信し、電子鍵盤楽器は、このオーディオ／ビデオデータから当該オーディオデータの音量レベルを検出し、検出したオーディオデータの音量レベルに基づいて演奏用音量レベルの初期値を決定し、決定した演奏用音量レベルを、前記音源・効果回路内に設けられている、演奏用音量レベルが格納されるレジスタに設定する。例文帳に追加

A streaming distribution server distributes audio/video data, an electronic keyboard instrument detects the volume level of the audio data from the audio/video data, decides an initial value of a volume level for performance based on the detected volume level of the audio data, and sets the decided volume level for performance into a register in which the sound level for performance is stored, which is provided in a sound source/effect circuit. - 特許庁

上記課題は、バウンダリスキャン機能を有する半導体集積回路の設計装置であって、複数のタイミング調整用バッファ間の距離を算出する距離算出手段と、前記距離算出手段により算出された距離に基づき、所定期間内にコントロール信号により前記複数のタイミング調整用バッファが駆動するように、複数のバウンダリスキャンレジスタを前記コントロール信号の供給元の後段に挿入する挿入手段と、を有する半導体集積回路の設計装置により達成される。例文帳に追加

The apparatus of designing the semiconductor integrated circuit having a boundary scan function includes a distance calculation means for calculating a distance between the plurality of timing adjustment buffers and an insertion means for inserting a plurality of boundary scan registers to the poststage of the supply source of control signals so as to drive the plurality of timing adjustment buffers by the control signals within a prescribed period on the basis of the distance calculated by the distance calculation means. - 特許庁

ディザ画像処理手段と誤差拡散画像処理手段を選択して使用可能な画像処理装置２１において、ディザ画像処理手段でマトリクスデータとして設定された複数のスレッシュ値と誤差拡散画像処理手段で設定されたスレッシュ値とを共通のスレッシュ値レジスタ２３に格納するようにするとともに、誤差拡散画像処理部で画像処理を行うときは、スレッシュ値を処理画素毎に周期的に変化させるようにする。例文帳に追加

In this picture processor 21 where a dither picture processing means and an error diffusion picture processing means can be selected and used, plural thresholds set as matrix data by the dither picture processing means and a threshold set by the error diffusion picture processing means are stored in a common threshold value register 23 and when picture processing is executed by the error diffusion picture processing means, the threshold is periodically varied for each processing pixel. - 特許庁

描画パターンデータ生成方法、描画パターンデータ生成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置、液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法例文帳に追加

DRAWING PATTERN GENERATION METHOD, DRAWING PATTERN DATA GENERATION APPARATUS AND FUNCTIONAL DROPLET DISCHARGE APPARATUS PROVIDED THEREWITH, LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS MANUFACTURING METHOD, ORGANIC EL APPARATUS MANUFACTURING METHOD, ELECTRON EMISSION APPARATUS MANUFACTURING METHOD, PDP APPARATUS MANUFACTURING METHOD, ELECTROPHORETIC DISPLAY APPARATUS MANUFACTURING METHOD, COLOR FILTER MANUFACTURING METHOD, ORGANIC EL MANUFACTURING METHOD, SPACER FORMING METHOD, METAL WIRING FORMING METHOD, LENS FORMING METHOD, RESIST FORMING AND OPTICAL DIFFUSION BODY FORMING METHOD - 特許庁

紫外線、特に300 nm以下の遠紫外線光、ＫｒＦエキシマレーザ光等に対して高透明性を有し、これ等光源による露光や電子線、軟Ｘ線照射に対して高い感度を有し、耐熱性や基板密着性に優れ、高解像性能を有し、パターン形状が経時的に変動せずに精度の高いパターンが得られ、基板依存性がなく、裾引きやスカムが発生しないことはもとより、特に近年の0.15μｍルールを利用した超微細化において顕著になっているパターン側壁及び表層の荒れ及び近接効果の影響を改善したポリマー及びこれを用いたレジスト組成物の提供。例文帳に追加

To obtain a polymer useful as a polymer used for producing semiconductor elements and the like by bringing the polymer to contain a monomer hanging a functional group having both properties of being removed by the action of an acid and radically crosslinked in a molecule as a constituent unit. - 特許庁

レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを収納する容器であって、少なくとも、容器本体と、蓋体と、ガス吸着用カセットとを具備するものであり、該ガス吸着用カセットは、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を保持するものであり、かつ、前記容器本体の側面、底面、及び前記蓋体の上面のいずれかに着脱可能に装着されるものであることを特徴とするフォトマスクブランク収納容器。例文帳に追加

The container for housing a photomask blank having a resist film formed thereon comprises at least a container body, a cover, and a gas adsorbing cassette, wherein the gas adsorbing cassette holds an organic gas adsorbent and/or a basic gas adsorbent and is detachably attached to one of the side faces or the bottom face of the container body and the upper face of the cover. - 特許庁

データ転送制御装置３０は、シリアルバスを介してホスト側データ転送制御装置１０から受信したパケットを解析するリンクコントローラ１００と、インターフェース信号を生成して、インターフェースバスに出力するインターフェース回路１１０と、インターフェース回路１１０から出力されるインターフェース信号の信号レベルが変化するタイミングを特定するためのタイミング情報が設定される内部レジスタ３５０を含む。例文帳に追加

The data transfer controller 30 includes a link controller 100 analyzing a packet received from the data transfer controller 10 at a host side via a serial bus, an interface circuit 110 generating an interface signal and outputting it to an interface bus, and an internal register 350 setting timing information for identifying change timing in a signal level of the interface signal which is output from the interface circuit 110. - 特許庁

低誘電体絶縁材料が半導体物質上に積層された基板を個々のチップに分割する，低誘電体絶縁材料を積層した基板のダイシング方法において；レジンを主結合剤として使用したブレードによって，基板の低誘電体絶縁材料層が積層された面側から，少なくとも半導体物質が露出する深さまで，基板を切削する，第１の工程と；露出した半導体物質を切断する，第２の工程と；を含むことを特徴とする，低誘電体絶縁材料を積層した基板のダイシング方法が提供される。例文帳に追加

The method for separating a semiconductor substrate, with a low-dielectric material deposited thereon, into individual chips comprises a first process wherein a blade using resin as its main binder cuts into the surface covered by a dielectric material at least to a level where the semiconductor material is exposed, and a second process wherein the blade cuts off the exposed semiconductor material. - 特許庁

複数のデータストリームからデータをインターリービング方式で暗号化処理するメモリシステムで、セッションに割り込みがあるときに、セキュリティコンフィギュレーション情報が失われるないようセキュリティコンフィギュレーション情報を保持し割り込み後に読み取りができるよう、割り込み前に、コントローラが前記セッションのセキュリティコンフィギュレーション情報をセキュリティコンフィギュレーションレジスタ５２に保存する。例文帳に追加

In a memory system cryptographically processing data from multiple data streams in an interleaved manner, a controller causes security configuration information of a session to be stored in a security configuration register 52 before a session is interrupted so that, in the case of the interruption, the security configuration information can be held so as not to be lost, and read after the interruption. - 特許庁

本発明は、キャッシュカードやクレジットカード、ＩＤカード（身分証明書）、会員証、プリペイドカードなどに用いられる情報記録媒体に関するもので、さらに詳しくは、高温状態になっている自動車内での使用やコンピュータ等の家電製品内での高温に曝されながらの使用などに際しても変形せず、更には、これらが使用済みになった時に廃棄しやすいようにした磁気記録カードやＩＣカードなどの情報記録媒体の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide an information recording medium such as a magnetic recording card and an IC card used for cash card, credit card, ID card (identification card), member card, and prepaid card prevented from deformation even in use with a high temperature exposure inside a heated automobile cabin or a household electrical appliance such as computer and easily discarded after use. - 特許庁

紙幣における透かしやマイクロ文字、クレジットカードにおけるホログラム等と同等の機能を有し、比較的偽造が容易なものに適用することで携帯者の正当性を保証することができ、商品パッケージ等に適用することにより商品パッケージ等の未開封を証明することができる導波路ホログラム型偽造防止シールとそれを備えた物品及びそれを用いた認証方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a waveguide hologram type forgery preventive seal capable of certifying validity of a carrying person by applying to a relatively easy forgery and certifying an unopen commodity package or the like by applying to the package by incorporating a function equivalent to a hologram or the like of a watermark of a paper money, a microscopic character or a credit card, an article having the same and a method for certifying using the same. - 特許庁

半導体集積回路、液晶表示素子用ＴＦＴ回路等の回路製造用のポジ型レジストとして、アルカリ水溶液からなる現像液によって現像でき、感度、現像性、残膜率、耐熱性、基板との密着性等に優れた感放射線性材料、さらに層間絶縁膜、カラーフィルター保護膜、回路保護膜等の永久膜として、耐熱性、基板との密着性、可視光領域における透明性、耐薬品性、寸法安定性等に優れた感放射線性材料を提供する。例文帳に追加

To provide a radiation sensitive material superior in sensitivity, developability, etching endurance, heat resistance, and adhesion to a substrate and developable with an aqueous alkaline developing solution and usable for a positive resist for manufacturing the semiconductor integrated circuit and the like by using a copolymer composed essentially of repeating units derived from specified monomers. - 特許庁

感光樹脂組成物が（ａ）ビフェニルテトラカルボン酸二無水物類、ビスエーテルテトラカルボン酸類等の芳香族テトラカルボン酸類と、一般式（１）で表されるジアミン類等のジアミン類から得られる可溶性ポリイミド、又はその可溶性ポリイミドにエポキシ基を有する化合物を反応させて得られるエポキシ変性ポリイミド、（ｂ）炭素−炭素二重結合を有する化合物、（ｃ）光反応性開始剤を必須成分とする感光樹脂組成物又は感光性樹脂組成物を用いて感光性ドライフィルムレジストする。例文帳に追加

The photosensitive dry film resist is obtained by using the above photosensitive resin composition. - 特許庁

データ転送制御装置３０は、シリアルバスを介してホスト側データ転送制御装置１０から受信したパケットを解析するリンクコントローラ４０と、インターフェース信号を生成して、インターフェースバスに出力するインターフェース回路１１０と、インターフェース回路１１０から出力されるインターフェース信号の信号形式を規定するためのインターフェース情報が設定される内部レジスタ３５０を含む。例文帳に追加

The data transfer controller 30 includes a link controller 40 analyzing a packet received from the data transfer controller 10 at a host side via a serial bus, an interface circuit 110 generating an interface signal and outputting it to an interface bus, and an internal register 350 setting up interface information to specify a signal type of the interface signal outputted from the interface circuit 110. - 特許庁

一方の面にＩＣチップ１と接続する配線パターン６が形成された基板４にＩＣチップ１がフリップチップ（ＦＣ）接続され、ＩＣチップ１と基板４との間にアンダーフィル樹脂８を充填・固着し、配線パターン６に沿って半田の流出を防止するソルダーレジスト７を有し、ＩＣチップ１と基板４との間にＩＣチップ１を所定の高さに保持するために厚みが略５０μｍ又は略７５μｍ程度のドライフィルム１０の支柱を配設する。例文帳に追加

A strut of a dry film 10 almost about 50 or 75 μm thick is arranged between the IC chip 1 and the substrate 4 in order to hold the IC chip 1 at a prescribed height. - 特許庁

（式中、Ｑ^1、Ｑ^2、Ｑ^3、Ｑ^4及びＱ^5は、互いに独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、シアノ基、スルフィド基、ヒドロキシ基、ニトロ基又は下式（Ｉ'）で示される基を表す。Ｑ^1、Ｑ^2、Ｑ^3、Ｑ^4及びＱ^5のうち少なくとも一つは、下式（Ｉ'）で示される基である。Ａ^＋は、対イオンを表す。式中、Ｘは、アルキレン基、エーテル結合を含むアルキレン基を表し、Ｃｙ^１は、脂環式炭化水素基を表す。）〔２〕酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、及び前記の〔１〕記載の塩を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

[2] The chemical amplification type positive resist composition contains the salt described in [1] and a resin becoming dissolvable in an aqueous alkaline solution by the action of an acid. - 特許庁

（式中、Ｒ^1、Ｒ^2、Ｒ^3は、互いに独立に、水素、水酸基、ハロゲン、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。式中、Ｑは、少なくとも一つのフッ素で置換されている脂環式炭化水素基を示す。） 〔２〕酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂と、〔１〕に記載の化合物とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The chemically amplified positive-type resist composition contains the compound of formula (1) in combination with a resin containing a polymer unit having a group unstable to acids, insoluble or scarcely soluble in an alkali and changed to be soluble in an alkali by the action of an acid. - 特許庁

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して膜厚の厚い領域と、該領域より膜厚の薄い領域を片側側部に有する非対称のレジストパターンを形成し、段差を有するゲート電極を形成し、ゲート電極の膜厚の薄い領域を通過させて前記半導体層に不純物元素を注入して、自己整合的にＬＤＤ領域を形成する。例文帳に追加

Thereafter, an LDD region is formed in a self-alignment manner by injecting an impurity element into a semiconductor layer through the region with the smaller thickness of the gate electrode. - 特許庁

従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。例文帳に追加

To obtain a new copolymer suitable for a film-forming polymer to obtain a resist pattern having a high close adhesion with a substrate and less pattern collapse in forming a very fine pattern in the production of a semiconductor, a method for forming the copolymer, and to obtain a new thiol compound useful as a chain transfer agent in the production of the copolymer suitable for the polymer for forming these patterns. - 特許庁

ＬＩＧＡプロセスにおけるリソグラフィ工程を含むＸ線リソグラフィやフォトリソグラフィ等により微小構造体を加工した際において、マスクエッジ形状の欠陥や、レジスト内に生じる反応等によって発生する微小構造体の表面の微小な荒れを改善し、当該微小構造体の表面を光学レベルで平滑にすることができる表面加工方法及び表面加工装置等を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for smoothly finishing the surface of a micro structural body at an optical level by improving a micro roughness on the surface of the micro structural body by defects of mask edge shape and a reaction in a resist when the micro structural body is finished by X-ray lithography or photo lithography including a lithography step in a LIGA process. - 特許庁

第１のマイクロコントローラ（１）の少なくとも１つの第１のマイクロプロセッサ（２）上で実行されるプログラムシーケンスの制御方法であって，前記第１のマイクロコントローラ（１）の少なくとも１つの情報レジスタ（６）から，第１のマイクロコントローラ（１）のハードウェアに関する情報が読み込まれ，前記読み込まれた情報に応じて少なくとも１つのスイッチが操作され，前記スイッチによりプログラムのシーケンスが制御される。例文帳に追加

In the control method for the program sequence to be run on at least one first microprocessor (2) of a first microcontroller (1), information on the hardware of the first microcontroller (1) is read from at least one information register (6) of the first microcontroller (1), at least one switch is operated corresponding to the read information, and the sequence of programs is controlled by the switch. - 特許庁

さらに、本発明によるフォトグラフィシステムは、光が位相シフトマスクを通過するようにさせることができる照射源と、位相シフトマスクからの該光を、瞳孔面に収束させることができる第１の調整レンズと、実質的に瞳孔面内に位置し、光の一部分を遮光することができる、遮光アパチャと、瞳孔面からの光を、フォトレジストに向けて方向付けし直すことができる、第２の調整レンズとを備える。例文帳に追加

The photography system comprises an illumination source that enables the light to pass through the phase-shift mask, a first adjusting lens that focuses the light from the phase-shift mask on the pupil plane, the light-shielding aperture that is substantially positioned at the pupil plane and shields a part of the light, and a second adjusting lens that redirects the light from the pupil plane toward the photoresist. - 特許庁

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸分解性脂環オレフィン系繰り返し単位、特定構造の無水物系繰り返し単位、及び特定構造の酸分解性アクリル系繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び芳香族基を有さない含窒素塩基性化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing acid decomposable alicyclic olefin repeating units with a specified structure, anhydride repeating units with a specified structure and acid decomposable acrylic repeating units with a specified structure and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a nitrogen-containing basic compound having no aromatic ring. - 特許庁

そのＳＩＭＤ型マイクロプロセッサにおいて、上記グローバルプロセッサから各々のプロセッサエレメントに対し、複数のデータバスが設置されており、各プロセッサエレメントは、上記複数のデータバスのうちからどのデータバスを選択するのかを指定する選択信号を生成し、上記選択信号により選択されたデータバスを介して上記グローバルプロセッサから転送される信号を、各プロセッサエレメント内の所定のレジスタに格納する。例文帳に追加

In the SIMD micro-processor, plural data buses are arranged from the global processor to the respective processor elements, the each processor element generates a selection signal for assigning selection of any data bus out of the plural data buses, and a signal transmitted from the global processor is stored in a prescribed register in the each processor element via the selected data bus selected by the selection signal. - 特許庁

特定の脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも１つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、且つモノマー成分の含有量がゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）の全パターン面積の５％以下である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive type resist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing an alkali-soluble group protected with at least one specified alicyclic hydrocarbon-containing partial structure, having ≤5% monomer content based on the entire pattern area by gel permeation chromatography(GPC) and having the rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid. - 特許庁

また、キャッシュメモリ装置１０における読出制御手段６０は、有効ビットレジスタ４０から供給される有効ビットＶによって、ＣＰＵ２０から供給されるインデックスデータＩｄにて指定されたキャッシュラインＣにおける単位データｄの有効または無効がバンクＢ毎に指定されると、有効とされたバンクＢにおける複数の制御配線に対してのみインデックスデータＩｄを供給する。例文帳に追加

Furthermore, if an effective bit V supplied from the effective bit register 40 determines whether unit data d in a cache line C, designated by index data Id supplied from a CPU 20, is valid or invalid for each bank B; a read control means 60 in the cache memory device 10 supplies the index data Id only with respect to a plurality of control wires in the valid bank B. - 特許庁