「レジ」に関連した英語例文の一覧と使い方(807ページ目) - Weblio英語例文検索

データセレクタ５は「画像毎のスムージング禁止」と「画素毎のスムージング禁止」がレジスタ６に設定されている場合には多値の入力画像データを選択し、「画像毎のスムージング禁止」、「画素毎のスムージング禁止」が設定されてない場合にはスムージング処理部４のスムージング処理画像を選択する。例文帳に追加

A data selector 5 selects input multi-valued picture data when 'inhibition of smoothing in the unit of pictures' and 'inhibition of smoothing in the unit of pixels' are set in a register 6, and the data selector 5 selects the picture subjected to smoothing processing in the smoothing processing part 4 when they are not set. - 特許庁

例えばＫｒＦ、ＡｒＦ等のエキシマレーザーなどの短波長の露光光の反射率が低く、酸素プラズマ等のリアクティブイオンによるエッチングに対するエッチング耐性にも優れる下層膜を形成するための下地材、及び該下地材を用いた多層レジストパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate material for forming a lower layer film superior in resistance to etching by reactive ions such as oxygen plasma, while reflectivity of exposure light of short wavelength of excimer laser or the like such as KrF and ArF is low for instance, and to provide a method for forming a multi-layer resist pattern using the substrate material. - 特許庁

そして、アップ／ダウンカウンタ回路５２は、システムクロックＣＫに同期して、電圧比較回路５１の比較結果に基づいて出力バッファサイズを制御し、更新制御レジスタ回路５３は、ＯＥ信号が活性化するリードやライトあるいはノップ（Ｎｏｐ）といったの特定のオペレーティング状態になると、出力バッファサイズデータを更新する。例文帳に追加

Then, an up/down counter circuit 52 controls an output buffer size on the basis of the compared result of the voltage comparator circuit 51 synchronously with the system clock CK and in a specified operating state such as read, write or Nop activating an OE signal, an updating control register circuit 53 updates output buffer size data. - 特許庁

そして、第２のメッキレジスト膜２８の開口部２８ａ内に柱状電極１０を電解メッキにより形成するとき、メッキ治具のシールリング２７を第２のシールリング接触部３２の上面に接触させると、メッキ用接続端子部８ａの部分へのメッキ液の浸入を確実に防止することができる。例文帳に追加

When forming the columnar electrode 10 by electrolytic plating in an opening 28a of the second plating resist film 28, a plating liquid is surely prevented from entering the plating connection terminal 8a by causing a seal ring 27 of a plating jig to contact to the upper surface of the second seal ring contact part 32. - 特許庁

ＬＳＩの外部に設けられた不揮発性メモリ１５に、発振回路１３から発振されるクロック信号の周波数を変更するための周波数設定値が記憶されており、その周波数設定値が、発振回路１３から発振される初期設定された周波数のクロック信号によって読み出されると、ダミーレジスタ１１に格納される。例文帳に追加

A frequency setting value for changing the frequency of a clock signal oscillated from an oscillation circuit 13 is stored in the nonvolatile memory 15 provided outside an LSI, when the frequency setting value is read from a clock signal with the initially set frequency oscillated from the oscillation circuit 13, it is stored in a dummy register 11. - 特許庁

フィラメントワインディング装置１０は、カーボン繊維３０をセットし巻き出しを行うクリールスタンド１４と、巻き出されたカーボン繊維３０に樹脂を含浸させ、樹脂含浸繊維３２として供給するレジンバス１６と、樹脂含浸繊維３２を揃えてライナー２０に沿って巻き付けるアイクチ案内部１８とを含んで構成される。例文帳に追加

The filament winding apparatus 10 is constituted of a creel stand 14 for setting carbon fibers 30 to unwind them, a resin bath 16 for impregnating the unwound carbon fibers 30 with a resin to supply them as the resin-impregnated fibers 32 and an Aikuchi-guide part 18 for arranging the resin impregnated fibers 32 to wind them along a liner 20. - 特許庁

制御部１８０は、残響時間を変更する際、該残響時間設定用レジスタ１５０に記憶されている複数の制御情報のうち、残響時間変更後の設定値に応じた制御情報を読み出し、読み出した制御情報を第１アドレス制御回路１２０及び第２アドレス制御回路１４０に供給する。例文帳に追加

A control part 180 when varying a reverberation time reads control information corresponding to a set value after reverberation time variation among pieces of control information stored in the register 150 and supplies the read control information to the 1st address control circuit 120 and 2nd address control circuit 140. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術における課題を達成すべく、現像欠陥、特にラインパターン及びトレンチパターン形成におけるブリッジングを低減した遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photoresist composition for exposure to a far ultraviolet ray in which bridging for forming a developing defect or particularly line pattern and a trench pattern is reduced so as to perform a subject in a technique for improving an original performance of a microphotofabrication used for a far ultraviolet ray or particularly an ArF excimer laser beam. - 特許庁

ｎビットのパラレルデータ＃１〜＃ｎの先頭ビットのデータ＃１を出力するレジスタ１０_1とラッチ回路６との間の信号線を短くすることによって、信号線による遅延や増幅回路３のゲートによる遅延をなくすことができるため、先頭ビットのデータ＃１の信号が出力されるタイミングが早まる。例文帳に追加

Since the delay caused by the signal line between a register 101 which outputs the data #1 of leading bit of n-bit parallel data #1-∼ and a latch circuit 6 or the gate of an amplifier circuit 3 can be eliminated by shortening the signal line, the outputting timing of the data #1 becomes earlier. - 特許庁

ＢＭレジンとボールスペーサ混合溶液が装着されたインクジェット装備を用意する工程と、前記インクジェット装備を用いて基板上の所定領域に前記混合溶液を塗布してＢＭ層及びボールスペーサを同時に形成する工程と、を備えてなる液晶表示素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

The method for manufacturing the liquid crystal display element is provided with steps: to prepare inkjet equipment on which a mixed solution of a BM resin and the ball spacers is placed; and to simultaneously form the BM layers and the ball spacers by applying the mixed solution to predetermined regions on the substrate by using the inkjet equipment. - 特許庁

下記式の化合物或いはその部分加水分解縮合物と、下記式のシラン或いはその部分加水分解縮合物、及び／又は下記式の化合物或いはその部分加水分解縮合物とを共加水分解縮合させたシリコーンレジン（Ｉ）を含む耐擦傷性表面被膜形成用シリコーンコーティング組成物。例文帳に追加

The silicone coating composition for forming the scratch resistant surface coating comprises a silicone resin (I) obtained by co-hydrolysis/condensation of a compound of formula (1) or its partially hydrolyzed condensate, a silane of formula (2) or its partially hydrolyzed condensate, and/or a compound of formula (3) or its partially hydrolyzed condensate. - 特許庁

一周期に相当するサイクル数をカウントするカウンタ３２６から当該カウンタ３２６がカウントするカウント数と、停止タイミングレジスタ３２７から非周期プログラムの実行を停止させる停止タイミングを示すサイクル数と、をプログラムカウンタ制御ユニット３１２にそれぞれ入力する。例文帳に追加

The number of counts counted by a counter 326 is input to a program counter control unit 312 from the counter 326 counting the number of cycles corresponding to one period, and the number of cycles showing stop timing stopping execution of an aperiodic program is also input to the program counter control unit 312 from a stop timing register 327. - 特許庁

接続待ち状態処理を設け、接続待ち状態となるときバス構成レジスタ２２の内容を消去することにより、動作開始時、およびバスのどこかでデバイスが切断されたとき、バス全体をリセットしてバス構成全体のエニュメレーションを開始し、１から順にデバイスアドレスを割当てる。例文帳に追加

A connection waiting state process is provided, the entire bus is reset to start to enumerate the entire bus configuration when an operation is started or when a device is disconnected somewhere in the bus by erasing the contents of a bus configuration register 22 when becoming a connection waiting state, and device addresses are allocated in order from one. - 特許庁

この信号発生部２００は、複数のレジスタ２５０のそれぞれに制御データを記憶しており、レーザ光の水平走査同期信号及び多値画像データに同期した画素同期信号により求めた、形成される画素位置に応じて、対応する制御データを読み出して光変調部１１０に供給している。例文帳に追加

The signal generating part 200 has control data stored in each of a plurality of registers, and reads out and supplies to the optical modulation part 110, corresponding control data in accordance with positions of pixels to be formed which are obtained by laser light horizontal scanning synchronizing signals and pixel synchronizing signals synchronous with multi-valued image data. - 特許庁

ヘッドとシャフト、グリップで形成されたゴルフクラブにおいて、ヘッドの重量を低減することによって、打球の飛距離を低減し、球場造成時に土地蚕食にともなう問題を解消して、ゴルフ競技方式を応用した新しい概念のレジャースポーツを提供して、ゴルフを大衆向けに拡大できるゴルフクラブを提供する。例文帳に追加

To provide a golf club formed of a head, shaft and grip, reducing the weight of the head to decrease the carry of a hit ball, solving the problem of ground encroach due to development of a golf course, providing a leisure sport having a new concept to which the golf tournament system is applied, and spreading golf for ordinary people. - 特許庁

電子線を放出する電子源１０を備え所望の転写パターンに応じた領域から電子線を放出させるマスクプレート１と、マスクプレート１と電子線レジスト層４が塗布された被転写基板３との間に配置され電子源１０から放出された電子を集束する電子レンズ２とを備える。例文帳に追加

The electron beam aligner comprises a mask plate 1 equipped with an electron source 10 for discharging an electron beam from a region, depending on the desired transfer pattern, and an electron lens 2 interposed between the mask plate 1 and a substrate 3 to be transferred coated with an electron beam resist layer 4 and focusing the electrons discharged from the electron source 10. - 特許庁

信号線回路装置１０２は、誘電体層１０４と、誘電体層１０４の表面に形成された信号線１０６と、実装基板１２０と誘電体層１０４との間に形成され、信号線１０６と実装基板１２０との間に空隙を生じさせるスペーサ（半田１３０またはフォトソルダレジスト１３２）と、を含む。例文帳に追加

The signal line circuit device 102 is provided with a dielectric layer 104, the signal line 106 formed on the surface of the dielectric layer 104, and a spacer (solder 130 or photo solder resist 132) formed between the mounting substrate 120 and the dielectric layer 104 for generating a clearance between the signal line 106 and the mounting substrate 120. - 特許庁

ソルダーレジスト組成物は、（Ａ）ノボラックフェノール樹脂（１）とアルコキシシラン部分縮合物（２）とを部分的に脱アルコール縮合反応させて得られるアルコキシ基含有シラン変性フェノール樹脂、（Ｂ）エポキシ樹脂、及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴としており、好適にはさらに（Ｄ）無機フィラー及び／又は（Ｅ）硬化触媒を含有する。例文帳に追加

The solder resist composition contains (A) alkoxy group- containing silane modified phenol resin, obtained by partial de-alcoholization condensation reaction of (1) novolac phenol resin and (2) alkoxysilane partially condensed product, (B) epoxy resin and (C) solvent, and moreover, the composition preferably contains (D) inorganic filler and/or (E) hardening catalyst. - 特許庁

フィラーを含有しなくても耐溶剤性、難燃性、可撓性、導体回路に対する追従性、現像性、半田耐熱性を確保することができる樹脂組成物で、さらに真空ラミネート性をも満足するソルダーレジストドライフィルムを提供することができる感光性樹脂組成物、及びこれを用いた感光性樹脂積層体を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition capable of ensuring solvent resistance, flame retardancy, flexibility, conformability to a conductor circuit, developability and resistance to the heat of soldering without containing any filler, and capable of providing a solder resist dry film which also satisfies vacuum laminating property, and a photosensitive resin laminate using the same. - 特許庁

ゲームの終了がスロットマシン１０からサーバ１００に通知されると、そのスロットマシン１０のプレーヤ識別情報と共にデータベース１０６に記憶されているダウンロード履歴情報を用いて、そのプレーヤのプレイに対する課金情報がサーバ１００で生成され、生成された課金情報が、クレジットカード会社３００の決済処理用サーバ３１０に出力される。例文帳に追加

When the end of the game is notified from the slot machine to the server 100, the server 100 creates accounting information to the play of the player using the download history information stored in the database 106 along with the player identification information of the slot machine 10 and outputs the created accounting information to a settlement server 310 of a credit-card company 300. - 特許庁

第１のポイントプログラムは、第１の店舗の端末にクレジットカードが挿入または提示されたことに応答して、第１の店舗で使用可能なポイントとして第１のメモリ領域と第２のメモリ領域のポイントの合計を顧客に提示し、購入代金および使用ポイントに応じて第１および第２のメモリ領域のポイントを書き換える。例文帳に追加

A first point program presents to the customer the total of points of the first and second memory regions as points usable for the first store in response to insertion or presentation of the credit card to a terminal of the first store and rewrites the points of the first and second memory regions according to the purchasing amount and used points. - 特許庁

架橋効率が高く、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が小さいためパターン崩壊やラインエッジラフネスが低減される、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作成における微細パターン形成材料として好適なレジスト材料を提供する。例文帳に追加

To provide a resist material having high crosslinking efficiency, very high contrast of alkali dissolution rate before and after exposure, high sensitivity and high resolution, less liable to swell during development, so that pattern collapse and line edge roughness are reduced, and suitable for use as a fine pattern forming material particularly for VLSI manufacture or in photomask pattern formation. - 特許庁

投光基板上にクロム遮光層が形成され、その上にクロラインガス及び酸素ガスを含むエッチングガスに対して前記クロム遮光層とのエッチング選択比が少なくとも３：１以上になる導電性物質よりなるハードマスク層が形成され、その上にレジスト層が形成されるブランクフォトマスクである。例文帳に追加

The blank photomask comprises: a chromium light shielding layer formed on a light-transmissive substrate; a hard mask layer comprising a conductive substance formed thereon with an etching selectivity of at least 3:1 or higher with respect to the chromium light shielding layer against an etching gas mixture containing chlorine gas and oxygen gas; and a resist layer formed on the hard mask layer. - 特許庁

フォトレジスト膜の表面上に上層膜を形成するために用いられる上層膜形成組成物であって、（Ａ）下記式（１）で示される繰り返し構造単位を有する重合体、（Ｂ）上記（Ａ）以外の重合体であって、スルホン酸基を有する重合体および（Ｃ）溶剤を含有する上層膜形成組成物。例文帳に追加

The upper-layer film forming composition is used to form the upper-layer film on a surface of a photoresist film, and contains (A) a polymer having a repeating structure unit expressed by formula (1), (B) a polymer other than (A) and having a sulfonic acid group, and (C) a solvent. - 特許庁

また、本発明に係るコーティング装備運用方法は、定盤上にコーティングを行う第１基板を搬出する段階と、定盤洗浄部を用いて定盤を洗浄する段階と、洗浄された定盤上に、コーティングを行う第２基板を搬入する段階と、ノズル部から第２基板にレジンを噴射してコーティングを行う段階とを含む。例文帳に追加

The method for operating the coating equipment comprises the steps of: carrying the first coated substrate on the surface plate; cleaning the surface plate by using the surface plate cleaning part; carrying the second substrate to be coated onto the cleaned surface plate; and jetting the resin toward the second substrate from the nozzle part to coat the second substrate with the resin. - 特許庁

優れた塗布性を有し、マイクロバブルの発生が著しく抑制され、形成された反射防止膜が定在波効果を十分低減でき、かつ水および現像液に対する溶解性に優れた塩基遮断性反射防止膜形成用組成物、並びに当該組成物を用いるレジストパターンの形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a composition for forming a base blocking antireflection film, the composition which has excellent coating property and significantly suppresses production of microbubbles and which results in an antireflection film sufficiently decreasing a standing wave effect and having excellent solubility with water and a developing solution, and to provide a method for forming a resist pattern using the above composition. - 特許庁

そして、カードユニット２３０側が貸球の払出に対応できる状態にある場合、カードユニットレディ信号ＢＲＤＹ、球貸要求完了確認信号ＢＲＱが、カードユニット２３０からスロットマシン１０に入力され、スロットマシン１０において所定数のクレジットメダルが払い出される。例文帳に追加

When the card unit 230 side is in a condition capable of dealing with pay-out of lending balls, a card unit ready signal BRDY and a ball lending request acknowledgment signal BRQ are input from the card unit 230 to the slot machine 10 and the prescribed number of credit tokens are paid out at the slot machine 10. - 特許庁

（Ａ）酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大してネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、１個または２個のフッ素原子を有する酸を発生する光酸発生剤と、（Ｃ）溶剤とを含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。例文帳に追加

The resist composition for negative development includes (A) a resin which has an acid decomposable repeating unit and exhibits increased polarity and decreased solubility in a negative developer under the action of an acid, (B) a photoacid generator which generates an acid having one or two fluorine atoms upon irradiation with actinic rays or radiation, and (C) a solvent. - 特許庁

段差６を有する半導体基板５上にＢＰＳＧ膜から成る層間絶縁膜９を形成して平坦化する方法において、段差の低い領域６ａのみレジスト膜１０で覆って、ＢＰＳＧ膜をエッチング量の制御性良く選択的にウェットエッチングして、平坦性の良好な層間絶縁膜９を再現性良く形成する。例文帳に追加

To form a flat inter-layer insulating film with good reproducibility by covering only the region with low step difference with a resist film and selectively wet-etching a BPSG film with well control of etching amount, related to a method for forming an inter-layer insulating film of a BPSG film on a semiconductor substrate comprising a step for satisfactory flattening. - 特許庁

ライントナー載り量またはライン幅を画像形成条件を２段階以上振りながら変動させることにより、濃度検知センサ５により算出した最適画像形成条件と、レジ検知センサ５により測定したライントナー載り量の測定データから、ライントナー載り量が適正値となるように最適画像形成条件を調整する。例文帳に追加

By varying the line toner applying amount or the line width while changing the image forming condition two or more levels, the optimum image forming condition is adjusted based on the optimum image forming condition calculated by a density detection sensor 5 and the measurement data of the line toner applying amount measured by the sensor 6 so that the line toner applying amount becomes a proper value. - 特許庁

シリコンアルコキシドまたはその加水分解物（Ａ）と、着色材（Ｂ）と、高分子分散剤（Ｃ）と、シリコンオイル、シランカップリング剤、シラザン、シリコン樹脂、シリコンレジン、コロイダルシリカの群から選択された１種または２種以上のシリコンを含有する成分（Ｄ）を含有することを特徴とする塗料を用いる。例文帳に追加

To provide a coating contains a silicon alkoxide or a hydrolysate thereof (A), the coloring material (B), a polymer dispersant (C), and one, two, or more kind of silicon-containing components (D) selected from a group consisting of a silicone oil, a silane coupling agent, a silazane, a silicone plastic, a silicone resin, and colloidal silica. - 特許庁

下側カバー16は、耐熱性メタクリル樹脂の基体21に、炭素とシリコンの比が１．２ないし１．６で酸化シリコンが含有される膜厚１μｍのメチルフェニルシリコーンレジンシリコーン樹脂の中間層22を形成し、中間層22の表面に、酸化チタンを主成分とした光触媒膜23を形成する。例文帳に追加

A lower side cover 16 is formed by forming an intermediate layer 22 of methyl phenyl silicone resin having a thickness of 1 μm containing silicon oxide of carbon-silicon ratio of 1.2 to 1.6 on a substrate 21 of a heat resistant methacrylic resin and forming a photocatalyst film 23 primary constituent of which is titanium oxide on the intermediate layer 22. - 特許庁

マイコン１に設けれらたＤＭＡ調停回路３は、ＣＰＵ２Ａ，２Ｂの内何れか１つがＣＰＵ選択レジスタ１２に選択データの書き込みを行うと、その書き込まれたデータに基づいて、ＣＰＵ２Ａ，２Ｂの何れか１つとＤＭＡ４との間でデータ転送を行うための制御信号，BUSREQ,BUSACK が伝達されるように調停を行う。例文帳に追加

When either CPU 2A or 2B writes selection data to a CPU selection register 12, a DMA arbitration circuit 3 provided in the microcomputer 1 performs arbitration so as to transmit a control signal, BUSREQ, BUSACK for transferring data between either CPU 2A or 2B and DMA 4 based on the written data. - 特許庁

少なくとも二種類のポリシランを少なくとも二層に分けて成膜した反射防止膜を、レジストパターンをマスクとしてドライエッチングを行う際、加工形状の断面が垂直状に得られるようになり、エッチング時の反応生成物によって生じるマイクロローディング効果の影響を制御できる。例文帳に追加

To obtain a vertical section in a treated shape, when an antireflection film formed of at least two separate layers of at least two kinds of polysilanes is dry-etched with a resist pattern used as a mask and thereby to enable control of the influence of microloading effects produced by a reaction product in etching. - 特許庁

（Ａ）特定構造の有機基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によりフッ素置換された炭素数２または３のアルカンスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive resist composition contains: (A) a resin having an organic group of a specified structure and having the solubility to an alkali developer solution increased by the effect of an acid; (B) a compound generating a fluorine-substituted alkane sulfonic acid having 2 or 3 carbon atoms upon irradiation with active rays or radiation; and (C) a solvent. - 特許庁

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び（Ｃ）少なくとも１つの環状エーテル基を有する塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which is insoluble or hardly soluble in an alkali developer solution and becomes soluble in an alkali developer solution by the action of an acid; and (C) a basic compound having at least one cyclic ether group. - 特許庁

商品が入れられる際、販売店舗で使用される買物かご内に全開状態で装着され、レジでの清算時に顧客が持参した買物用かばんに商品を直接移しかえることができ、再度持ち帰り用の袋に移しかえる手間を省くとともに、ワンタッチで買物かごに着脱可能で使い勝手が良い買物用かばんを提供する。例文帳に追加

To provide a shopping bag which can be detachably attached to a shopping basket and set in a fully opened condition into a shopping basket used in a shop and to which goods can be directly moved upon payment at the cash desk to save labor to move goods to a bag for taking back. - 特許庁

少なくとも、下記一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位ａと、カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位ｂとを含む、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の高分子化合物をベース樹脂として含有することを特徴とするポジ型レジスト材料。例文帳に追加

The positive resist material contains (as a base resin) a high polymer with the weight-average molecular weight 1,000-500,000 which at least contains a repeating unit a having a group represented by the following general formula (1), and a repeating unit b which is a carboxyl group with the hydrogen atom substituted by an acid labile group. - 特許庁

本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、ラクトン環を有するノルボルネオールの（メタ）アクリレート単位を含有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の樹脂と、感放射線性酸発生剤と、を含有する。例文帳に追加

The radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure is used in liquid immersion exposure by which a resist film is exposed through water, and contains an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which contains a (meth)acrylate unit of norborneol having a lactone ring and becomes alkali-soluble under the action of an acid and a radiation-sensitive acid generator. - 特許庁

命令キャッシュ１０８から供給される命令列において、命令無効化回路１０９で浮動小数点演算ユニットを使用しない命令を無効命令に置き換え、その無効命令を浮動小数点命令レジスタ１１１に保持し、浮動小数点演算ユニット内の浮動小数点デコーダ１１９に供給するように構成される。例文帳に追加

In an instruction sequence supplied from an instruction cache 108, an instruction invalidating circuit 109 replaces an instruction not using the floating-point arithmetic unit with an invalid instruction, then the invalid instruction is held by a floating-point instruction register 111 and supplied to a floating-point decoder 119 in the floating-point arithmetic unit. - 特許庁

画像制御用トナーマークの濃度が変動したり、当該画像制御用トナーマークが転写される移動体の表面状態が劣化した場合であっても、画像制御用トナーマークから画像の位置情報を確実に検出することができ、レジコンを精度良く行うことが可能なカラー画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a color image forming apparatus capable of accurately performing registration control by surely detecting the position information of an image from a toner mark for controlling an image even if the density of the toner mark for controlling the image is varied or the surface state of a moving body to which the toner mark for controlling the image is transferred is deteriorated. - 特許庁

作業レジスタによって、設定されたビット位置に応じてフォントデータまたは図形のデータをシフトさせる処理、設定されたアドレスおよびビット位置に応じて表示用記憶装置から読み出されたデータをマスクする処理、およびシフトされたデータとマスクされたデータとをＯＲ処理して書き込みデータを生成する処理が行われる。例文帳に追加

There are performed processing of shifting the font data or data of the figure according to the bit position set in a working register, processing of masking data read out of the display storage device according to the set address and bit position, and processing of generating write data by ORing the shifted data and masked data. - 特許庁

塗料形成材料、記録材料化合物、インキ用原料樹脂、塗料用材料、接着剤用樹脂組成物、エポキシ用樹脂原料、フォトレジスト用材料、ＵＶ、ＥＢ用樹脂原料、酸化防止剤、成形材料、添加用樹脂等として有用な樹脂組成物、並びに硬化性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To obtain a resin composition and a curing resin composition useful as paint-forming materials, recording material compounds, raw material resins for ink, materials for paint, resin compositions for adhesives, raw materials for epoxy resins, materials for photoresist, raw resin materials for UV and EB, antioxidants, molding materials, additive resins, and the like. - 特許庁

本発明は、上部から照射されたレーザー光を回折して格子状の干渉縞を形成する位相格子マスクを用いて、照射されたレーザー光を干渉させ、その干渉光を物質表面に塗布又は堆積したレジストに照射し、現像することによって、前記周期構造に対応するパターンを形成する。例文帳に追加

A laser beam applied by using a phase grating mask which diffracts the laser beam applied from above and forms grid-shaped interference fringes is allowed to interfere, a resist coated or deposited on the material surface is irradiated with the coherent beam and is developed and, thereby, a pattern corresponding to the periodic structure is formed. - 特許庁

このレジスト剥離装置は、基板Ｓをほぼ水平に保持して回転するスピンチャック１と、このスピンチャック１に保持された基板Ｓの表面に硫酸を供給するためのノズル２と、スピンチャック１に保持された基板Ｓの表面に過酸化水素水の液滴の噴流を供給するためのソフトスプレーノズル３とを備えている。例文帳に追加

This resist peeling apparatus is equipped with a spin chuck 1 which rotates while holding a substrate S nearly horizontally, a nozzle 2 for supplying sulfuric acid to the surface of the substrate S, and a soft spray nozzle 3 for supplying a jet of droplets of oxygenated water to the surface of the substrate S held by the spin chuck 1. - 特許庁