「レジ」に関連した英語例文の一覧と使い方(808ページ目) - Weblio英語例文検索

樹脂と架橋剤からなる水溶性，またはアルカリ可溶性組成物において，非イオン性界面活性剤，または，アルコール系，鎖状または環状エステル系，ケトン系，鎖状または環状エーテル系からなる有機溶剤群から選ばれた有機溶剤のうち少なくともどちらか一方を含むことを特徴とするレジストパターン膨潤化材料。例文帳に追加

A resist pattern swelling material is provided which contains at least any one of a non-ionic interfacial active agent and an organic solvent selected from a group of the alcohol based, chain or cyclic ester based, ketone based, chain or cyclic ether based organic solvents in a water-soluble or alkali- soluble composition comprising a resin and a cross linking agent. - 特許庁

不正アドレスアクセス遮断機構内に、アクセスを許可するアドレス範囲を設定するレジスタを設け、アドレス線に出力されているアドレスが、その範囲内であるかどうかを比較器によって判定し、範囲を逸脱した場合には、制御線の出力を抑止することによって不正アドレスアクセスを遮断する。例文帳に追加

A register for setting an address range to allow an access in the mechanism, whether the address output onto the address line is in the range or not is determined by a comparator, and if the address exceeds the range, the illegal address access is blocked by inhibiting the output from the control line. - 特許庁

（Ａ）アルカリ可溶性のヒドロキシスチレンとスチレンとの共重合体、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生するハロゲン含有トリアジン化合物及び（Ｃ）Ｎ位がメチロール基又はアルコキシメチル基あるいはその両方で置換されたメラミン樹脂及び尿素樹脂の中から選ばれた少なくとも１種の架橋剤を含有してなるネガ型レジスト組成物とする。例文帳に追加

The negative resist composition contains (A) copolymers of alkali-soluble hydroxyl styrene and styrene, (B) halogen-containing triazine compounds which generate acids by irradiation of radiation and (C) at least one kind of crosslinking agent selected from melamine resin and urea resin in which the N-site atoms are substituted with methylol groups or alkoxy methyl groups or both of the groups. - 特許庁

優れたレジスト溶解速度を有し、低毒性で極めて安全性が高く、環境保全にも優れ、不快臭も極めて少なく、比較的高沸点で操作性が良好であり、残さや析出物を生じることがなく、高品位の電子部品製造用基材を高効率で製造することができるエッジビードリムーバを提供する。例文帳に追加

To obtain an edge bead remover having excellent resist dissolving rate, low toxicity and extremely high safety, excellent in environmental protection, having extremely slight unpleasant smell, relatively high boiling point and good operability, not generating residue and deposit and capable of producing a high-grade substrate for production of electronic parts. - 特許庁

本発明に係るＳＩＭＤ型マイクロプロセッサは、複数のプロセッサエレメントがプロセッサエレメントアレイ部を構成し、各プロセッサエレメントが夫々、Ｍ個（Ｍは２以上の自然数）の算術論理演算回路、及び、個々の算術論理演算回路に対応するＭ個の演算結果格納用レジスタを装備するＳＩＭＤ型マイクロプロセッサである。例文帳に追加

This SIMD type microprocessor comprises a processor element array part composed of a plurality of processor elements, each processor element including M-pieces of arithmetic logic units (M is a natural number of 2 or more) and M-pieces of arithmetic result storage registers corresponding to the individual arithmetic logic units. - 特許庁

パルス周期測定禁止判定部１３ではフリーランカウンタ２とインプットキャプチャレジスタ４の一致信号によりパルス信号３によるＣＰＵ１４での周期測定を禁止し、その後パルス信号３が２発入力されることでパルス信号３の周期測定を許可するパルス周期測定禁止信号６を生成する。例文帳に追加

A pulse period measurement inhibition decision section 13 prohibits the period measurement in a CPU 14 by pulse signals 3 by the coincidence signal of a free run counter 2 and an input capture register 4 and forms a pulse period measurement inhibition signal 6 to permit the period measurement of the pulse signals 3 when the two pulse signals 3 are thereafter inputted. - 特許庁

１６ビット乱数更新回路１０１ｓは、発振回路１０１ｈから出力されるクロック信号の立ち上がりを検出すると、シフトレジスタにある１６ビットのデータを１ずつシフトさせるとともに、複数の上位ビットにあるデータから排他的論理和を演算し、排他的論理和のデータを下位ビットにフィードバックさせる。例文帳に追加

When detecting rising of a clock signal output from an oscillation circuit 101h, a 16-bit random number updating circuit 101s shifts 16-bit data in a shift register by 1, calculates exclusive disjunction from data of most significant bits, and feeds back the exclusive disjunction data to least significant bits. - 特許庁

ネットワーク上での電子商取引きを行う場合に、クレジットカード番号等の個人情報の流出を防止でき、かつ販売者と与信機関の契約関係の有無に関係なく、任意の販売者から購入した商品の支払対価に対する与信を行うことができる与信方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a credit method capable of preventing the outflow of personal information such credit card number in the execution of an electronic commerce on a network, and performing the credit to the payment price of a commodity purchased from an optional seller regardless of the presence/absence of the contractual relationship between the seller and a credit organization. - 特許庁

ドライバマネジャ１１２は、上記アプリケーションとサービスプロバイダとを対応付けたレジストリ１０４に基づき、形式判定部により判定されたアプリケーションを実行するサービスプロバイダを決定し、決定されたサービスプロバイダに上記取得したデジタル文書を送信し、かつ、該サービスプロバイダから該デジタル文書をレンダリングした印刷用データを受信する。例文帳に追加

A driver manager 112 selects a service provider to execute the application determined by the format determining part based on a registry 104 wherein the application and the service provider correspond to each other, transmits the acquired digital document to the determined service provider, and receives print data resulting from rendering the digital document from the service provider. - 特許庁

ポリイミドフィルム１０の一方の面にリード５４が形成され、ポリイミドフィルム１０の他方の面から突出するように、ビアホール３０を介してリード５４上に外部接続用端子１１が形成され、一方の面側にＩＣチップ１５が接着されているので、リード５４がＩＣチップ１５にて覆われ、ソルダレジストの塗布を省略することができる。例文帳に追加

Thus, the leads 54 are covered by the IC chip 15, and the application of solder resist can be omitted. - 特許庁

酸素による重合阻害を起こさないため、充填、硬化後の仕上げ研磨を行わなくても高い表面滑沢性が得られ、その表面滑沢性が長期にわたって持続可能であり、かつ、高いフィラー充填率および良好な操作性を有する、歯科用コンポジットレジンとして好適な硬化性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a curable composition which is free from the polymerization inhibition by oxygen and thus can achieve high surface lubricity without finish-polishing, which is usually done after filling and curing, can retain the surface lubricity for a long time, has high filler filling ratio and good operationality, and thereby is suitable for a dental composite resin. - 特許庁

ラッチ回路１４５０が１７５段接続されたシフトレジスタ１４０のうち、第１段および最終段によって出力される信号Ｆ１、Ｆ１７４に基づいて選択されるデータ線１１４、および、これに隣接するデータ線１１４に対応した画素１１０については、ダミー画素領域として非表示とさせる。例文帳に追加

Pixels 110 corresponding to a data line 114 and an adjacent data line 114 selected based on signals F1, F174 outputted by a 1st stage and a final stage of a shift register 149 wherein 175 stages of latch circuits 1450 are connected, are non-displayed as a dummy pixel region. - 特許庁

柔軟性、屈曲性等に優れ、かつ表面硬度、耐汚染性ならびに耐候性等にも優れた塗膜性能を得られる活性エネルギー線硬化用不飽和基含有ウレタン樹脂、該不飽和基含有ウレタン樹脂を用いた活性エネルギー線硬化組成物及び該活性エネルギー線硬化組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an unsaturated group-containing urethane resin for an active energy ray-curing which gives a coating film performance excellent in flexibility, softness, surface hardness, fouling resistance, weather resistance and the like, an active energy ray-curing composition using the resin and a method for forming a resist pattern using the composition. - 特許庁

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To solve the problems of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device and to provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good line edge roughness particularly in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray. - 特許庁

制御部は、操作部が受け付けた呼出操作に応答して、カレント情報が含む複数のパラメータのうち、現在の時刻から遡って所定の範囲内にある変更時刻に対応付けられているパラメータ以外のパラメータを、呼出操作で指定されたレジストレーション情報に含まれるパラメータに更新する。例文帳に追加

In response to a calling operation received by an operation part, a control part updates parameters other than the parameter corresponding to an update time within a predetermined range before the current time among a plurality of parameters contained in current information, to a parameter contained in registration information specified by the calling operation. - 特許庁

そして、ドライバが前回のドライバと同じ人物であり、かつ、自動車の搭乗者がドライバのみであれば、メディアプレイヤ１０３の出力を前回の車載ＡＶシステムの動作停止時の状態にレジュームし、他の場合には、メディアプレイヤ１０３に、予め定めたソースのＡＶコンテンツの出力を開始させる。例文帳に追加

When the driver is identified with the last driver and there is only the driver in the car, the output of the media player 103 is resumed to the last operation stop state of the in-vehicle AV system, and in another case, the media player 103 starts outputting AV contents of a predetermined source. - 特許庁

フォトレジスト剥離剤組成物は、ブチルジグリコール５０重量％以上７０重量％以下、アルキルピロリドン２０重量％以上４０重量％以下、有機アミン化合物１重量％以上１０重量％以下、アミノプロピルモルホリン１重量％以上５重量％以下及びメルカプト化合物０．０１重量％以上０．５重量％以下を含む。例文帳に追加

The photoresist-stripping agent composition comprises butyl diglycol by 50 wt.% to 70 wt.%, alkyl pyrrolidone by 20 wt.% or higher to 40 wt.% or lower, an organic amine compound by 1 wt.% to 10 wt or lower.%, amino propylmorpholine by 1 wt.% to 5 wt.%, and a mercapto compound by 0.01 wt.% to 0.5 wt.%. - 特許庁

（Ａ）特定の有橋式脂環式構造を有する繰り返し構造単位および特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive-type photoresist composition contains (A) a resin, containing repeating structural units with a specified bridged alicyclic structure and repeating units with a specified lactone structure and having rate of dissolution in an alkali developing solution increased due to the action of an acid and (B) a compound which generates the acid, when irradiated with active light or radiation. - 特許庁

微細パターンを擁するフォトマスクにおいて、レジスト膜および遮光膜の薄膜化が可能であり、パターン形成プロセスにおいて生じるマイクロローディング現象や微細パターンの倒壊を回避して、微細かつ高精度なパターンが得られるフォトマスク、フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a photo mask having a minute pattern capable of thinning a resist film and a shielding film, avoiding a micro loading phenomenon generated in a pattern forming process or the collapse of a minute pattern, and obtaining a minute and accurate pattern; a photo mask blank; and a photo mask manufacturing method. - 特許庁

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の構造で表されるオリゴアルキレングリコールジアルキルエーテル化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive resist composition contains (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and decomposes by the effect of an acid to increase the solubility in an alkali developer and (C) an oligoalkyleneglycol dialkylether compound expressed by a specified structure. - 特許庁

このとき、ディフェクト検出回路６９によってＲＦ信号のディフェクト状態が検出された場合、システム制御部５９は、加算器６２にてフォーカスエラー信号に加算する値をフォーカスバイアスレジスタ６５に格納されたフォーカスバイアスからこの値の逆方向のバイアスに切り換える。例文帳に追加

At the time, when a defect state of the RF signal is detected by a defect detecting circuit 69, a system control part 59 switches a value to be added to the focus error signal in the adder 62 to bias of an inverse direction of this value from the focus bias stored in the focus bias register 65. - 特許庁

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度と、解像性、矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性とを同時に満足するレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using active light or radiation, particularly electron beams or X-rays and to provide a resist composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a rectangular pattern shape and good edge roughness when electron beams or X-rays are used. - 特許庁

遠紫外光を使用するリソグラフィの薄膜化に対応する技術課題を解決することであり、具体的には薄膜プロセスにおいても十分な面内均一性が保持され、高解像力でパターン倒れの少ない、所望のレジストパターンを再現し得る感放射線性樹脂組成物を提供すること。例文帳に追加

To solve problems on a technique adaptable to reduction in the thickness of a film for lithography using far ultraviolet light and to provide a radiation sensitive resin composition capable of reproducing a desired resist pattern which retains satisfactory intrasurface uniformity, has high resolving power and collapses hardly even in a thin film process. - 特許庁

ＡｌまたはＡｌを主成分とする材料層をパターニングして所定のパターンの配線を形成する第１の工程と、上記配線上に所定の大きさの開口を有するマスク用フォトレジスト１００を形成して、上記配線の所定の領域を少なくとも硝酸を含むエッチング液でエッチングする第２の工程とを含む。例文帳に追加

This method includes a first process in which Al or a material layer primarily composed of Al is patterned and a prescribed pattern wiring is formed, and a second process in which a photoresist 100, having a prescribed size of aperture on the wiring is formed and a prescribed area of the wiring is etched with an etching solution including at least nitric acid. - 特許庁

命令解析手段１は、読み込んだ命令コードを、命令の種類を示すオペコード, 命令の操作対象レジスタやメモリアドレスを示すオペランドに分解する命令解析を実行し、擬似データキャッシュ格納手段４に命令アドレスと同じアドレスを持つデータが格納されていないかチェックする。例文帳に追加

The instruction analyzing means 1 executes instruction analysis for decomposing the read instruction code into an operation code indicating the kind of the instruction and an operand indicating the register to be operated or memory address of the instruction, and checks whether or not data having the same address as the instruction address are stored in a pseudo data cache storing means 4. - 特許庁

プラスチック支持体に導電性金属層を積層してなる導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属層の上に、スクリーン印刷法により幾何学図形を有するエッチングレジストパターンを形成し、導電性金属層をエッチングすることによって導電性金属からなる幾何学図形を形成することを特徴とする電磁波シールドフィルムの製造方法。例文帳に追加

An electromagnetic wave shielding film is characterized, in that a geometrical etching resist pattern is formed on the conductive metallic layer of a plastic film formed by laminating the conductive metallic layer upon a plastic substrate, so that the film carries a conductive metal, and a geometrical graphic composed of the conductive metal is formed by etching the conductive metallic layer. - 特許庁

トレイやカセットにセットされた用紙を繰り出す給紙ローラ１４と、繰り出された用紙を後段の各種処理を行う処理部へ送出する際のタイミング調整を行うレジストローラ１６との間に、給紙方向と直交する方向に沿って斜め給紙検出センサ２２ａ，２２ｂを配置する。例文帳に追加

Oblique paper feeding detecting sensors 22a and 22b are arranged in a direction orthogonal to the paper feeding direction between a paper feeding roller 14 for delivering a paper set in a tray and a cassette and a register roller 16 for adjusting timing when sending out the delivered paper to a processing part for performing various processing of a rear stage. - 特許庁

半導体製品の製造方法に関し、レジスト再生処理を経ることで生じるパターン寸法変動の低減を可能にし、リソグラフィ工程に於ける転写パターンの完成寸法を本来の目的寸法に近付け，また、ロット間或いはロット内に於ける半導体装置毎の寸法ばらつきを小さくする。例文帳に追加

To obtain a process for producing a semiconductor product in which variation in the pattern dimensions incident to resist regeneration processing can be reduced, finishing dimensions of a transfer pattern can be brought close to target dimensions in a lithography process, and dimensional variation of semiconductor devices is suppressed between lots or within a lot in production. - 特許庁

Ｌｏｗ−ｋ膜にＣｕなどの金属配線を埋め込み形成する際に、ビアホールや配線溝を形成するためのドライエッチング用プラズマあるいはフォトレジストを剥離するためのアッシングによって受けるＬｏｗ−ｋ膜に対するダメージの影響をなくした半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing semiconductor device by which the influence of damages given to a low-k film by a dry etching plasma used for forming via holes or wiring grooves or ashing performed for peeling a photoresist can be eliminated at the time of forming metallic wiring of Cu, etc., by burying the wiring in the low-k film. - 特許庁

本発明のマイクロコンピュータは、ＣＰＵ１の動作を切り換えるＣＰＵ動作モードレジスタ２の値がＣＰＵの動作停止を指し示していても、ノイズが原因である場合にはこのＣＰＵ１の動作を停止させないことを特徴とするものであり、ノイズによってＣＰＵ１の動作が停止することを防止する暴走防止回路３１を設けたものである。例文帳に追加

This microcomputer 33 can prevent the stoppage of operation of a CPU 1 against the generation of noises even when the value of a CPU operation mode register 2 which switches the operation of the CPU 1 points the stoppage of operation of the CPU 1 by means of a runaway prevention circuit 31 which prevent the stoppage of operation of the CPU 1 caused by noise. - 特許庁

これにより容量絶縁膜１０５ａ上にフォトレジストが堆積されないため、アッシングに用いる酸素プラズマが照射されることがなく、容量絶縁膜の平坦性の低下による絶縁破壊及び容量絶縁膜の汚染によるＭＩＭキャパシタの動作不良、歩留り低下、デバイスの信頼性低下を防止することができる。例文帳に追加

Thus, since no photo resist is deposited on the capacity insulating film 105a, an oxygen plasma used for ashing is not irradiated, and insulation breakage can be prevented due to lowered flatness of the capacity insulating film and the operation failure, lowered yield, and lowering of reliability of the MIM capacitor due to contamination of the capacity insulating film. - 特許庁

加工温度が低く、耐熱性に優れた樹脂として、エポキシ変性ポリイミド及びこれを用いた感光性組成物、及びこれを用いた配線材料である電気絶縁性、半田耐熱性、造膜性、可撓性および耐薬品性に優れたカバーレイフィルム、ソルダーレジスト、およびそれを用いたプリント配線板を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an epoxy modified polyimide and a photosensitive composition using this as a rein with low working temperature and excellent heat- resistance and to provide a wiring material using this, cover lay film and solder resist excellent in electrical insulation, resistances to soldering heat, film formability, flexibility and chemical resistance, and a printed wiring board using this. - 特許庁

パリティチェック行列のそれぞれの列ごとに、要素が１である行のインデックスを表す要素１行インデックスを生成する一つ以上のインデックス生成部を備え、インデックス生成部は、一つのクロックごとに、一つの要素１行インデックスを生成するモジュラーシフトレジスタ生成器を利用して具現されることを特徴とするパリティチェック行列の生成装置である。例文帳に追加

The apparatus includes at least one index generator for generating row indexes of "1"s, which indicate row positions of the "1"s in each column of the parity check matrix, wherein the index generator is implemented by utilizing a modular shift register generator that generates a row index of a "1" at each clock. - 特許庁

化学増幅型レジスト材料からなる感光性材料膜にＡｒＦエキシマレーザを照射して、微細で且つ高アスペクト比のホールパターンを形成する場合に、被エッチング膜に形成されるホールの平面形状が円形になると共にホールの直径が所定値よりもあまり大きくならないようにする。例文帳に追加

To prevent the diameter of a hole formed in a film to be etched from far exceeding a prescribed value and to make the plane shape of the hole circular when a photosensitive material film comprising a chemically amplified resist material is irradiated with ArF excimer laser light to form a fine hole pattern having a high aspect ratio. - 特許庁

レシートプリンター４は、ＰＯＳレジスター２が生成した会計処理データを受信すると、レシートＡを発行するとともに、会計処理データの中に特別注文の情報が含まれているか否かを判断し、特別注文の情報が含まれている場合には特注品シールＢを印刷するためのシール印刷データを生成する。例文帳に追加

When receiving accounting process data generated by a POS register 2, the receipt printer 4 issues a receipt A, determines whether the accounting process data includes information on a special order or not, and generates label printing data for printing a special order item label B when the information on a special order is included. - 特許庁

優れたレジスト溶解速度を有し、低毒性で極めて安全性が高く、環境保全にも優れ、不快臭も極めて少なく、比較的高沸点で操作性が良好であり、残さや析出物を生じることがなく、高品位の電子部品製造用基材を高効率で製造することができるエッジビードリムーバを提供する。例文帳に追加

To provide an edge bead remover having an excellent resist dissolution rate, low toxicity and very high safety, excellent also in environmental preservation giving out little unpleasant odor, having a relatively high boiling point and good operability, forming no residue or deposit and capable of efficiently producing a high-grade substrate for the production of electronic parts. - 特許庁

カラーフィルタ１０Ｒ、カラーフィルタ１０Ｇ及びカラーフィルタ１０Ｂはネガ型レジスト膜からなるので、遮光されていた領域、即ち各ソース電極８の後に透明画素電極に接続される領域に相当する各カラーフィルタの領域がこの現像により除去され、開口部が形成される。例文帳に追加

Since the color filter 10R, the color filter 10G, and the color filter 10B are formed of the negative resist films, the shaded areas, namely, each color filter areas corresponding to the areas to be connected with the transparent pixel electrodes behind each source electrode 8 is removed by this development, and the opening parts are formed. - 特許庁

Ｎ型エピタキシャル層を成長させて形成するＮ型エピタキシャル層形成工程より先に行うＰ型埋め込み層形成工程を、スクライブラインが形成される部分については、酸化膜上に形成したレジスト膜８１Ａによってマスキングをした状態で、或いは酸化膜自体９０Ａを利用してマスキングをした状態で行うようする。例文帳に追加

A step for forming a P type buried layer preceding a step for forming an N type epitaxial layer by growing an N type epitaxial layer is carried out for a portion where a scribe line is formed while masking that portion by a resist film 81A formed on an oxide film or by utilizing an oxide film 90A itself. - 特許庁

すなわち、ゲート寸法のモデル式にしたがいゲート電極の下地構造形成時のウエハ処理方向を制御（または素子分離等の下地構造を考慮して露光装置においてレジスト転写形成時にショット毎にドーズ量を制御）することで、エッチング加工後のゲート長をウエハ面内で均一化する。例文帳に追加

Gate length after etching is made uniform in the wafer plane by controlling the wafer processing direction when the underlying structure of the gate electrode is formed according to a model expression of gate dimensions (or controlling dose for every shot at the time of resist transfer formation in an exposure device while taking account of the underlying structure of isolation). - 特許庁

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、ラインエッジラフネス、現像欠陥の特性を満足するネガ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To solve the problems of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device and to provide a negative resist composition which satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and few development defects particularly in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray. - 特許庁

モータ２０を駆動することにより、２００回／分の回転速度でターンテーブル１０を回転させるとともに、ターンテーブル１０に固定された半導体ウェハ５０の上面に形成されたフォトレジスト（６０）を現像する現像液を窒素ガスと混合して、霧状の現像液（７０）を噴射ノズル３０からターンテーブル１０に向けて噴射する。例文帳に追加

The motor 20 is driven to rotate the turntable 10 at a rotational speed of 200 rpm, and the developing solution for developing the photoresist (60) formed on the upper surface of a semiconductor wafer 50 fixed on the turntable 10 is mixed with the nitrogen gas and the fog-like developing solution (70) is sprayed toward the turntable 10 from the spray nozzle 30. - 特許庁

ＰＣ１０のプリンタードライバー部１２０は、プリンタードライバープログラム（プリンタードライバー部１２０）の自動更新を行うための指示をユーザーから受け付けると、レジストリー１００の接続先情報１０１を参照し、当該接続先情報１０１が示す接続先にアクセスし、プリンタードライバープログラムを取得する。例文帳に追加

A printer driver unit 120 of the PC10, upon receiving from a user an instruction for performing automatic update of a printer driver program (printer driver unit 120), refers to the connection destination information 101 of the registry 100, and makes access to a connection destination indicated by the connection destination information 101 to obtain the printer driver program. - 特許庁

テスター側のＤ／Ａ電源制御部はＤ／Ａ電源から出力される比較電位を前記比較結果が得られるように制御回路から出力されるクロックに基いて大きく変化させるため、コンパレータからは前記期待値と同一の比較結果が出力され、これがレジスタ１１４に保持される。例文帳に追加

Since a D/A power source control part on a tester side largely changes the comparison potential outputted from a D/A power source based on a clock outputted from a control circuit so as to obtain the compared result, the same compared result as the expected value is outputted from the comparator and it is held in a register 114. - 特許庁

特に、—ＣＮ、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−ＮＨ−から選ばれる置換基を少なくとも一つ有する重合開始剤を用いて重合した樹脂と、—ＣＮ、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−ＮＨ−から選ばれる置換基を有さない重合開始剤を用いて重合した樹脂とを含有したポジ型レジスト組成物が良好な特性を示す。例文帳に追加

In particular, the following positive resist composition shows preferable characteristics: the composition contains a resin polymerized by using a polymerization initiator having at least one substituent selected from -CN, -COOH, -OH and -NH-, and a resin polymerized by using a polymerization initiator having no substituent selected from -CN, -COOH, -OH and -NH-. - 特許庁

２つのゲート電極５によって挟まれた領域に位置する素子形成領域２１の表面を露出する開口部として、開口部が形成される領域の一部が平面的に一のゲート電極５の一部に重なるように形成されたレジストパターンに基づいて開口部１２ａが形成される。例文帳に追加

An opening part 12a is formed based on a resist pattern formed in such a way that a part of a region where the opening part is formed is flatly overlapped with a part of one gate electrode 5 as the opening part where a surface of an element forming region 21 positioned in a region sandwiched with two gate electrodes 5 is exposed. - 特許庁