「原錫」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

電気・電子部品における短絡発生の原因となる電気錫めっきおよび電気錫合金めっきのウィスカー発生を防止する。例文帳に追加

To prevent the generation of whiskers in electrotinning and tin-alloy electroplating as the cause of short-circuiting in electric and electronic components. - 特許庁

加熱した基体上に、気化した塩化錫、酸化ガスおよび気化したアンモニア類を含有する原料ガスを吹き付けて酸化錫を成膜する、酸化錫膜付き基体の製造方法。例文帳に追加

Disclosed is the method of manufacturing substrate with tin oxide film, wherein the tin oxide is subjected to film formation while spraying a raw material gas containing gasified tin chloride, oxidizing gas and gasified ammonia or the like onto the heated substrate. - 特許庁

ガラス基板上に四塩化錫を原料として熱分解法により厚さ５００〜１０００ｎｍの酸化錫膜を形成し、前記酸化錫膜を、非酸化雰囲気で３００〜６５０℃で熱処理することを特徴とする酸化錫膜付きガラス基体の製造方法。例文帳に追加

The glass substrate with the tin oxide film is manufactured by forming the tin oxide film of a thickness 500 to 1,000 nm by a pyrolysis method using a tin tetrachloride as a raw material on a glass substrate and heat-treating the tin oxide film at 300 to 650°C in a nonoxidizing atmosphere. - 特許庁

アポフェリチンと、錫イオンと、を含み、ｐＨが４以下の原料溶液に、錫の酸化還元電位より負側の電位を有する還元剤（例えばＮａＢＨ_4）を添加することで、前記アポフェリチンの内腔部で錫ナノ粒子を形成することを特徴とする錫ナノ粒子の製造方法。例文帳に追加

The method for producing tin nanoparticles is characterized in that a reducing agent having a potential on the negative side than the oxygen-reduction potential of tin (such as NaBH_4) is added to a raw material solution which contains apoferritin and tin ions and has pH of ≤4, for forming silver nanoparticles at the inner lumina part of the apoferritin. - 特許庁

インジウム及び酸素を含有する化合物と錫及び酸素を含有する化合物の混合物、又はインジウム、錫及び酸素を含有する化合物を原料として用い、加圧下で直流パルス電流を通電して通電焼結させることを特徴とするインジウム−錫酸化物焼結体の製造方法。例文帳に追加

A mixture of a compound containing indium and oxygen and a compound containing tin and oxygen, or a compound containing indium, tin and oxygen is used as the raw material, and, a d.c. pulse current is supplied thereto under pressure, and the raw material is electrically sintered. - 特許庁

ジェットミルによる酸化錫粉末の粉砕に際し、酸化錫原料粉末の線速度を３００ｍ／ｓｅｃ以上とし、気流中で相互に衝突させて粉砕することを特徴とするジェットミルによる酸化錫粉末の製造方法。例文帳に追加

The method of manufacturing the tin oxide powder using the jet mill is characterized in that at the time of grinding the tin oxide powder in the jet mill, the linear velocity of the tin oxide raw material powder is set at ≥300 m/sec, thereby the grains of raw material powder are ground by colliding to each other in an air flow. - 特許庁

有機錫化合物の蒸気と酸素と水蒸気とを含み、有機錫化合物に含まれる錫原子１モルに対し、酸素および水蒸気の合計量が１４モル以上の範囲にある混合ガスを熱分解して、ガラス板上またはガラスリボン上に、酸化錫を主成分とする膜厚４００ｎｍ以上の導電膜を成膜する。例文帳に追加

A conductive film 53 containing, as a main component, tin oxide and having a thickness of ≥400 nm is formed on a glass plate 55 or a glass ribbon by thermally decomposing a gaseous mixture containing the vapor of an organic tin compound, oxygen and steam, wherein the molar ratio of the total moles of oxygen and steam to tin atom contained in the organic tin compound is in the range of ≥14. - 特許庁

アンチモンをドーピングした酸化錫膜の成膜に、錫化合物とともにアンチモン塩化物を溶質として添加し、アルコールなどを溶媒とする原料液を用いると、容器や配管の腐食が問題となる。例文帳に追加

To solve the problem of corrosion of vessels and piping when a stock solution having a tin compound and an antimony chloride as the solutes and an alcohol or the like as the solvent is used in forming an tin oxide film doped with antimony. - 特許庁

銅を含有する原料粉末を成形すると共に焼結（Ｓ２）して焼結合金本体を形成し、この焼結合金本体に錫鍍金の鍍金（Ｓ４）処理を施した後、ショットピーニング（Ｓ５）により錫鍍金層を封孔する。例文帳に追加

The subject manufacturing method comprises forming an alloy body of the sintered alloy by compacting a base powder containing copper and sintering (S2) it, plating (S4) the alloy body of the sintered alloy with tin, and sealing the plated tin layer by shot peeling (S5). - 特許庁

スパッタターゲットに用いられる酸化錫焼結体の原料等として好適に用いることができ、一次粒子の凝集が少なく、粒度分布の狭い酸化錫粉末が合成可能な方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for synthesizing tin oxide powder which can be suitably used as the source material of a tin oxide sintered body used as a sputtering target and which has little aggregation of primary particles and narrow distribution of the particle size. - 特許庁

酸化インジウム−金属錫混合粉末及び同混合粉末を原料とするＩＴＯスパッタリングターゲット並びに同ターゲットの製造方法例文帳に追加

INDIUM OXIDE-METALLIC THIN POWDER MIXTURE, ITO SPUTTERING TARGET USING THE SAME POWDERY MIXTURE AS RAW MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME TARGET - 特許庁

亜酸化窒素除去触媒としては、錫酸を原料としたものや、Ｐｔ又はＰｄをＴｉＯ_2に担持させたものが好ましい。例文帳に追加

Preferably, a substance made by using stannic acid as a raw material or a substance made by making TiO2 carry Pt or Pd is used as the nitrous oxide removing catalyst. - 特許庁

亜酸化窒素除去触媒としては錫酸を原料としたものや、Ｐｔ又はＰｄをＴｉＯ_2に担持させたものが好ましい。例文帳に追加

Preferably, a substance made by using stannic acid as a raw material or a substance made by making TiO2 carry Pt or Pd is used as the nitrous oxide removing catalyst. - 特許庁

原料ポリエステル、ポリオール成分、及び錫錯体および有機錫石鹸からなる群から選ばれる触媒を必須成分として含む混合物を加熱して原料ポリエステルを解重合する工程を備えることを特徴とするポリエステルポリオールの製造方法である。例文帳に追加

The method for producing the polyester-polyol comprises a process in which a mixture comprising the raw material polyester, a polyol component and a catalyst selected from the group consisting of tin complexes and organic tin soaps as essential components is heated to depolymerize the raw material polyester. - 特許庁

酸化マグネシウムは、炭酸マグネシウム又は水酸化マグネシウムを主要原料として、650〜900℃で焼成して得たものが好ましく、酸化マグネシウムと硫酸錫の配合割合は、酸化マグネシウム100質量部に対して、硫酸錫が0.1〜10質量部であることが好ましい。例文帳に追加

The blending ratio of tin sulfate to magnesium oxide is preferably 0.1-10 parts mass tin sulfate based on 100 parts mass magnesium oxide. - 特許庁

銭貨の原型である母銭は、手彫りにより製作された彫母銭を原型とし、彫母銭→錫母銭→銅母銭→通用銭という順で鋳写される工程が採られ、均質な銭貨が大量生産されるようになった。例文帳に追加

A matrix coin, which was a prototype of a coin, was made by using a hand-carved matrix coin, and mass production of homogeneous coins was made possible by the process of transcriptive molding from a carved matrix coin to a tin matrix coin, then to a copper matrix coin, and then to a coin in currency.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

酸素を過剰に含み、メタンおよび悪臭原因物質を含有する排ガス中の炭化水素および悪臭原因物質を分解する排ガス浄化用触媒であって、酸化錫にパラジウムを担持してなる触媒。例文帳に追加

The catalyst for decomposing hydrocarbons and the malodor emitting material in the exhaust gas containing excess of oxygen, methane and the malodor emitting material is obtained by depositing palladium on tin oxide. - 特許庁

主として、インジウム、ストロンチウム及び酸素から構成される複合酸化物焼結体であって、上記複合酸化物焼結体中のインジウム、ストロンチウム及び錫の総原子数に対する、錫及びストロンチウムの原子数の比が、それぞれ０〜０．３及び０．０００１〜０．０５であり、相対密度が９７％以上であり、平均粒径が７μｍ以下である、複合酸化物焼結体。例文帳に追加

The multiple oxide sintered compact is mainly composed of indium, strontium and oxygen, where ratios of the number of atoms of tin and strontium to the total number of atoms of indium, strontium and tin in the multiple oxide sintered compact are 0-0.3 and 0.0001-0.05, respectively, the relative density is 97% or more, and the mean particle size is 7 μm or less. - 特許庁

エステル交換反応によって（メタ）アクリル酸エステルを製造する方法であって、エステル交換触媒として有機錫化合物を用い、原料（メタ）アクリル酸エステルと原料アルコールとを前記有機錫化合物の存在下でエステル交換反応させた後、得られた反応混合物を水の存在下で蒸留することを特徴とする（メタ）アクリル酸エステルの製造法。例文帳に追加

The method for producing the (meth)acrylic ester by transesterification reaction is characterized by comprising the following process wherein, using an organotin compound as a transesterification catalyst, a feedstock (meth)acrylic ester and a feedstock alcohol are subjected to the transesterification reaction with each other in the presence of the organotin compound, and the resultant reaction mixture is distilled in the presence of water. - 特許庁

在職期間が短いため目立った政策は見られないが、栗原信近らと殖産興業を推進し、道路整備や河川改修、甲州葡萄の普及などを行っている（後任は中島錫胤）。例文帳に追加

Because his tenure in office was rather short, no remarkable policies could be seen, but he promoted and encouraged new industry with Nobuchika KURIHARA and others, and carried out the maintenances of roads, the improvements of rivers, the recommendations of Koshu grapes, and so on (his successor was Masutane NAKAJIMA.)  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

最初に原料である金属すなわち、銅、錫、鉛、および白目または白鑞（しろめ）（アンチモンまたはビスマスなど）を規定量秤りとり取組みが行われ、坩堝で鎔解されて合金がつくられる。例文帳に追加

First, the prescribed amount of raw materials, that is, copper, tin, lead and shirome (antimony or bismuth), was measured, dissolved in crucibles and made into alloy.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

水冷却型原子炉の核燃料集合体部材用の合金としての錫，鉄，クロムまたはニッケルを含むジルコニウム基合金において、結晶粒径が５〜２０μｍであることを特徴とするジルコニウム基合金。例文帳に追加

The zirconium-based alloy containing tin, iron, chromium or nickel for the nuclear fuel assembly member of a water cooled reactor has a crystal grain sizes of 5 to 20 μm. - 特許庁

ここで用いる金属キレート化合物は、配位原子の少なくとも一つを硫黄とする複座又は多座のキレート配位子が、亜鉛、マンガン、鉄、モリブデン、錫、アンチモンの内の一種以上の金属の配位座に配位したものである。例文帳に追加

The used metal chelate compound is obtained by coordinating plural or multiple site chelate ligands having sulfur, as at least one of the ligands at the coordinating site of at least 1 kind of metal among zinc, manganese, iron, molybdenum, tin and antimony. - 特許庁

ジアルキル錫化合物、塩基の存在下、下記一般式（Ｉ）においてＹが水素原子である化合物と酸ハライド化合物とを反応させることによって、下記一般式（Ｉ）で表されるピラノシドジエステル化合物。例文帳に追加

The pyranoside diester compound represented by general formula (I) is obtained by causing a compound represented by general formula (I) wherein Y is a hydrogen atom to react with an acid halide compound in the presence of a dialkyltin compound and a base. - 特許庁

ガス化したヨウ化インジウム、ガス化した塩化第二錫および酸素ガスを原料として、プラズマＣＶＤ法により、基板の表面にＩＴＯの被膜を形成する構成とした。例文帳に追加

An ITO coat is formed on a surface of a substrate by a plasma- activated chemical vapor deposition method using gasified indium oxide, gasified stannic chloride, and gaseous oxygen as raw materials. - 特許庁

銅を含有する原料粉末を成形すると共に焼結（Ｓ２）して焼結合金本体を形成し、この焼結合金本体に錫鍍金の鍍金（Ｓ４）処理を施した後サイジング（Ｓ５）する。例文帳に追加

This manufacturing method comprises compacting and sintering (S2) a base powder containing copper into a main body of the sintered alloy, plating (S4) the main body with tin, and sizing it (S5). - 特許庁

これらの凹凸形成工程に加え、ガラスリボン１０のトップ面（錫非接触面）には、適宜、コータ６から供給される混合ガスを原料とするＣＶＤ法により、被膜が形成される。例文帳に追加

In addition to the above unevenness forming process, a coating film is properly formed on the top face (surface free from contact with tin) of the glass ribbon 10 by a CVD process using a mixed gas supplied from a coater 6 as a raw material. - 特許庁

ジメチルジクロロ錫のようなジアルキルハロゲノ錫化合物、炭酸カリウムのような塩基、及び水の存在下に、α−メチル−Ｄ−マンノピラノシドのようなピラノシド化合物をベンゾイルクロライドのような酸ハライド化合物とを反応させて原料であるピラノシド化合物の三位の水酸基がアシル化されたピラノシドエステル化合物を製造する。例文帳に追加

This method for producing the pyranoside ester compound is characterized by reacting a pyranoside compound, such as α-methyl-D- mannopyranoside, with an acid halide compound, such as benzoyl chloride, in the presence of a dialkylhalogenotin compound, such as dimethyldichlorotin, a base such as potassium carbonate, and water to acylate the 3-hydroxyl group of the pyranoside compound of raw material. - 特許庁

ガラス基板１上に多結晶シリコンを成膜するにあたり、不純物源として錫（Ｓｎ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、鉛（Ｐｂ）の少なくとも一種を含む化合物を原料に用いて触媒ＣＶＤ法により多結晶シリコンを成膜し、錫（Ｓｎ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、鉛（Ｐｂ）の少なくとも一種が添加されてなる不純物添加多結晶シリコン膜２を形成する。例文帳に追加

When a polycrystalline silicon film is formed on a glass substrate 1, a polycrystalline silicon film is formed by a catalytic CVD method by using compound comprising at least one kind of tin (Sn), germanium (Ge) and lead (Pb) as impurity source as raw materials and an impurity added polycrystalline silicon film 2 formed by adding at least one kind of tin (Sn), germanium (Ge) and lead (Pb) is formed. - 特許庁

この原料液と、錫化合物などその他の金属化合物を溶質の主成分として含む原料液とから、被膜形成用原料を、フロート法によるガラス製造工程におけるガラスリボン上に供給し、スプレー法および／またはＣＶＤ法により、アンチモンを含む金属酸化物膜を成膜する。例文帳に追加

A film-forming feedstock from this stock solution and a stock solution containing another metallic compound such as a tin compound as the major component of the solutes is supplied onto a glass ribbon in the glass manufacturing step by the floating method to form a metal oxide film containing antimony by the spray method and/or the CVD method. - 特許庁

下記成分（Ａ）及び（Ｂ）：（Ａ）平均一次粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍである、リン含有酸化錫を主成分とする粒子（Ｂ）分子内に窒素原子と重合性不飽和基とを有する化合物を含有する放射線硬化性組成物。例文帳に追加

The radiation curable composition contains the following components (A) and (B): (A) a particle having an average primary particle diameter of 10-100 nm and composed mainly of a phosphorus-containing tin oxide and (B) a compound having a nitrogen atom and a polymerizable unsaturated group in the molecule. - 特許庁

（Ａ）成分：ケイ素原子に結合するアルコキシ基を有する直鎖状オルガノポリシロキサン化合物と、（Ｂ）成分：前記（Ａ）成分１００質量部に対して０．０１〜１質量部のモノアルキル錫化合物と、を含む加熱硬化性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。例文帳に追加

The silicone resin composition for sealing the heat-curable optical semiconductor includes component (A): a linear organopolysiloxane compound having an alkoxy group bonded to a silicon atom, and component (B): 0.01-1 pt.mass of a monoalkyl tin compound relative to 100 pts.mass of the component (A). - 特許庁

導電性支持体上に感光層、その上に保護層を有する有機感光体において、該保護層が、少なくとも、ケイ素原子を１０〜１００ｐｐｍ含有し、疎水化処理された酸化錫粒子と硬化性化合物とが反応硬化して形成された保護層であることを特徴とする有機感光体。例文帳に追加

In the organic photoreceptor including a photosensitive layer on a conductive support and a protective layer thereon, the protective layer is formed by the reaction and curing of tin oxide particles containing at least 10 to 100 ppm of silicon atoms and subjected to hydrophobic treatment and a curable compound. - 特許庁

少なくとも第１保護層、相変化材料からなる記録層、第２保護層及び反射層が順に積層され、相変化材料の主成分が、下記組成式で示される元素及び原子比からなり、第２保護層の主成分が、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫の何れか又はそれらの混合物からなる光記録媒体。例文帳に追加

The optical recording medium has at least a first protective layer, a recording layer containing a phase-change material, a second protective layer and a reflective layer which are sequentially layered. - 特許庁

ガラス板１上の所定領域に形成された成長起点３のみから薄膜が成長を開始するように成分を調整した原料ガスを用いた化学蒸着（ＣＶＤ）法により、薄膜（例えば酸化錫膜等の透明導電膜）を上記所定領域に選択的に成長させる。例文帳に追加

By a chemical vapor deposition (CVD) process using a gaseous starting material in which components are regulated in such a manner that thin films start to grow only from growth starting points 3 formed at prescribed regions on a glass plate 1, thin films (e.g., transparent electrically conductive films such as tin oxide films) are selectively grown on the above prescribed regions. - 特許庁

下記成分（Ａ）〜（Ｃ）：（Ａ）平均一次粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍである、リン含有酸化錫を主成分とする粒子（Ｂ）分子内に２以上の重合性不飽和基を有する化合物（Ｃ）分子内にフッ素原子を含有する化合物を含有する硬化性組成物。例文帳に追加

The curable composition contains the following components (A) to (C): (A) a particle having an average primary particle diameter of 10-100 nm and composed mainly of a phosphorus-containing tin oxide, (B) a compound having two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule, and (C) a compound containing a fluorine atom in the molecule. - 特許庁

硝酸インジウムおよび錫アルコキシドを出発原料とし、エチレングリコール、エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールおよびプロピレングリコールモノアルキルエーテルからなる群より選ばれた１種もしくは２種以上の溶剤を用いて出発原料を溶解させ反応させた後、得られた溶液に有機高分子を添加する。例文帳に追加

Indium nitrate and tin alkoxide as starting as starting materials are dissolved and reacted using one or two types or more of solvent selected from the groups consisting of ethylene glycol, ethylene glycol monoalkylether, propylene glycol and propylene glycol monoalkyleter, and then an organic high polymer is added to an obtained solution. - 特許庁

光学素子機能を有する透明導電膜は、インジウム、亜鉛および錫から選択された少なくとも一種の金属原子（特にインジウム）を金属原子の主成分として含有している金属酸化物膜に、集光されたレーザーの照射により、構造が変化した構造変化部が形成されていることを特徴とする。例文帳に追加

This transparent conductive film having an optical element function is characterized in that a structure change part with a structure changed by irradiation of a converged laser is formed on the metal oxide film containing at least one kind of metal atoms (particularly indium) selected from indium, zinc and tin as the main constituent of metal atoms. - 特許庁

添加剤は、チタン、亜鉛、錫、アンチモン、ニオブから選択された少なくとも一種類以上の金属原子をＭとする時、アルコール類の水素基の水素をＭで置換して得られるアルコキシド、Ｍを中心原子として含有する錯体、Ｍを含有する塩、又は、炭素とＭとの間に直接の結合を有する有機金属化合物の少なくとも一種以上を含む。例文帳に追加

When at least one kind or more of metal atoms selected from titanium, zinc, tin, antimony, niobium are defined as M, the additives contain at least one or more kinds of alkoxide obtained by substituting hydrogen of a hydrogen group of alcohols with M, complex containing M as a center atom, salt containing M, or an organic metal compound having direct bonding between carbon and M. - 特許庁

原稿読み取り機に用いる原稿台ガラスにおいて、ガラス基板２に予め化学強化または風冷強化を施し、その後ガラス基板２の少なくとも一方の表面２ａに錫をドープした酸化インジウムからなる膜（ＩＴＯ膜）１を形成し、このＩＴＯ膜１の膜厚ｔを、１５ｎｍ〜２０ｎｍとした。例文帳に追加

The original table glass used for an original reader is obtained by subjecting a glass substrate 2 to chemical strengthening or strengthening by air blast cooling and then depositing a film comprising tin doped indium oxide (ITO film) 1 on at least one surface 2a of the glass substrate 2 in 15-20 nm thickness (t). - 特許庁

酸化インジウム粉末及び酸化錫粉末を含む混合粉末からなる原料粉末を焼成してスパッタリングターゲットを製造する際に、少なくとも酸化インジウムを１１００℃〜１３００℃で仮焼して原料の混合粉末とし、この混合粉末を前記仮焼した温度から１５０℃以上高い温度で焼成する。例文帳に追加

The method for manufacturing the sputtering target by firing a raw mixture powder containing an indium oxide powder and an stannic oxide powder comprises the steps of: calcining at least indium oxide at 1,100°C to 1,300°C; preparing the raw mixture powder by using the calcined powder; and firing the mixture powder at a temperature 150°C or higher than the calcination temperature. - 特許庁

亜鉛錫酸化物（ＺｎＳｎＯ）で実現される酸化物半導体に酸素との電気陰性度の差が大きく、原子半径がＺｎ又はＳｎと類似する物質を添加して活性層を形成することで、キャリアの濃度を調節し、酸化物半導体の信頼性を向上させることで、安定した信頼性及び電気的特性を実現する薄膜トランジスタを提供する。例文帳に追加

To provide a thin film transistor in which an oxide semiconductor achieved with zinc tin oxide (ZnSnO) has a large electronegativity difference with oxygen, the concentration of a carrier is adjusted by forming an active layer by adding a substance whose atomic radius is similar to that of Zn or Sn, and stable reliability and electrical characteristic are achieved by improving the reliability of the oxide semiconductor. - 特許庁

分子末端又は側鎖に、加水分解性基と結合した珪素原子を１分子中に少なくとも１個有するシリル基含有有機重合体（Ａ）１００重量部と硬化触媒（Ｂ）０．１〜１０重量部を主要成分とする組成物において、硬化触媒（Ｂ）が、ジアルキル錫化合物８０〜５０重量％とシリケート化合物２０〜５０重量％との混合物であることを特徴とする湿気硬化性組成物。例文帳に追加

This composition mainly comprises (A) 100 pts.wt. silyl-group- containing organic polymer having at least one silicon atom bonded to a hydrolyzable group at the molecular end or in the side chain and (B) 0.1-10 pts.wt. cure catalyst, provided the catalyst is a mixture comprising 80-50 wt.% dialkyltin compound and 20-50 wt.% silicate compound. - 特許庁

白金又はその合金と、錯体中心金属がオキソバナジウム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、錫から選ばれる金属原子である、Ｎ,Ｎ'−ビス（サリシリデン）エチレンジアミノ金属錯体あるいはＮ,Ｎ'−モノ−８−キノリル−ｏ−フェニレンジアミン金属錯体とをカーボン粒子に担持したものである低温型燃料電池の水素極用電極触媒。例文帳に追加

This electrocatalyst for the hydrogen electrode of the low-temperature type fuel cell which carries, on carbon, particles platinum or its alloy and N,N'-bis (salicylidene) ethylene-diamino metal complex or N,N'-mono-8-quinolyl-o-phenylene-diamine metal complex in which the complex central metal is a metal atom selected from oxo-vanadium, manganese, iron, cobalt, nickel, palladium, and tin. - 特許庁

本発明は、電子部品の場合に回路中や端子間でショートが発生したり、ノイズ発生の原因となるウイスカの発生を抑制し、特にウイスカが発生し成長し易い高温高湿環境下においてもウイスカの発生を抑制でき信頼性に優れる錫めっき皮膜及びめっき皮膜の製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a plated tin film which inhibits such a whisker from growing as to cause a short in a circuit and in between terminals in electronic parts or generate noise, particularly inhibits the whisker from growing even under a high-temperature and high-humidity environment that tends to grow the whisker, and has superior reliability; and to provide a method for producing the plating film. - 特許庁