「粗加工」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

スクラッチフリーの研磨、スラリーレスの実現、水性研削液の使用、水性研削液使用での研磨レートの向上、砥石摩耗率の低減化、加工コストの低減、表面粗さの向上などが可能となり、大幅なコスト低減と環境クリーン化を実現することができるダイヤモンド砥石を提供する。例文帳に追加

To provide a diamond wheel which can remarkably reduce a cost and can obtain a clean environment by achieving scratch-free polishing, slurry-less polishing, the use of a water base grinding fluid, an improvement in polishing rate in the use of water base grinding fluid, reduction in the wear rate of a wheel, reduction in machining cost, an improvement in surface roughness, etc. - 特許庁

連続鋳造機におけるロールの寿命の長期化を図って補修回数を減少させるようにすると共に、コストの低減を図り、又、補修時には局部的補修溶射を可能にして溶射だけで機械加工することなく、ロールに板の鋳造に必要なクラウンを形成させ、必要な表面粗さを付与する。例文帳に追加

To reduce repairing frequencies in order to lengthen the service life of a roll in a continuous casting and the cost, and to give a necessary surface roughness by forming a necessary crown to casting of a plate on the rolls without applying machining only with thermal-spraying, while performing the thermal-spraying on the local repair at the repairing time. - 特許庁

基板表面の最大突起粗さＲｐ、うねりＷａが小さく、向上した平坦度ＦＴをそなえ、機械的ポリッシュ加工により表面に残留した研磨スラリー、洗剤シミなどの汚れが除去されて、欠陥のない高密度化の磁気メモリーディスクを得ることを可能とする磁気メモリーディスク用ポリッシュ基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To produce a polished substrate for a magnetic memory disk having small maximum projection roughness Rp, small waving Wa and enhanced flatness FT of the surface, freed of contaminants such as an abrasive slurry remaining after mechanical polishing and blotches of a detergent and capable of giving a defect-free high density magnetic memory disk. - 特許庁

上記課題を達成するため、高圧アルミニウムダイキャスト法を用いて鋳包み加工に供される鋳鉄部材であって、当該鋳鉄部材は、その表面にアルミニウム材との密着性を向上させるための改質被覆層を備え、且つ、その表面粗さ（Ｒａ）が５μｍ〜１５０μｍであることを特徴とした鋳包み用鋳鉄部材を採用する。例文帳に追加

The cast iron member is used for insert casting working using a high pressure aluminum die casting process, and is provided with a modification coating layer for improving its adhesion with an aluminum material on the surface, and also, its surface roughness (Ra) is 5 to 150 μm. - 特許庁

スナップリング挿入治具の製作費用が安価であり製作工数が少なく、また、挿入治具及びスナップリングの加工精度誤差、挿入治具及びスナップリングの面粗度誤差、スナップリングのバリ等の影響を受けないで、スナップリングが円滑且つ確実にワークに挿入されるスナップリング装着装置の提供。例文帳に追加

To provide a snap ring mounting device, lowering the manufacturing cost of a snap ring insert tool, decreasing the manufacturing man-hour, and smoothly and surely inserting the snap ring into a work without being influenced by a working accuracy error of the insert tool and the snap ring, surface roughness error of the insert tool and the snap ring and burrs of the snap ring. - 特許庁

溶融シリカ粉末原料を含むスラリーを型に流し込んで成形し、得られた成形体を乾燥させた後、１１５０℃以上１２５０℃以下で焼成し、外表面に研削加工およびラップ処理を施すことにより、弾性率が４５ＧＰａ以上、かつ、表面粗さＲａが０．５μｍ以下である溶融シリカ質ロールを製造する。例文帳に追加

A fused silica roll having a modulus of elasticity of 45 GPa or higher and a surface roughness Ra of 0.5 μm or smaller is produced by casting a slurry containing a raw fused silica powder material into a mold and molding it, drying the obtained molding, firing the dried molding at 1,150-1,250°C, and subjecting its external surface to grinding and lapping. - 特許庁

金型１０の表面に、円周テクスチャー加工を行うことにより所定の粗さで円周溝１６を形成し、溶融または混合後固化させた硝材に対しプレス成形により前記金型表面を前記ガラス素材表面に転写させて、円周テクスチャー付きの磁気記録媒体用ガラス基板を作製する。例文帳に追加

Circumferential grooves 16 are formed at a prescribed roughness on the surface of a mold 10 by subjecting the surface to circumferential texturing and a glass material solidified after melting or mixing is subjected to press forming to transfer the mold surface to the surface of the glass blank, by which the glass substrate for the magnetic recording medium textured on the circumferential is fabricated. - 特許庁

アルミニウム、アルミニウム合金表面を粗面化するための表面加工方法に関し、樹脂や異種金属、セラミック等との接着等に際し形状や材質にかかわらず、簡単な工程により強固な接着力が達成できるような接着性に優れた金属の表面処理方法、及び該表面処理方法により得られた表面を有する金属部材を提供する。例文帳に追加

To provide a surface processing method of a metal excellent in adhesiveness capable of attaining firm adhesion by a simple process regardless of the shape or the material relative to adhesion to a resin, a different kind of metal, a ceramic or the like, concerning the surface machining method for roughening the surface of aluminum or an aluminum alloy. - 特許庁

ポリオレフィン樹脂被覆紙支持体上に気相法シリカを含有する少なくとも１層のインク受容層を有するインクジェット記録材料において、前記支持体のインク受容層が設けられる側の表面がＪＩＳ−Ｐ８１４２による７５度鏡面光沢度が３０％以上で７０％未満になるように微粗面加工されたことを特徴とするインクジェット記録材料。例文帳に追加

An ink recording material is provided with at least one ink acceptive layer containing a vapor phase method silica on a polyolefin resin coated paper on a resin coated paper substrate, and the surface of the side whereon the ink acceptive layer of the substrate is rough surface processed so that the 75° mirror face glossiness based on the JIS-P8142 is 30-70%. - 特許庁

生分解性を有する熱可塑性樹脂からなる、単糸繊度が１．１〜６．６ｄｔｅｘの繊維束に押込捲縮を付与するに際し、単糸繊度（ｄｔｅｘ）と押込捲縮付与ローラの表面粗度（μｍ）とが、下記式 を満足するようにして捲縮を付与することを特徴とする生分解性繊維束の押込捲縮加工方法。例文帳に追加

The method of processing for forced feed crimping of the biodegradable fiber bundles imparts forced feed crimping to the fiber bundles with single filament fineness of 1.1-6.6 dtex which comprises a biodegradable thermoplastic resin, by setting the single filament fineness (dtex) and the surface roughness (μm) of the forced feeding crimp imparting rollers satisfy following equation (1). - 特許庁

熱可塑性樹脂シートならなり、その熱可塑性樹脂シートの片面もしくは両面が荒らされたシート表面を有し、かつその表面粗さが５〜２００μｍであることを特徴とする被研磨物保持キャリア材用基材で、該熱可塑性樹脂シートを荒らす方法としては、シート成形によるロール凹凸の転写、プレスによる金型の凹凸の転写またはシート表面の加工する方法が挙げられる。例文帳に追加

As a method of forming the thermoplastic resin sheet into a rough surface, transfer of a rugged part of a roll by forming the sheet, transfer of a rugged part of a mold by pressing, or a sheet surface working is used. - 特許庁

表面が粗面な被着体に対しても適度な粘着特性を有し、かつ、背面の滑り性に優れ、耐ブロッキング性、巻出し特性（巻出張力を減少させ、被着体との貼り合わせの際にもシワや傷が入ることなく、容易にかつ高速に貼り合わせ加工が可能）にも優れた表面保護フィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a surface protective film which has proper adhesion property even for an adherend having a rough surface, is excellent in sliding property of a back surface and is excellent also in anti-blocking property and unwinding characteristic (unwinding tension is reduced, no wrinkle or damage occurs even upon the attaching to the adherend, and the easy and high-speed attachment is made possible). - 特許庁

ダイシングテープ２００の貼り付けを行う前に、半導体ウェハ１００の反りの状態を測定し、半導体ウェハ１００の一面のうち当該反りによってダイシングテープ２００側に近くなる部位１０１が、これよりも遠くなる部位１０２に比べて面粗度の小さいものとなるように、半導体ウェハ１００の一面を加工し、しかる後、半導体ウェハ１００の一面にダイシングテープ２００を貼り付ける。例文帳に追加

Before the dicing tape 200 is stuck, the warpage state of the semiconductor wafer 100 is measured; and one surface of the semiconductor wafer 100 is processed to have smaller surface roughness at a position 101 closer to the side of the dicing tape 200 because of the warpage than at a farther position 102, and then the dicing tape 200 is stuck on the one surface of the semiconductor wafer 100. - 特許庁

導体層１３を電解めっきのための導電シード層１５を介して形成された電解めっき層により構成し、導電シード層１５に接触する側の絶縁層１１の表面１１Ａを、フィルドビア１４の絶縁層表面１１Ａに対する露呈面１４Ａを含めて粗化加工面１６とする。例文帳に追加

The conductor layer 13 is constituted with an electrolytic deposition layer formed via a conductive seed layer 15 for electrolytic plating, and the surface 11A of an insulating layer 11 on the side where it makes contact with the conductive seed layer 15 is assumed to be a roughening processed surface 16 including an exposure surface 14A to the insulating layer surface 11A of the field via 14. - 特許庁

１箇所のワーク取付け台における１回のチャッキング動作でワークのエッジに必要とされる粗研削及び研摩加工をすべて行うことができ、チャッキングのやり直しによるワークのセンタリングの誤差の累積をなくして、主としてシリコンウェーハ等の半導体ウェーハについて、高精度かつむらなく均一でしかも極めて平滑度の高い仕上げ研摩ができるようにする。例文帳に追加

To carry out completely both rough grinding and polishing required for an edge of a work by one chucking action on one work installing base, to eliminate accumulation of errors in centering of the work caused by rechucking, and to evenly and uniformly finish polishing, which is highly accurate and generates extreme smoothness mainly for a semiconductor wafer such as a silicon wafer. - 特許庁

所定の外径および内径を有するガラス管１１を加熱して延伸成形することによりガラス製キャピラリを製造するガラス部材の延伸加工方法において、延伸成形前に、ガラス管１１の内周面１１ａおよび外周面１１ｂをそれぞれ、算術平均粗さＲａが０．０５μｍ以下になるように研磨する。例文帳に追加

In the method for drawing a glass member by heating and drawing a glass tube 11 having a specified outer diameter and an inner diameter to manufacture a glass capillary, the inner face 11a and the outer face 11b of the glass tube 11 are polished to obtain ≤0.05 μm arithmetic average roughness Ra before drawing on each face. - 特許庁

粗面化、及び陽極酸化処理を施したアルミニウム支持体上に設けた光重合型感光性平版印刷版を、露光後、水洗処理し、上記現像液で処理し、再び水洗した後、ａ）アラビアゴム及びｂ）加工デンプンを含有する不感脂化処理剤を塗設することを特徴とする平版印刷版の製版方法。例文帳に追加

In the method for making a planographic printing plate, a photopolymerizable photosensitive planographic printing plate provided on a surface-roughened and anodically oxidized aluminum support is exposed, water-washed, processed with the developing solution, water- washed again and coated with a desensitization treatment agent comprising a) gum arabic and b) modified starch. - 特許庁

研磨パッドの表面細孔の目詰まりや研磨パッド表面の摩耗などによる研磨性能の低下を回避するとともに、研磨パッドの表面が半導体基板を高精密研磨するための所望の表面粗さを有するように研削加工することができ、長寿命化が図れるコンディショナーを提供する。例文帳に追加

To provide a conditioner capable of avoiding a drop in polishing performance due to clogging of surface pores on a polishing pad and wear on the polishing pad surface, also grinding the polishing pad so that the polishing pad surface has desired surface roughness for precision polishing of a semiconductor substrate, and lengthening a service life. - 特許庁

特性に優れる絶縁層であり、かつ導体層との密着性を確保するための表面粗化に適した絶縁層から構成される多層構造にすることにより、絶縁層の電気特性、熱機械特性を向上させるだけでなく、従来技術の加工限界を超える微細なビア形成を実現するプリント配線板の製造方法およびプリント配線板を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a printed wiring board and the printed wiring board whereby the electrical and mechanical characteristics of insulation layers are improved and fine vias exceeding the machining limit in the prior art are formed, by forming a multilayer structure composed of insulation layers which are superior in characteristics and suited for roughening the surface to ensure an adhesion to conductor layers. - 特許庁

表面形状の粗い素材、または成形加工等により部分的に表面形状が悪化した素材に対し、プライマー塗膜、中塗り塗膜及び上塗り塗膜を順次形成する複層塗膜形成方法において、プライマー塗料として活性エネルギー線硬化型塗料を用いることを特徴とする複層塗膜形成方法。例文帳に追加

The method for forming a multi-layer coating film wherein the primer, intermediate, and top coating films are successively applied to a material having a rough surface texture or a material having a partially worsened surface texture caused by a molding process or the like, employes an active energy beam curable paint as a primer paint. - 特許庁

（１）プリフォームにおいて、金属管の長手方向に仕上げフランジ厚さより厚い粗フランジを形成し、次いで、液圧バルジにおいて、仕上げフランジを形成した後、または中間フランジおよび仕上げフランジを形成した後、液圧を増加せしめて前記閉断面製品を仕上げ加工することを特徴とする液圧バルジ方法である。例文帳に追加

(1) In the hydrostatic bulging method, a rough flange which is thicker than the thickness of a finished flange is formed in the longitudinal direction of a metallic tube in preformation, next, after forming the finished flange by hydraulic bulging or after forming an intermediate flange and the finished flange, a product having a closed cross section is finished by increasing the hydraulic pressure. - 特許庁

ターゲット、バッキングプレート、スパッタリング装置内の機器の、不要な膜が堆積する面から発生する堆積物の剥離・飛散を防止できるパーティクル発生の少ないスパッタリングターゲット、バッキングプレート又はスパッタリング装置内の機器及び放電加工による粗化方法を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target, a backing plate and an instrument in a sputtering device capable of preventing the peeling and scattering of deposit generated from the surface of the target, the backing plate and the instrument in the sputtering device, to which an unnecessary film is deposited, and to provide a roughening method using an electron discharge machining. - 特許庁

基板表面粗さが極めて小さい超高精度の仕上げでテクスチャー加工を行うことができ、且つ微細な研磨屑及び砥粒の基板表面への食い込みに起因する欠陥を抑制し、クリーニング効果が高いとともに、局所的な砥粒の凝集などに起因するスクラッチ欠点を極小化することができる研磨布を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing cloth which performs texture machining to the finish of super-high precision with extremely small surface roughness of a substrate, suppresses a defect caused by micro chips from polishing and abrasive grains biting into the substrate surface, has a high cleaning effect, and minimizes scratch defects caused by the local cohesion of abrasive grains. - 特許庁

水晶片１１上に形成される励振電極１２ａの表面を、感知物質である抗体の一分子の少なくとも１０倍以上の大きさを持った研削粒子を用いて例えば砥粒を用いた研削処理やブラスト加工を行うことで粗面化し、この励振電極１２ａの上に前記抗原を捕捉する抗体を付着させて圧電センサーを構成する。例文帳に追加

The piezoelectric sensor is formed by roughening the surface of excitation electrodes 12a formed on a quartz piece 11, for example, by a grinding processing or a blast processing with abrasive particles using grinding particles which are at least 10 times larger than one molecule of an antigen to be sensed, and attaching an antibody that captures the antigen to the excitation electrodes 12a. - 特許庁

基体シート１上に少なくとも加飾層２が形成された加飾シートを金型面にクランプ材３で押し付けて保持した状態で成形加工するための加飾シート成形用金型であって、該加飾シートと接触するクランプ面またはこれに対応する金型面金型面の平均表面粗をＲａが０．０１〜３０．０×１０^−３ｍｍにする。例文帳に追加

The mold for molding the decoration sheet is intended for fabricating the decoration sheet having at least a decoration layer 2 formed on a base sheet 1 while holding it pushed to the mold surface by a clamp member 3; wherein an average surface roughness Ra of a clamp surface in contact with the decoration sheet or a corresponding mold surface ranges from 0.001 to 30.0×10^-3 mm. - 特許庁

ガラスブラスト加工機５０においてガラスビーズ５１を吹き付けるガラスブラスト法をスプロケット歯面４２および（または）リンクプレート２の各フランク面（噛合面）２３，２４に適用することにより、スプロケット歯面４２および（または）リンクプレートフランク面２３，２４の面粗度を３．２μｍ以下、好ましくは２μｍ以下に仕上げる。例文帳に追加

A glass blast method blowing glass beads 51 in a glass blast work machine is applied to a sprocket tooth surface 42 and/or each flank surface (mesh surface) 23, 24 of a link plate 2, so as to finish surface roughness of the sprocket tooth surface 42 and/or link plate flank surfaces 23, 24 to 3.2 μm or less, preferably 2 μm or less. - 特許庁

耐薬品性などの耐食性に優れ、基材との結合力が高く熱衝撃性が良好であり、高比強度を有し、また膜表面の粗さが小さく仕上げ加工を省略することを可能とし、サセプタ、ダミーウエハ、ボート、チューブなどとして好適に使用される炭化珪素質半導体製造装置用部材およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a component for an apparatus for manufacturing a silicon carbide semiconductor and a method for manufacturing the same excellent in corrosion resistance such as chemical resistance and the like, thermal shock resistance providing strong bonding power with a substrate, large specific tensile strength, and capable of saving finish machining owing to small roughness on the film surface to be used for a susceptor, dummy wafer, boat, tube, and the like. - 特許庁

水晶ウエハ１に音叉型水晶振動片２の外形を加工し、その表面に電極５と振動腕２ａに周波数調整用の重り材料を付着させて重り部６とを形成し、レーザ光を重り部の先端側に照射して重り材料をトリミングして周波数を粗調整する。例文帳に追加

The outer shape of a tuning fork type crystal oscillating bar 2 is machined in a crystal wafer 1, and an electrode 5 and a weight 6 are formed on the surface by adhering weight materials for frequency adjustment to an oscillating arm 2a, the top end side of the weight part is irradiated with a laser beam, and the weight materials are trimmed so that the frequency can be roughly adjusted. - 特許庁

地下壁１０を形成するコンクリートの内表面に粗面加工を施した後に、その凹部１１に珪藻土を主成分とする目地埋め材１２を充填し、ついで、前記地下壁の内面に、珪藻土を主成分とする下地材１３を塗布することにより、前記地下壁内面を平滑化し、ついで、前記下地材の表面に、珪藻土を主成分とする仕上げ材１４を少なくとも一層以上積層する。例文帳に追加

After surface processing is applied to the inside surface of a concrete constituting the basement wall 10, the recess section 11 is filled with joint fillers 12 having diatom earth as main ingredients, the ground 13 having diatom earth as main ingredients is applied to the inside of the basement wall to smooth the inside of the basement wall, and the finish 14 having diatom earth as main ingredients is laminiated at least one or more layers. - 特許庁

また、亜鉛系めっき鋼板の表面上にリン酸塩処理皮膜を有し、該リン酸塩処理皮膜の結晶の長径／短径の平均比率が１．００以上２．９０以下であるリン酸塩処理亜鉛系めっき鋼板であって、その表面粗度が、０．２μｍ≦Ｒａ≦０．７μｍであることを特徴とする加工性に優れたリン酸塩処理亜鉛系めっき鋼板。例文帳に追加

Alternatively, the phosphated galvanized-steel sheet superior in workability has the phosphated film on the surface of the galvanized steel sheet and has an average ratio of the major axis to the minor axis of the crystal in the phosphated film, of 1.00 or more but 2.90 or less, wherein the surface roughness Ra is 0.2 μm or more but 0.7 μm or less. - 特許庁

平均粒径が１μm以下のＳｉＣ強化材を成形してプリフォームを形成し、該プリフォームに溶融Ｓｉを浸透させてＳｉＣ−Ｓｉ複合材料となし、さらに、該ＳｉＣ−Ｓｉ複合材料を研削加工して金型形状とし、次に、該金型のレンズ成形表面を表面粗さＲａが５ｎｍ以下となるように研磨してレンズ成形用金型を製造する。例文帳に追加

This lens molding die is produced by: forming a preform by shaping an SiC reinforcing material having an average particle size of ≤1 μm; preparing an SiC-Si composite material by impregnating the preform with a molten Si; grinding the SiC-Si composite material to make a die shape; and polishing the die surface for lens molding to obtain the surface roughness Ra of ≤5 nm. - 特許庁

Ｃｏの含有量が多い超微粒子超硬合金の基材１２の表面を所定の面粗さに荒し加工した後、酸処理等によるＣｏの除去処理を行うことなく、ＰＶＤ法によりＴｉＡｌＮの中間層１８を設け、その中間層１８の上にマイクロ波プラズマＣＶＤ装置を用いてダイヤモンド被膜１６をコーティングした。例文帳に追加

The surface of substrate 12 of hyperfine-grained high cemented carbide alloy with a large content of Co is subjected to roughening treatment to the prescribed surface roughness, thereafter, an intermediate layer 18 of TiAlN is formed by a PVD method without performing removal treatment of Co by means of acid treatment, etc., and the diamond film 16 is applied on the intermediate layer 18 by using a microwave plasma CVD device. - 特許庁

プリント配線板の製造等に好適に用いることができる絶縁性接着シートであり、該シートの表面粗度が小さい場合にも、該表面に形成した金属層との接着性に優れ、さらには加工性、耐熱性、及び低熱膨張性に優れた絶縁性接着シートとそれを用いてなるプリント配線板を提供する。例文帳に追加

To provide an insulating adhesion sheet which can be suitably used for manufacturing a printed wiring board or the like which is excellent in adhesiveness with a metal layer formed on this front face also when the surface roughness of this sheet is small, furthermore which is excellent in workability, heat resistance, and a low-thermal expansion property, and to provide a printed wiring board using the same. - 特許庁

表面が粗面な被着体に対しても適度な粘着特性を有し、かつ、背面の滑り性に優れ、耐ブロッキング性、巻出し特性（巻出張力を減少させ、被着体との貼り合わせの際にもシワや傷が入ることなく、容易にかつ高速に貼り合わせ加工が可能）にも優れた表面保護フィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a surface protective film which has viscosity characteristics suitable even for to-be-protected substrates having rough surfaces and also has good sliding properties of the back surface, blocking resistance and rolling characteristics, including capabilities of reducing the rolling tensile force, avoiding wrinkle and flaw during lamination with a to-be-protected substrate and allowing easy high-speed lamination. - 特許庁

このため、非磁性層２上に磁性層３をウェット・オン・ドライ塗布方式によって形成した後、カレンダー加工した際における磁性層３の中心線平均粗さＲａを規定の範囲内に維持しつつ、磁気テープ１による磁気ヘッドの研磨量についても規定の範囲内に維持することができる。例文帳に追加

Thereby, the ground amount of the magnetic head by a magnetic tape 1 can be also maintained in a regulated range while centerline average roughness Ra of the magnetic layer 3 obtained when the magnetic layer 3 is subjected to calendering after the magnetic layer 3 is formed on the non-magnetic layer 2 by a wet-on-dry application system is maintained in a regulated range. - 特許庁

電子写真用感光体の製造としてアルミニウムを主成分とする円筒状基体を切削加工し、その後、珪酸塩を含んだ水により洗浄をおこなうことで１０μｍ×１０μｍ範囲における表面粗さＲａが２．５ｎｍ以下の範囲である被膜を形成し、その後、プラズマＣＶＤ法によりアモルファスシリコン層を堆積させる。例文帳に追加

For manufacturing the electrophotographic photoreceptor, the cylindrical base body mainly consisting of the aluminum is machined, and then, coating film whose surface roughness Ra in the area of 10 μm X 10 μm is set to ≤2.5 nm is formed by cleaning with water incorporating silica salt, and the amorphous silicon layer is heaped by a plasma CVD method. - 特許庁

樹脂基材との接合面を粗面にするためのサンディング等の後加工を施す必要がなく、インジェクション成型における樹脂基材との密着性を改善することが可能な化粧賦形体、基材成形用化粧賦形体、化粧成形体およびこれらの製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a decoratively shaped object unnecessary to apply post processing such as sanding or the like for making the joining surface with a resin base material rough and capable of improving the close adhesion with the resin base material in an injection mold, the decoratively shaped object for molding the base material, a decoratively molded object and a manufacturing method of them. - 特許庁

プラスチックレンズの製造方法において、光学機能部または光学機能部外周のフランジ部のゲート部を残した形状に分離切断し、この分離切断面に粗面加工を施し、また光学機能部または光学機能部外周のフランジ部のゲート部を残した形状に分離切断し、この分離切断面に着色を施す。例文帳に追加

In the manufacturing method of the plastics lens, material is separated and cut to shape obtained by leaving the optical function part or the gate part of the flange part on the outer periphery of the optical function part, and the separated and cut surface is worked to be the rough surface, and also it is colored. - 特許庁

熱交換器用フィン材１０は、粗面化皮膜２に分散させた粒子２２で形成される表面の凹凸によりプレス加工における工具等との接触面積を少なくして、密着性の低い疎水性シリカを含む撥水性皮膜３を剥離、欠損し難くして、撥水性を保持することができる。例文帳に追加

A contact area with a tool and the like used in press working, of this fin material 10 for the heat exchanger is reduced by irregularity of a surface formed by the particles 22 dispersed in the coarsened film 2, thus separation and defect of the water-repellent film 3 including hydrophobic silica of low adhesiveness can be reduced, and the water repellency can be retained. - 特許庁

半導体チップ取付部を備えた樹脂製ケースと、上記樹脂製ケース内にインサート成形法によって一体に組み込まれた一対の金属製端子と、を具備してなる半導体チップ取付用ケースにおいて、上記金属製端子は直線状に形成されその先端の剪断面に表面粗さを低くする加工を施してワイヤーボンディング面とするものである。例文帳に追加

In a case for fixing a semiconductor chip comprising a resin case equipped with a semiconductor chip fixing portion, and a pair of metal terminals built into the resin case integrally by insert molding, the metal terminal is shaped linearly, and its shear plane at the tip is subjected to machining for lowering surface roughness thus obtaining a bonding face. - 特許庁

さらに、光ファイバーコネクタ端面は、通常、粗研磨（接着剤除去並びに球面形成），１次研磨，２次研磨，仕上げ研磨の４工程で加工が行なわれるが、本発明の研磨シートは、１次研磨後に、２次研磨を行わずとも仕上げ研磨が可能であり、かつ、何回もの使用に耐え得る耐久性をもった研磨シートの提供を目的とする。例文帳に追加

The polishing sheet is provided with a polishing layer having polishing material grains and a binder on one side of a base material. - 特許庁

ペースト塩化ビニル系樹脂の水性分散液を乾燥したペースト塩化ビニル系樹脂粉体から粗大粒子を除去する際に、篩として三次元運動篩、好ましくは篩スクリーンが回転数１４０〜２８０ｒｐｍで運転されている三次元運動篩を用いるペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製法。例文帳に追加

In the method for producing the vinyl chloride based resin, when coarse particles are removed from the vinyl chloride based resin powder obtained by drying an aqueous dispersion of the vinyl chloride based resin, a three-dimensionally moving sieve, preferably the three-dimensionally moving sieve in which a sieve screen is driven at 140-280 rpm number of revolutions is used. - 特許庁

簡単な構造で、研磨パッドの表面細孔の目詰まりや研磨パッド表面の摩耗などによる研磨性能の低下を回避するとともに、研磨パッドの表面が半導体基板を高精密研磨するための所望の表面粗さを有するように研削加工することができるコンディショナーを提供する。例文帳に追加

To provide a conditioner capable of avoiding a drop in polishing performance due to clogging of surface pores on a polishing pad and wear on the polishing pad surface with a simple structure, and also grinding the polishing pad so that the polishing pad surface has desired surface roughness for precision polishing of a semiconductor substrate. - 特許庁

粗面加工を施した半導体素子を導電性接着剤を用いて基板またはリードフレームに固着した半導体装置において、充分な導通性を維持しつつ、熱ストレスによる導電性接着剤の剥離を防止する半導体装置の接続方法および半導体装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a connection method for preventing peeling of a conductive adhesive due to thermal stress while maintaining satisfactory conductivity in a semiconductor device, wherein a semiconductor element which is subjected to surface roughening is fixed to a substrate or a lead frame by using the conductive adhesive. - 特許庁

ゴルフクラブヘッドの本体部の、研磨加工により平滑化した表面に、文字やマーク等の模様を打ち抜いたマスキングシートを粘着し、エアーブラストによって研磨材を吹き付けて、模様部分を粗面化し、更にカラークリヤーを塗付して、模様を立体的に浮き上がらせる表面処理方法。例文帳に追加

This surface treatment method is so constituted that a masking sheet formed by punching out the pattern such as the letter and the mark is stuck to a body part of the golf club head on a surface smoothed by polishing work, the pattern part is made coarse by blasting a polishing agent by an air blast and coated with color clear so that the pattern is struck up three dimensionally. - 特許庁