「Beam Forming」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for producing the grained artificial leather includes applying processing, with laser beam in an infrared region, of a grained artificial leather in which a coating film made of a polymer elastomer exits on a substrate made of fibers and a porous polymer elastomer, thereby forming holes penetrating the coating film.例文帳に追加

および繊維と高分子弾性体からなる基体上に、高分子弾性体からなる皮膜が存在する銀付調人工皮革に、赤外線領域のレーザー加工によって皮膜を貫通する穴を開ける銀付調人工皮革の製造方法。 - 特許庁

In the method of manufacturing the SIMOX wafer including a step of forming a high-concentration layer of oxygen in a silicon wafer by implanting oxygen ions into the silicon wafer, the power that a beam current used for the oxygen ion implantation has is not larger than 14 kW.例文帳に追加

シリコンウェーハに酸素イオンを注入して、前記シリコンウェーハ中に酸素の高濃度層を形成する工程を有するＳＩＭＯＸウェーハの製造方法において、前記酸素イオン注入に用いるビーム電流がもつ仕事率を１４ｋＷ以下とする。 - 特許庁

To form an excellent image with an image forming apparatus for reciprocally writing in which a light beam is reciprocally scanned on the effective image area of a latent image carrier in a main scanning direction with a deflection mirror face while reciprocally writing with a minimum number of sensors.例文帳に追加

偏向ミラー面によって主走査方向に光ビームを潜像担持体の有効画像領域上に往復走査させて往復書込を行う画像形成装置において、最小限のセンサにより往復書込を行いながらも良好な画像を形成する。 - 特許庁

The method uses a laser beam to embrittle previously the inside of an interior component cover layer for automobile of various construction, which enables forming an opening for spreading the air bag in the interior component at the same time as spreading the air bag.例文帳に追加

本発明は、レーザビームの使用により、様々な構造の自動車用内装部品カバー層の内側を予め脆弱化する方法に関するものであり、これにより、エアバッグ展開と同時に内装部品のエアバッグ展開用開口部を形成することが可能となる。 - 特許庁

The rotation speed of the photosensitive-body drum 20K forming a black image is changed to a higher speed when a monochrome mode is performed, and the writing synchronous detection in the main scanning direction is performed using the laser beam BC irradiating the photosensitive-body drum 20C which is not used for an image formation.例文帳に追加

ブラック画像を形成する感光体ドラム２０Ｋはモノクロモード実行時には回転速度を高く変更され、画像形成には使用されない感光体ドラム２０Ｃを照射するレーザビームＢＣを使用して主走査方向の書込み同期検出を行う。 - 特許庁

To obtain a multi-beam scanning optical device which has improved image quality by simplifying an adjustment step of optical elements to each light source, improving the work efficiency of the optical elements, and suppressing positional deviation of the optical elements, and to obtain an image forming apparatus using the same.例文帳に追加

各々の光源に対する光学素子の調整工程を簡素化し、作業効率を効率化し、また光学素子の位置ずれを抑制し、画像品質の向上を図ることができるマルチビーム走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置を得ること。 - 特許庁

To provide a measurement apparatus for a light spot diameter and a light spot position, which facilitates confirmation of a light spot position without incurring a reduction in the light quantity incident on a sensor or deterioration in a beam profile, and also to provide a method of adjusting a scanning optical system unit, and an image forming apparatus.例文帳に追加

センサへの入射光量の低下やビームプロファイルの劣化を招くことなく光スポット位置を容易に確認可能な光スポット径及び光スポット位置測定装置、走査光学系ユニットの調整方法、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A light source means 1 which supplies an illuminating light, a multiple light source forming means 3 which forms a large number of light sources according to a light beam from the light source means and an optical system (6 and 8) which guides light beams from the large number of light sources onto an illuminated surface 9 are provided.例文帳に追加

照明光を供給する光源手段（１）と、光源手段からの光束に基づいて多数の光源を形成する多光源形成手段（３）と、多数の光源からの光束を被照射面（９）へ導く光学系（６，８）とを備えている。 - 特許庁

To provide a method and a device for forming a thin film pattern, in which the performance in removal of residues after laser beam machining or depositions on a substrate is enhanced, a poor thin film is prevented from being generated by preventing the removed materials from being stuck again on the substrate and a step to manufacture the thin film is simplified.例文帳に追加

レーザ加工残渣または基板付着物の除去性能の向上と、除去物の基板への再付着を防止して薄膜の不良発生の防止を図り、さらに製造工程の簡素化を図った薄膜パターン形成方法とその装置を提供する。 - 特許庁

To reduce the displacement of a line of an exposure beam in a partially overlapping region without a great increase in cost or performance of troublesome adjustment or maintenance, in an image forming apparatus having a plurality of laser exposure portions sharing the partially overlapping regions.例文帳に追加

一部重複域を有する複数のレーザ露光部を備えた画像形成装置において、コストの大幅な増大を引き起こすことなく、また、煩雑な調整やメンテナンスを行うことなく、一部重複域において露光ビームのラインのずれを低減することができる。 - 特許庁

A scatterer device 19 and a range regulator 20 installed in the irradiation field forming device 15 are integrated on the downstream side of first and second scanning electromagnets 17 and 18, and a Bragg peak enlargement device 21 is singly moved along a beam axis 14.例文帳に追加

第１及び第２走査電磁石１７，１８の下流側で、照射野形成装置１５に設置された散乱体装置１９及び飛程調整装置２０は一体化されて、またブラッグピーク拡大装置２１は単独で、ビーム軸１４に沿って移動される。 - 特許庁

To provide an energy beam curable type inkjet ink composition having excellent preservation stability and continuous ejection property, also excellent adhesion of printed membrane, causing less development of scanning streaks on the printed membrane, and forming a printed matter having good glossiness.例文帳に追加

保存安定性に優れるとともに、連続吐出性に優れ、また印字膜の密着性に優れるとともに、印字膜に走査縞の発生が少なく、良好な光沢感を有する印刷物を形成できるエネルギー線硬化型インクジェットインク組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam curing conductive paste capable of forming a conductive layer which is excellent in hardness and bendability and also excellent in adhesion to a plastic substrate even if used under high temperature environment, and also to provide a method of manufacturing a circuit board using the conductive paste.例文帳に追加

高温環境下で使用されても硬度及び折曲性に優れ且つプラスチック基材に対する密着性に優れる導電層を形成できる電子線硬化用導電性ペースト及びこれを用いた回路基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

After sequentially forming a main pole layer 21a and an STO layered body layer 11a, unnecessary materials are removed until reaching a base body by an ion beam etching method using a single mask 44 for demarcating the range of an STO layered body 11 and a main magnetic pole 21.例文帳に追加

主磁極層２１ａとＳＴＯ積層体層１１ａとを順次成膜したのち、ＳＴＯ積層体１１および主磁極２１の範囲を画定するための単一のマスク４４を用いたイオンビームエッチング法により、基体に至るまで不要な材料を除去する。 - 特許庁

The periodic structure forming apparatus 100 forms a periodic structure on the surface of the object WK by irradiating the surface of the object WK with femtosecond laser beam_100 from a laser beam source 101 while supporting the object WK by a stage device 106 displaceably.例文帳に追加

周期構造形成装置１００は、ステージ装置１０６により被処理対象物ＷＫを変位可能に支持しつつ、レーザ光源１０１からフェムト秒レーザ光Ｌ_１００を照射して被処理対象物ＷＫの表面に周期構造を形成する。 - 特許庁

To provide a machining method for forming a dividing starting point in a workpiece by which optical absorption in a machining trace is reduced, efficiency of taking out light from sapphire is enhanced and high-speed processing can be performed, and to provide a laser beam machining apparatus that materializes this method.例文帳に追加

加工痕における光吸収が低減され、しかもサファイアからの光の取り出し効率が高められるとともに高速処理が可能な、被加工物に分割起点を形成する加工方法およびこれを実現するレーザー加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an alloyed layer with an electron beam, which dispenses with operation of drying or the like in feeding/fixing an alloy element to an alloying base metal such as a metal material, in a process employing a powdered alloy element, and an apparatus.例文帳に追加

本発明は、粉末状の合金要素を使用するものにおいて、金属材料等の合金化母材への合金要素の供給・固定に乾燥等の作業を不要にした電子ビーム合金化層の形成方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To easily form a large grain size polycrystalline silicon uniformly over the entire substrate in a process of crystallizing an amorphous silicon film formed on the substrate, using a laser beam for forming a polycrystalline silicon (poly-silicon) TFT on the large substrate.例文帳に追加

大型基板上に多結晶シリコン(ポリシリコン)ＴＦＴを形成するために、基板上に形成した非晶質シリコン(アモルファスシリコン)膜をレーザ光で結晶化するプロセスにおいて、基板全面にわたり均一で大粒径の多結晶シリコンを容易に作成する。 - 特許庁

By the use of a laser beam 20 by a strength conversion element when forming the V shape groove 21 between semiconductor elements 2 of the semiconductor substrate 3, the stable V shape groove can be formed, resulting in preventing the generation of cracks and chippings of the cut part.例文帳に追加

半導体基板３の半導体素子２間のＶ字型溝２１形成時にレーザー光線２０を使用し強度変換素子を介することにより、安定したＶ字型の溝を形成することが可能となり切削部クラック、チッピングの発生を防止できる。 - 特許庁

The method of manufacturing the plastic three-dimensional circuit element is that, after forming the hole by focusing the laser beam of 10^-12 sec or shorter to the inside of the plastic structure, an electrically conductive material is filled in the hole to form the circuit.例文帳に追加

また、プラスチック三次元回路素子の製造方法は、パルス幅が１０^-12秒以下のレーザーをプラスチック構造体の内部に焦点を合わせて照射して孔を形成した後、該孔に導電性物質を含有させて回路を形成することを特徴とする。 - 特許庁

In the manufacturing of a plasma display panel having a phosphor layer between barrier ribs on one substrate, the phosphor paste or the phosphor on the crowning of the barrier ribs adhered in the process of forming the phosphor layer is extinguished by irradiation of laser beam.例文帳に追加

一方の基板上の隔壁間に蛍光体層を備えるプラズマディスプレイパネルの製造に際し、隔壁間に蛍光体層を形成する工程で付着した隔壁頂部の蛍光体ペーストまたは蛍光体をレーザー光の照射により滅却する。 - 特許庁

To stabilize an uneven pattern equal to or smaller than a diffraction limit by specifying conditions for stably patterning a photoresist layer when utilizing a hyper-resolution for an exposure beam in a method for forming fine patterns with contrast enhancement photolithography.例文帳に追加

コントラスト増強フォトリソグラフィ法で微細パターンを形成する方法において、露光ビームに超解像を利用する際に、フォトレジスト層に安定したパターン形成を行なうための条件を規定することにより、回析限界以下の凹凸パターン形状を安定させる。 - 特許庁

To provide relief densely affixed with a gold leaf by forming the relief by engraving a handwriting data-inputted and used for a memorial tablet into costly foreign wood by a laser beam from a laser engraver commanded by a computer, and sticking the gold leaf on this relief.例文帳に追加

データー入力された位牌に用いる筆蹟を、コンピューターより指令されるレーザー彫刻機のレーザー光線により唐木に彫り残すことにより浮かし彫りを形成させ、これに金箔を貼ることにより緻密な金箔貼り浮かし彫りを提供しようとする。 - 特許庁

To control diffusion of wiring metal on an electron emission element film (dielectric thin film) of wiring metal and electron emission part causing deterioration of electron emission characteristics in an electron source substrate used as a electron beam source of a large screen flat type image forming device.例文帳に追加

大画面の平面型の画像形成装置の電子ビーム源として用いられる電子源基板において、電子放出特性の劣化の原因となる配線金属の電子放出素子膜（導電性薄膜）上及び電子放出部上への拡散を抑制する。 - 特許庁

The electron beam apparatus includes a primary electron optic system irradiating primary electron beams to a sample 11, a secondary electron detection system forming an electronic image by detecting secondary electrons generated from the sample, and an evaluation means evaluating the sample according to data of the electronic image.例文帳に追加

電子線装置は、一次電子線を試料１１に照射する一次電子光学系、試料から生じる二次電子を検出し電子画像を形成する二次電子検出系、及び電子画像のデータに基き試料の評価を行う評価手段を含む。 - 特許庁

The mechanical resonator having a suspended beam can be obtained by providing on a substrate a pedestal formed by resist that can be removed by ashing, and removing a metal layer by ashing except for both ends of the pedestal after forming the metal layer on the pedestal.例文帳に追加

基板上に、アッシングより除去できるレジストによって形成されたペデスタルを設けておき、当該ペデスタル上に金属層を形成した後、ペデスタルの両端を除いてアッシングにより除去することにより、懸架型のビームを有するメカニカル共振器を得ることができる。 - 特許庁

The manufacturing method of the heat resistant cushioning material for press forming comprises the steps of manufacturing a laminated sheet with a structure of polyethylene terephthalate/polyethylene/polyethylene terephthalate, and cross-linking the intermediate polyethylene layer by irradiating an electron beam to the laminated sheet.例文帳に追加

上記の成形プレス用耐熱クッション材の製造方法であって、まずポリエチレンテレフタレート／ポリエチレン／ポリエチレンテレフタレートの構成の積層シートを製造し、該積層シートに電子線を照射して中間層であるポリエチレン層を架橋することを特徴とする製造方法。 - 特許庁

To provide a method for dividing a wafer capable of establishing the process of forming a deteriorated layer in the wafer along a predetermined division line using a pulse laser beam, dividing the wafer into individual chips along the deteriorated layer and picking up the divided chips.例文帳に追加

パルスレーザー光線を用いてウエーハの内部に分割予定ラインに沿って変質層を形成し、この変質層に沿って個々のチップに分割するとともに、分割されたチップをピックアップするプロセスを確立することができるウエーハの分割方法を提供する。 - 特許庁

To provide a building capable of forming a large opening part of the building, reducing amount of reinforcing bars greatly, and avoiding yielding and shearing destruction of a column due to yielding of a beam by preceding the column to avoid destruction of the whole building.例文帳に追加

建築物の開口部を大きくとることができ、鉄筋量を大きく減らすことができ、さらに梁が柱に先行して降伏することによって、柱の降伏およびせん断破壊を避け、建築物全体の破壊を避けることができる建築物を提供する。 - 特許庁

Molecular beam epitaxy is used on a substrate as a crystal growth method, Al and N are used as impurities, and optimization is made under the growth conditions, thus forming p- and n-type conductive layers for growing highly-doped Zn_1-xMg_xSe_yTe_1-y.例文帳に追加

基板上に結晶成長法として分子線エピタキシーを用い、不純物としてＡｌやＮを用い、前記成長条件で最適化を行うことによって、高濃度のＺｎ_1-x Ｍｇ_x Ｓｅ_y Ｔｅ_1-y の成長を行うｐ型、ｎ型伝導性層を形成する。 - 特許庁

To provide a photomask having a new structure, which has a high contrast of transfer pattern to exposing beam, and is reduced in manufacturing cost by omitting developing step in a transfer pattern forming process, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、露光ビームに対する転写パターンのコントラストが高く、且つ、転写パターン形成過程において現像工程を省くことで製造コストの低減が図られた全く新規な構成のフォトマスク、及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Digital beam forming processing is performed relative to each corrected frequency, and the maximum peak of the power in the azimuth direction is extracted respectively, and a frequency candidate showing the maximum peak power is selected, and the incoming azimuth of the interference component is estimated.例文帳に追加

補正後の周波数に対してデジタルビームフォーミング処理を行って、方位方向の電力の最大ピーク（図１０のＰ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４）をそれぞれ抽出し、最大のピーク電力（図１０のＰ２など）を示す周波数候補を選択して、干渉成分の到来方位を推定する。 - 特許庁

To provide a simultaneous multi-point laser beam micromachining device in which the convergence of a laser light is taken as a axis-like convergence and also a material to be worked can be machined simultaneously at multiple points by forming a plurality of the axis-like converging parts at the same time.例文帳に追加

本発明は、レーザー光の集光を軸状集光とするとともに、該軸状集光の部分を同時に複数形成して被加工物を同時に多点で加工することを可能とした同時多点レーザー微細加工装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a printed interconnection board which can fabricate a printed interconnection board having improved circuit reliability with improved productivity by a method wherein a copper foil in a surface layer only is removed by a laser beam to form an aperture for forming a via-hole.例文帳に追加

レーザ光にて表層の銅箔のみを除去することによって銅箔にバイアホール形成用の開口を形成することが可能となって生産性を高めることができ、また回路の信頼性が高くなるプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a makeup cosmetic, capable of sharply and clearly forming a decorating pattern, when the decorating pattern, such as a character, a figure, and a pattern, is formed on a surface of a solid cosmetic by using a laser beam, and to prepare the makeup cosmetic.例文帳に追加

本発明はレーザ光を用いて固形化粧料の表面に文字、図形、模様等（加飾模様）の加飾を行うメーキャップ化粧料の製造方法及びメーキャップ化粧料に関し、加飾模様をシャープで鮮明に形成することを課題とする。 - 特許庁

After completing shape forming of the diamond tip mounted on the distal end of the diamond cutting tool such as a diamond cutting tool, an ultrashort pulsed laser beam is cast to the surfaces of the diamond tip in contact with a workpiece so that a finely rugged surface having a periodic structure of 5 nm to 3,000 nm is formed.例文帳に追加

ダイヤモンドバイトなどのダイヤモンド切削工具の先端に取り付けられるダイヤモンドチップの形状成形後にチップの加工物との接触面に超短パルスレーザ光を照射して５ｎｍないし３０００ｎｍの周期構造の微細凹凸面を形成する。 - 特許庁

In this image forming device for reproducing an image on an image carrier by the laser light beam, the frame structure 20 for supporting the laser scanner 5 is fundamentally constituted so that lower parts of front and back frames 21 and 22 obtained by combining square pipes are connected to each other with connection use square pipes 23 and 24.例文帳に追加

レーザ光にて像担持体に画像を再生するための画像形成装置であって、レーザ走査装置５を支持するフレーム構造体２０は、角パイプを組合せた前後フレーム２１，２２の下部を連結用角パイプ２３，２４にて結合した基本構成としている。 - 特許庁

To provide a quantity of light correction method for light emitting elements which can suppress generation of image formation defects such as exposure irregularities regardless of irregularities of characteristics of optical lenses and irregularities of beam shapes of individual light emitting elements, and to provide an image forming apparatus to which the method is applied.例文帳に追加

光学レンズの特性のバラツキや個々の発光素子のビーム形状のバラツキにかかわらず、露光ムラ等の画像形成不良の発生を抑制可能な発光素子の光量補正方法およびこの方法が適用される画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The peripheral base station periodically monitors the control channel information to detect that the high-load base station 100 has been generated, and performs beam-forming transmission toward the high-load base station 100 that has performed the null transmission if it is not in the high load state, thereby covering the service area.例文帳に追加

周辺基地局は、定期的な制御チャネル情報のモニタにより高負荷の基地局１００が発生したことを検知し、高負荷状態にない場合は、ヌル送信した高負荷基地局１００の方向にビームフォーミング送信を行い、サービスエリアをカバーする。 - 特許庁

To cap a layer on a surface of a copper interconnect wiring layer for use in interconnect structures for integrated circuits and to provide a method and apparatus for forming improved integration interconnection structures for integrated circuits by the application of gas-cluster ion-beam processing.例文帳に追加

ガスクラスターイオンビーム処理プロセスの適用により、集積回路の相互接続構造に使用される、銅の相互接続配線層の表面上で、層をキャップ化する、改良された集積相互接続、集積回路の構造を形成する方法ならびに機器である。 - 特許庁

A track processing section 36 produces a predicted track based on the velocities in the bow-stern line direction and in the beam direction at the present time of the vessel inputted from an input data storage section 34, and outputs it to an image forming section 42 via a coordinate data storage section 40.例文帳に追加

航跡処理部３６は、入力データ記憶部３４から入力された船舶の現在時刻における船首尾線方向及び正横方向の速度に基づいて予測航跡を生成し、座標データ記憶部４０を介して画像生成部４２に出力する。 - 特許庁

A negative type or positive type visible light sensitive resin film layer (A), a sheet layer <B) transparent to visible light and an energy beam sensitive film layer (C) containing a visible light absorber are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面にネガ型もしくはポジ型可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、及び可視光線吸収剤を含有する感エネルギー線被膜層（Ｃ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

To provide a marking method for forming a mark on a plastic optical component by which the elimination of the mark caused by heating caused by the irradiation of a laser beam can be prevented, further to provide a manufacturing method of a spectacle lens using the same marking method, and further to provide a plastic lens.例文帳に追加

本発明は、プラスチック光学部品にマークを形成するためのマーキング方法、このマーキング方法を用いた眼鏡レンズの製造方法およびプラスチックレンズに関し、レーザ光を照射した後の加熱によるマークの消失を解消することを目的とする。 - 特許庁

By forming the cutting section 7 B at a point where the section does not overlap the elements, such as the light emitting element 5 B, the lower layer wiring 2, and a transparent electrode 3 B, the accidental exertion of damage to the wiring etc., other than the juncture 6 B can be prevented when the wiring is irradiated with the laser beam.例文帳に追加

切断部７Ｂを発光素子５Ｂ、下層配線２および透明電極３Ｂなどの要素と重ならない箇所に形成することで、レーザー光を照射した際に、接続部６Ｂ以外の配線などに誤ってダメージが加わることを防止する。 - 特許庁

The antenna device is configured so as to obtain the orthogonality between the beams by arranging beams so that peaks of the beams of an identical frequency are overlapped in a null direction of a certain beam, and forming the beams so that the peaks of the two or more beams of the identical frequency coincide with a null point.例文帳に追加

或るビームのヌル方向に同一周波数のビームのピークが重なるようにビームを配置し、同一周波数の２つ以上のビームのピークとヌル点が一致させるようにビームを形成することで、ビーム間の直交性が得るように構成した。 - 特許庁