「D is located」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The building faces C-dori Street (a street going north and south) and is located in the spot which is in the north from the intersection with D-dori Street (a street going east and west). 例文帳に追加

-建物はC通（南北方向の道）に面しており、D通（東西方向の道）との交差点から北に入った地点にある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Each turn 14a is located on the iron core 12 with an almost specified distance(d).例文帳に追加

各ターン14a は、ほぼ所定の間隔ｄを隔てて鉄心12上に位置している。 - 特許庁

The polarizer 21 is located on a pupil surface so that the position D coincides with the center of the pupil surface.例文帳に追加

位置Ｄが瞳面の中心に一致するように、偏光子２１が瞳面に配置される。 - 特許庁

Thus, the projecting guide member 331 is located between the rotating disk D and its adjacent disks D when the disk D is clamped on the turntable 82 to perform rotary driving, and the adjacent disks D are prevented from hitting the rotating disk D.例文帳に追加

よって、ディスクＤがターンテーブル８２にクランプされて回転駆動されるときに、回転駆動中のディスクＤとこれに隣接するディスクＤとの間に突出ガイド部材３３１が位置し、隣接するディスクＤが回転中のディスクＤに当たるのを防止できる。 - 特許庁

The die sleeve 125 is normally lower, so the upper surface of the die D is located lower than a pass line PL and a work is free from rear side flaws.例文帳に追加

ダイスリーブ１２５が常時下降されているので、ダイＤの上面はパスラインＰＬの下方に位置できワークに裏傷が付かない。 - 特許庁

Therefore, when the disc is drawn out, the stopper 46 is located at the position not preventing movement of the disc D.例文帳に追加

よって、ディスクが引き出されるときにはストッパ４６はディスクＤの移動を妨げない位置となる。 - 特許庁

When the seat body 10 is located between a first reference position (B) and a front position (D), the seat body is moved forward by own weight.例文帳に追加

また、座体１０が第１基準位置（Ｂ）から前方位置（Ｄ）までの間に位置するときに、上述したように座体１０は自重で前方に移動する。 - 特許庁

(d) In the event that the landing is permitted in order to transfer to another vessel or aircraft located at another port of entry or departure: within 15 days. 例文帳に追加

ニ　他の出入国港にある他の船舶等への乗換えのため上陸を許可する場合　十五日以内 - 日本法令外国語訳データベースシステム

A parasitic element 4 having meander structures at both ends of a linear structure is located at a position a desired distance D away from the dipole antenna.例文帳に追加

ダイポールアンテナから任意の距離Ｄだけ離れた場所に、線状構造の両端にミアンダ構造を有する無給電素子４が設置される。 - 特許庁

The inner shim plate 10 is provided with the through hole 11 at a radial intermediate part located on the inlet side in the rotating direction of a disc D.例文帳に追加

そして、内側シム板１０には、ディスクＤの回転方向入口側に位置して径方向の中間部に透孔１１を設ける。 - 特許庁

The dot line 13 is obtained by copying a printing dot 14 located at the endmost position of the original printing dot line 11 in the protrusion direction D.例文帳に追加

このドット列１３は、元の印刷ドット列１１のはみ出し方向Ｄ側の最も端に位置する印刷ドット１４をコピーしたものである。 - 特許庁

The D-position is located on one end side of a first path 34, which allows an approximately linear movement of the shift lever 32.例文帳に追加

Ｄポジションは第１の経路３４の一端側に配置され、第１の経路３４はシフトレバー３２のほぼ直線状の移動を許容する。 - 特許庁

Of the plurality of ribs 5, only the rib 5A located on the side of the occupant D seating position is made to be a structure capable of absorbing the side collision as much as possible.例文帳に追加

複数のリブ５のうち、乗員Ｄの着座位置の側方にあるリブ５Ａのみ、側突による衝撃を可及的に吸収する構造とする。 - 特許庁

A joining portion 32, which is located near an upper end of the second casing 30, is tapered so that the width d of a joining surface 34, contacting with the first casing 20, in the thickness direction is smaller than thickness D of a casing wall 38.例文帳に追加

第二筐体３０の上端近傍である接合部３２には、第一筐体２０と接触する接合面３４の厚み方向の幅ｄが、筐体壁面３８の肉厚Ｄより小さくなるように、テーパーが形成されている。 - 特許庁

A roll sheet 20 is contained in a containing section 30 located substantially in the center of gravity and the opening 12 for discharging the roll sheet 20 is located at any one of three apexes C, D, E.例文帳に追加

ロール紙２０は、略重心部のロール紙収納部３０に設けられ、ロール紙２０の排出口１２は、３つの頂点Ｃ、Ｄ、Ｅのうち一つに配置される。 - 特許庁

Since the strength of a reflected electric field is proportional to an absolute value of 1/(Za+Za(d)), the Z1(d) is selected so that three or more modulation symbols are located on an equi-amplitude curve.例文帳に追加

ここで、反射電界の強度は｜１／（Ｚａ＋Ｚｌ（ｄ））｜に比例するので、等振幅曲線上に変調シンボルを３つ以上配置されるようにＺｌ（ｄ）を選ぶ。 - 特許庁

A second free magnetic layer 51 is embedded in a space A, and the thickness t1 of a free magnetic layer 70 at an element center part D is set larger than that t2 of the magnetic layer 70 at side ends C located on the sides of the center part D.例文帳に追加

間隔Ａ内に第２フリー磁性層５１が埋められており、前記素子中央部Ｄのフリー磁性層７０の膜厚ｔ１が、素子両側端部Ｃの膜厚ｔ２よりも厚く形成されている。 - 特許庁

An exterior 40 has an opening part 42 formed in such a way that the display area A1 is located on the inside thereof and has a frame area A2 including a portion located outside the periphery Q2 of the display D.例文帳に追加

外装体４０は、表示領域Ａ1が内側に位置するように形成された開口部４２を有し、表示体Ｄの周縁Ｑ2の外側に位置する部分を含む縁領域Ａ2を有する。 - 特許庁

The distance d_hc between the centers of two heaters located in each ink channel 5 while being spaced apart from each other is set larger than the aperture diameter d_o of the ejection opening 4.例文帳に追加

各インク流路５内に離れて配置されている２つの発熱体の各々の中心間の距離ｄ_ｈｃが、吐出口４の開口径ｄ_ｏよりも大きく設定されている。 - 特許庁

The characteristic rising point of the pulse wave is a point X located at the farthest distance (d) from the straight line L on the pulse wave X in the interval between the time corresponding to the bottom and an inflection point D of the pulse wave.例文帳に追加

そして、ボトムと、脈波の変曲点Ｄに対応する時刻との区間において、直線Ｌとの距離ｄが最も大きい脈波上の点Ｘを脈波の立ち上がり特徴点とする。 - 特許庁

Pads 3 (M1 to M5) located on each layer of the multilayered wiring layer where a semiconductor integrated circuit 2 is provided are reduced in area by areas a, b, c, and d excluding an uppermost layer M5, through a process of subtracting the areas a to d from the area of the uppermost layer M5, respectively.例文帳に追加

半導体集積回路２が設けられた半導体基板上の多層配線層の各層の複数のパッド３（Ｍ１〜Ｍ５）は最上層以外は、最上層のパッドＭ５に対して面積が削減（ａ〜ｄ）されている。 - 特許庁

Accordingly, the side wall surface of the protruded part D' is formed with an inclined part I having a slope from a base part B' located outward from the root of an inner tooth F'to the upper surface of the protruded part D'.例文帳に追加

これにより、凸部Ｄ′の側壁面には、内歯Ｆ′の谷より外側に位置する基部Ｂ′の部位から凸部Ｄ′の天面に向かう傾斜面を有する傾斜部Ｉが形成される。 - 特許庁

(4) A registrant is not required to provide any information regarding its conflict minerals that, prior to January 31, 2013, are located outside of the supply chain, as defined by paragraph (d)(7) of this item.例文帳に追加

(4)登録者は、2013年1月31日以前に本項目のパラグラフ(d)(7)に定義された通りにサプライチェーンの外部にある紛争鉱物に関して、情報を提供することを求められない。 - 経済産業省

The photoelectric conversion device comprises a first electrode, second electrode located opposite to the first electrode, electron transfer layer (substrate) 40 located between the first and second electrodes, photoelectric conversion layer D in contact with the electron transfer layer 40, and hole transfer layer which is located between the electron transfer layer 40 and the second electrode and is in contact with the photoelectric conversion layer D.例文帳に追加

本発明の光電変換素子は、第１の電極と、第１の電極と対向して設置された第２の電極と、これらの間に位置する電子輸送層（基体）４０と、電子輸送層４０と接触する光電変換層Ｄと、電子輸送層４０と第２の電極との間に位置し、光電変換層Ｄに接触する正孔輸送層とを有している。 - 特許庁

In the nozzle device 18, the nozzle coil 22 is disposed outside the tapping nozzle 20 with a positional relation in which the lower end of the nozzle coil 22 is located in a position higher in level by D or more than the lower end of the nozzle 20, wherein D is the tapping opening diameter of the nozzle 20.例文帳に追加

その出湯用電磁ノズル装置１８は、出湯用ノズル２０の出湯口径をＤとして、ノズルコイル２２の下端が出湯用ノズル２０の下端よりもＤ以上の上位置となる位置関係で出湯用ノズル２０の外側に配置しておく。 - 特許庁

The semiconductor thin film 1 is divided into an input-side region S and an output-side region D, and the thickness of the semiconductor thin film 1 located from a boundary 3 between both of them to the output-side region D is at least partially reduced as compared with that of the semiconductor thin film 1 located from the boundary 3 to the input-side region S.例文帳に追加

半導体薄膜１は、入力側領域Ｓと出力側領域Ｄとに分かれており、両者の境界３から入力側領域Ｓにある半導体薄膜１の厚みに比べ、境界３から出力側領域Ｄにある半導体薄膜１の厚みが少なくとも部分的に薄くなっている。 - 特許庁

Digital circuits, such as an A/D converter 7 and a D/A converter 9, are located on an approximately central portion of an IC chip 20, thereby, a join noise and loss resulted on wiring do not occur much even if wiring which is provided from a pad 23 located on a surrounding portion of the IC chip 20 to the digital circuit on the approximately central portion is long.例文帳に追加

ＩＣチップ２０の略中央部にＡ／Ｄ変換器７やＤ／Ａ変換器９などのデジタル回路を配置することにより、ＩＣチップ２０の周辺部に設けられるパッド２３から略中央部に設けられるデジタル回路までの配線長が長くなっても、配線上に生じる結合ノイズや配線上での損失があまり生じないようにする。 - 特許庁

The plurality of coil conductors incorporated in the laminate have nearly the same inductance, and have nearly the same S/d value, where S is an area of each coil conductor when seen from the coil axis direction thereof and d is a distance between internal conductors located at both ends in the coil axis direction of each coil conductor.例文帳に追加

積層体に内蔵された複数のコイル導体のインダクタンスを略等しくし、かつ、コイル導体をコイル軸方向から見た面積をＳ、コイル導体のコイル軸方向の両端に位置する内部導体間の距離をｄとして、Ｓ／ｄの値を略等しくする。 - 特許庁

A communication space for a source terminal S and a destination terminal D is divided into a passive zone PZ and an active zone AZ located at the outer circumference of the passive zone PZ according to the number of hops from an intermediate terminal M located between the terminals.例文帳に追加

ソース端末Ｓとデスティネーション端末Ｄの通信空間を、これら端末の間に位置する中間端末Ｍからのホップ数に従って、パッシブゾーンＰＺと、このパッシブゾーンＰＺの外周のアクティブゾーンＡＺに分割する。 - 特許庁

To provide an information processing system capable of reporting a course to a welcome point and the time required for reaching thereto or the like to a driver D and a user U demanding welcome even when the driver D is located in a site distant from a vehicle C.例文帳に追加

ドライバーＤが車両Ｃから離れたところにいたとしても、ドライバーＤや迎えを要求するユーザーＵに、迎え地点までの経路やそこへ到達するまでに要する時間などを知らせることのできる情報処理システムを提供すること。 - 特許庁

In the piezoelectric element substrate, a discrete wire 68-1 is set to the longest wire a longitudinal direction L and in a lateral direction D, and discrete wires 68 connected to the piezoelectric elements 54 that are located farther from a central line M are made shorter in wire length in both the longitudinal direction L and the lateral direction D.例文帳に追加

個別配線６８−１が長手方向Ｌにおいても短手方向Ｄにおいても、最も長い配線とされ、中央ラインＭから遠くなる圧電素子５４と接続される個別配線６８ほど、長手方向Ｌ、短手方向Ｄの両方向における配線長が短い配線とされている。 - 特許庁

The head gravity center G is located at a position on the head rear side of the reference surface, and at the same time, the gravity center depth D which is a distance between the reference surface and the head gravity center G is from 20 to 30 mm.例文帳に追加

ヘッド重心Ｇが、上記基準平面よりもヘッド後方側に位置するとともに、上記基準平面とヘッド重心Ｇとの距離である重心深度Ｄが２０ｍｍ以上３０ｍｍ以下である。 - 特許庁

When the stepping load is generated by a wheel R, the thickness of the tag 1 is reduced by elastic deformation of the holding part 3, and the RFID communication part 2 is located in a non-communicable region D.例文帳に追加

そして、車輪Ｒにより踏み付け負荷が発生した時に、保持部３の弾性変形によりタグ１の厚みが薄くなると共に、ＲＦＩＤ通信部２を通信不可領域Ｄに位置させる。 - 特許庁

When the system down is generated during the forward traveling in a state that the manual valve 5 is located at the 'D, M' positions as the forward travel range, a high-speed stage is established by the signal pressure of high pressure of the solenoid valve 72.例文帳に追加

マニュアル弁５を前進レンジ位置たる「Ｄ，Ｍ」位置にして前進走行している間にシステムダウンを生じたときは、電磁弁７_2の高圧の信号圧で高速段が確立される。 - 特許庁

The axial motor is characterized in that a core magnetic pole 56, that faces the rotor magnet, is arranged at one end of the core, and the center C of the core magnetic pole is located farther inside of the center D of the core.例文帳に追加

そして、コアの一端にはロータマグネットに対向するコア磁極５６が設けられており、そのコア磁極の中心Ｃがコアの中心Ｄよりも内側に位置することを特徴とする。 - 特許庁

A fluid driving device (D) is so constituted that it drives a rotational shaft (W), the rotational shaft (W) is located at a turning axis (A) of a turnable part (V), and the rotational shaft (W) is connected to the turnable part (V) in a state incapable of being pivoted.例文帳に追加

流体駆動装置（Ｄ）が回転軸（Ｗ）を駆動するようになっており、該回転軸が旋回可能な部分（Ｖ）の旋回軸線（Ａ）に位置していて、旋回可能な部分（Ｖ）に回動不能に結合されている。 - 特許庁

By this, the initiation of the program installed in the PC 100 can be limited to a case when the dongle 200 is located in the domain D in which the dongle 200 inserted in the PC 100 is communicable with the LAN 500.例文帳に追加

このことから、ＰＣ１００にインストールされたプログラムの起動は、ＰＣ１００に挿し込まれたドングル２００がＬＡＮ５００と通信可能な領域Ｄ内に位置する場合に限定できる。 - 特許庁

The disk holder 10 is set such that the center of a hole 11a corresponding to a center hole of the disk D is located at a position shifted slightly to the left from the center of a disk insertion port 31 as viewed from a plane direction.例文帳に追加

ディスクホルダ１０を、ディスクＤのセンターホールに対応する穴１１ａの中心が、平面方向から見て、ディスク挿入口３１の中心から、やや右方にずれた位置となるように設定する。 - 特許庁

In this state, a camera 32 provided on a surface of the case unit is located at a position where distance of a predetermined clearance D is maintained at a front direction of a visual line of the eye of a user.例文帳に追加

この状態では、筐体部表面に設けられたカメラ３２は、使用者の目の視線の先に所定の間隔Ｄの距離を維持した位置に位置付けされる。 - 特許庁

A disc shaped grinding wheel 14 which is disposed in such a way as to be directed to the direction parallel with the rotational direction D of a work 24 at a contact point with the work 24 while being located at a position off-set from the rotation center C of the work 24, is rotated.例文帳に追加

ワーク24との接触点においてワーク24の回転方向Ｄに平行な方向を向き、かつ、ワーク24の回転中心Ｃからオフセットした位置に置いた円盤状の砥石14を、回転させる。 - 特許庁

The second gap 22 is composed with a base 221 located nearer the q axis than the first permanent magnet 17 is, and a gap extension part 222 that extends from the base 221 to the side of the d axis.例文帳に追加

第２空隙２２は、第１永久磁石１７よりｑ軸側の基部２２１と、基部２２１からｄ軸側へ延びる空隙延長部２２２とから構成されている。 - 特許庁

The case is provided with both a D size battery connecting means 14 for connecting electrodes of the size D batteries 6 to a body side electrode springs 13 located outside the battery case 4 at loading of the size D batteries 6, and a size AA battery connecting means 16 for connecting electrodes of the size AA batteries 5 to the body side electrode springs 13 at loading of the size AA batteries 5.例文帳に追加

単一電池６の装填時には単一電池６の電極を電池ケース４外部に位置する本体側電極バネ１３に接続する単一電池用接続手段１４を備え、単三電池５の装填時には単三電池５の電極を上記本体側電極バネ１３に接続する単三電池用接続手段１６を備えた構造である。 - 特許庁

The die D is located on the semiconductor layer and comprises at least an inner area positioned as a circuit area C, and an outer area positioned as a scribe line area SL.例文帳に追加

ダイＤは、半導体層上に位置し、さらに回路領域Ｃとして配置された少なくとも内部領域、及びスクライブライン領域ＳＬとして配置された外部領域を含む。 - 特許庁

Lowest seal positions s1, s2 of the seal members 18, 20 liable to the collision of backflow oil is located lower than an upper end position d of a weir bank portion 122.例文帳に追加

逆流オイルの衝突を受けやすいシール部材１８，２０の最下部のシール位置ｓ１，ｓ２が堰堤部１２２の上端位置ｄよりも下にされている。 - 特許庁

The thickness (D) of the ring (5) in an area (13) located axially between the first projections (7 to 10) is 5% to 9% of the wall thickness of the hose (1).例文帳に追加

第１の突起（７−１０）の間の軸方向に位置する領域（１３）のリング（５）の厚さ（Ｄ）は、ホース（１）の壁の厚さの５％から９％である。 - 特許庁