「DRESSER」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

This polishing device 4 has a polishing surface plate 8, polishing cloth 7 mounted on the polishing surface plate 8 to polish a wafer 17, a dresser 9 for dressing the surface of the polishing cloth 7 and an inclined angle measuring means 10 for measuring an inclined angle of the surface of the polishing cloth 7.例文帳に追加

研磨装置４は、研磨定盤８と、研磨定盤８に取り付けられてウェハ１７を研磨する研磨布７と、研磨布７の表面をドレッシングするドレッサ９と、研磨布７の表面の傾斜角を測定する傾斜角測定手段１０とを有する。 - 特許庁

The polishing apparatus comprises a polishing pad 9, a wafer holder 23 which polishes a wafer W with the wafer W slidably brought into contact with the polishing pad 9, and a dresser 33 which dresses the polishing pad 9 so as to increase the actual contact area between the polishing pad 9 and the wafer W.例文帳に追加

本発明の研磨装置は、研磨パッド９と、基板Ｗを研磨パッド９に摺接させて該基板Ｗを研磨する基板保持部２３と、基板Ｗと研磨パッド９との真実接触面積が大きくなるように研磨パッド９をドレッシングするドレッサー３３とを備えた。 - 特許庁

To provide a hair curling device having a simple operation, taking not so much time, allowing any perming beautician or hair dresser, irrelevant to the experience, gender, age and the like, to uniformly finish the curling without any individual difference and curling the hair like naturally curly hair as necessary.例文帳に追加

操作が簡単で時間をとらず、また、パーマをかける美容師あるいは理容師の経験、性別、年令等を問わず、如何なる人であっても、個人差のない一様な仕上がりができ、さらにまた、必要に応じ、自然のクセ毛のようなカールを付与することができるヘアーカール器を提供する。 - 特許庁

In this case, dressing of the grinding pad is carried out by pressurizing a pad dresser 60 on the grinding pad 50, making washing liquid into fog particles of 1μm-500μm in particle diameter and jetting the washing liquid particles toward the grinding pad from a nozzle 14 at a speed of 10m/sec-500m/sec.例文帳に追加

研磨パッドにパッドドレッサー６０を押圧して研磨パッドのドレッシングを行うとともに、洗浄液を液滴粒径が１μｍ以上５００μｍ以下の霧粒にして１０ｍ／秒以上５００ｍ／秒以下の速度でノズル１４より研磨パッドに向けて噴出させて研磨パッドのドレッシングを行う。 - 特許庁

The dresser 33 is provided with a flange part 35 relatively movable up and down to the polishing surface 10, a plurality of dressing members 34 to dress the polishing surface 10, and a holding mechanism 36 to hold the dressing member 34 to be relatively movable up and down to the flange part 35.例文帳に追加

ドレッサー３３は、研磨面１０に対して相対的に上下動可能なフランジ部３５と、研磨面１０のドレッシングを行う複数のドレッシング部材３４と、ドレッシング部材３４をフランジ部３５に対して相対的に上下動可能に保持する保持機構３６とを備えた。 - 特許庁

By an arm entering port 41a for entering a gun arm opened on a chip catching case 41 covering a dresser body 1a, and a compressed air blown from an air nozzle 42 disposed on both sides of the arm entering port, an air curtain is formed to prevent the splashing outward of a chip generated in shaping.例文帳に追加

ドレッサ本体１１ａを覆う切粉捕捉ケース４１に開口されているガンアームを進入させるアーム進入口４１ａを、その両側に配設したエアーノズル４２から吹き出す圧縮エアーによってエアカーテンを生成し、整形時に発生する切粉の外部への飛散を防止する。 - 特許庁

To provide a high-hardness, electrically conductive polycrystalline diamond that has sufficient strength, hardness, heat resistance and oxidation resistance for use as a cutting bit, a tool such as a dresser and a die or a drill bit, is highly pure and enables electrical discharge machining at a low cost, and a method for producing the same.例文帳に追加

切削バイトや、ドレッサー、ダイスなどの工具や、掘削ビットとして適用できる、十分な強度、硬度、耐熱性、耐酸化性を有し、高純度で、かつ、低コストの放電加工が可能な、高硬度で導電性のあるダイヤモンド多結晶体及びその製造方法の提供。 - 特許庁

While rotating the rotary dresser 12 by this device 10, it is vibrated by ultrasonic waves in the direction C vertical to a rotary shaft of itself, and impact caused by ultrasonic vibration is given to a rotary grinding wheel 20 arranged in the direction C to perform dressing while crushing binding agent of abrasive grains of the rotary grinding wheel 20.例文帳に追加

この装置１０により、ロータリドレッサ１２を回転させつつ、自身の回転軸に垂直な方向Ｃに超音波振動させ、超音波振動による衝撃を、この方向Ｃに配された回転砥石２０に対して与え、回転砥石２０の砥粒の結合剤を破砕しながらドレッシングする。 - 特許庁

Switching mechanisms 19 for disposing the guide rails 13 so as to be switchable between an operating position to guide the workpiece W between the grinding surfaces 11a of the rotary grinding wheels 11, and a retracted position free from interference with an operating region of the dresser 16 of the dressing mechanism 15 are disposed at both ends of the guide rails 13, respectively.例文帳に追加

案内レール１３の両端部には、その案内レール１３を、両回転砥石１１の研削面１１ａ間にワークＷを案内する作用位置と、ドレッシング機構１５のドレッサ１６の作動領域と干渉しない退避位置とに切り換え配置するための切換機構１９を設ける。 - 特許庁

The relationship of the motor current average value of a surface plate in the course of dressing in the operating limit of the polishing cloth depending on the accumulated total of the operating time of the dresser is previously found, and when the current value falls below the boundary line, the operating time is determined to exceed the limit, and the replacement timing of the polishing cloth is decided.例文帳に追加

ドレッサの累計使用時間に応じた、研磨クロスの限界使用時におけるドレッシング中の定盤モータのモータ電流平均値の関係を予め求めておき、電流値が境界線を下回ったら使用限界を超えたと判断して研磨クロスの交換タイミングとする。 - 特許庁

The method for regenerating the used slurry includes a step of selectively separating and removing a polishing slurry component consisting of abrasives, a solvent, and an additive from a foreign substance component such as a liquid, a polishing object, a pad, and a dresser, which are mixed by the polishing operation and not intrinsically contained in the polishing slurry.例文帳に追加

砥粒、溶媒、添加剤にて構成されている研磨用スラリー成分と、研磨をすることにより研磨用スラリーに元来入っていなかった、液体、研磨対象物、パッド、ドレッサーなどの異物成分とを、選択的に分離除去する工程とを具備する方法。 - 特許庁

To provide a dresser and its quality control method whereby the variation of individuals is reduced and the increase of their life-time is realized with respect to the dressers used in a CMP process, to provide a CMP apparatus having the improved stability and repeatability of its polishing characteristic, and further, to provide a highly accurate and excellent semiconductor device and its manufacturing technique using the CMP apparatus.例文帳に追加

ＣＭＰ工程で使用されるドレッサにおいて、個体ばらつきを低減させ、長寿命化を実現するドレッサとその品質管理方法、また、研磨特性の安定性、再現性を向上させるＣＭＰ装置、さらに、ＣＭＰ装置を用いた高精度、高品位な半導体装置及びその製造技術を提供する。 - 特許庁

Pressure fluid introduced from the upper end part of the pressure fluid feed passage of the dresser body 11 is supplied in the second space part 15 from the first space part 13 through a through-hole 17, whereby the diamonds 18c arranged at each of the vertical movement members 18 is forced into slide contact with the polishing surface of the polishing pad 2 with a uniform pressure.例文帳に追加

ドレッサー本体１１の加圧流体供給路１９の上端部から導入される加圧流体は第１の空間部１３から貫通孔１７を通って第２の空間部１５に供給されるので、各上下動部材１８に設けられたダイヤモンド１８ｃは均一な圧力で研磨パッド２の研磨面と摺接する。 - 特許庁

In the dressing step, to a dresser for dressing a pad on which a polished surface of a base plate abuts to chemically and mechanically polish the base pate, dressing control is carried out about each position on the pad surface according to positions in the pad surface and pad surface state information about a surface state of the pad of each position.例文帳に追加

ドレスステップでは、基板の被研磨面が押し当てられて前記基板の化学的機械的研磨を行うパッドをドレッシングするドレッサに対し、前記パッド面内での位置と、当該位置毎の前記パッドの表面状態に関するパッド表面状態情報と、に基づいて、前記パッド面の位置毎に、ドレス制御を行う。 - 特許庁

To certainly prevent dropping off of abrasive grains and to align a projected height of the abrasive grains by more strongly gripping the abrasive grains such as diamond by more uniform force, thereby to inhibit dispersion of CMP process performance in the case where they are used, for example, as a dresser additionally provided on the CMP device.例文帳に追加

ダイヤモンド等の砥粒をより均一な力でより強固にグリップして砥粒の脱落を確実に防止するとともに、砥粒の突出高さを揃え、これによって、例えばＣＭＰ装置に付設したドレッサとして使用した場合に、ＣＭＰプロセス性能のばらつきを抑えることができるようにする。 - 特許庁

To provide a dresser for a pad-attached surface of an upper surface plate of a double-face polishing device capable of eliminating foreign matter such as fixed material and rust adhered to a pad-attached surface of the surface plate and capable of maintaining surface roughness of the pad-attached surface at the same time in good balance without changing flatness of the pad-attached surface.例文帳に追加

定盤のパッド貼着面に固着した凝縮物や錆びなどの異物の除去と、該パッド貼着面の表面粗さの維持とを、該パッド貼着面の平坦度を変化させることなく同時にかつバランス良く行うことができる、両面研磨装置における上定盤のパッド貼着面用のドレッサを得る。 - 特許庁

This dresser has a triangular hollow polishing surface, wherein an envelope surface (p) of an outer peripheral surface of a grinding wheel 11 is formed in a triangle shape, and recess portions 12 for passing a polishing liquid are provided at positions corresponding to vertices of the triangle and contacts with an inscribed circle (q) of the envelope surface of a grinding wheel inner peripheral surface.例文帳に追加

砥石１１の外側周面の包絡面ｐがなす形状が三角形に設けられており、研磨液通過用の凹部１２がその三角形の頂点に相当する部位および砥石内周面の包絡面の内接円ｑとの接点に設けられている、中空の三角形状の研磨面を有するドレッサである。 - 特許庁

The dresser for the abrasive cloth is provided wherein a plurality of abrasive grains are fixed in a single layer, onto the surface of a resin supporting material, a metal layer exists between the resin supporting material and the abrasive grains, and the surface of the metal layer on the side contacting the resin supporting material, has irregularities.例文帳に追加

樹脂製支持材の表面に複数個の砥粒が単層に固着された研磨布用ドレッサーであって、前記樹脂製支持材と前記砥粒との間には金属層が存在し、前記樹脂製支持材に接する側の前記金属層の表面は凹凸部を有することを特徴とする研磨布用ドレッサーを提供する。 - 特許庁

On the top face of a vacuum work table 11, a core metal blank 1a with a flange constituting a core metal 1 of the diamond rotary dresser is loaded with the flange part 1b beneath through an O ring 13, and a mother die 10 with a diamond layer formed in the previous process is fitted with the core metal port at the center and loaded on the top face of the flange 1b.例文帳に追加

真空作業台１１の上面に、ダイヤモンドロータリードレッサの芯金１を構成するフランジ付き芯金ブランク１ａを、そのフランジ部１ｂを下にしてＯリング１３を介して載置し、その芯金部分を中心に、前工程で形成されたダイヤモンド層付き母型１０を嵌め、そのフランジ１ｂ上面に載置する。 - 特許庁

The polishing device comprises a polishing table 12 to which a polishing pad 10 having a polishing face 10a is stuck, a motor 30 driving the polishing table, a holding mechanism 14 holding a substrate W having a polished object and pressing the substrate against the polishing face 10a, a dresser 20 dressing the polishing face, and a monitoring unit 53 monitoring removal amount of the polished object.例文帳に追加

本発明の研磨装置は、研磨面１０ａを有する研磨パッド１０が貼付される研磨テーブル１２と、研磨テーブルを駆動するモータ３０と、被研磨物を有する基板Ｗを保持し、基板を研磨面１０ａへ押圧する保持機構１４と、研磨面の目立てを行うドレッサー２０と、被研磨物の研磨量を監視するモニタリング装置５３とを備える。 - 特許庁

To provide a dresser and dressing method for an internal gear type grinding wheel, enabling to reduce time and labor for dressing work by eliminating or simplifying the adjustment of the position of a dressing axial center relative to the center axis of the internal gear type grinding wheel when dressing the addendum face of the internal gear type grinding wheel and dressing the tooth face thereof.例文帳に追加

内歯車型砥石の歯先面のドレッシングと歯面のドレッシングとで内歯車型砥石の中心軸に対するドレス軸中心の位置の調整を不要もしくは簡略化することができて、ドレッシング作業に要する時間や労力の軽減を図ることが可能な内歯車型砥石用ドレッサーおよびドレッシング方法を提供する。 - 特許庁

A semiconductor substrate 3 is placed on the upper surface of a disc-like semiconductor substrate holder table 4, with an annular bank 40 at its outer circumferential edge in a substrate holder mechanism with dresser, and a turning cup wheel-type grinding stone 50 is lowered to the rotating semiconductor substrate 3 so as to notch and grind it.例文帳に追加

ドレッサ付基盤ホルダー機構の円盤状半導体基板ホルダーテーブル４上面の外周縁部に環状堤４０を設けた円盤状半導体基板ホルダーテーブル上面に半導体基板３を載置し、回転している前記半導体基板３面に回転しているカップホイール型砥石５０を下降させながら切り込み研削をかける。 - 特許庁

A cylindrical grinder 1 is equipped with a rotary dresser 21 rotating around an axis parallel to a horizontal axis direction of a workpiece w chucked by a headstock 2 and a tailstock 3 on the right side facing the tailstock, and includes a whetstone forming mechanism having a coarse single-stone diamond edge 22 and a fine single-stone diamond edge 23 toward a whetstone base 10.例文帳に追加

主軸台２と心押台３によりチャックされたワ−クｗの水平軸方向に平行な軸回りに回転するロ−タリ−ドレッサ２１を心押台に対向する右側に設け、粗単石ダイヤモンド刃２２と精単石ダイヤモンド刃２３を砥石台１０側に向けて備える砥石成形機構を備える円筒研削装置１。 - 特許庁

This polishing device 1 is configured to set a gain value and a dress time of a polishing pad 13 in a dress position control of a dresser 30 according to a dress rate by a polishing control section 60 in an adjust process before start of a series of polishing processes for polishing a plurality of semiconductor wafers W successively by a polishing tool 10.例文帳に追加

本発明に係る研磨装置１は、研磨工具１０により複数の半導体ウェハＷを連続的に研磨する一連の研磨工程を開始する前のアジャスト工程において、研磨制御部６０により、ドレッサ３０のドレスポジション制御におけるゲイン値および研磨パッド１３のドレス時間をドレスレートに応じて設定するようになっている。 - 特許庁