| 意味 | 例文 |
In the application processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 742件
When the lubricant 110 is applied by a lubricant application roller 113 to a photoreceptor 102 used in an electrophotographic process, the applied amount of the lubricant 110 to the photoreceptor 102 by the lubricant application roller 113 is made variable and excess application of the lubricant 110 to the photoreceptor 102 is prevented.例文帳に追加
電子写真プロセスで用いられる感光体102に対して潤滑剤塗布ローラ113によって潤滑剤110を塗布するに際して、潤滑剤塗布ローラ113による感光体102への潤滑剤110の塗布量を可変し、感光体102に対する潤滑剤110の過剰な塗布を防止する。 - 特許庁
In the update process of the application software, a client side computer 14, by downloading only a function module that has been updated (update) in the application software 18 of new version from a server 12, does not download a function module that has not been updated.例文帳に追加
アプリケーションソフトの更新過程において、クライアント側コンピュータ14では新バージョンのアプリケーションソフト18における更新(アップデート)されたファンクションモジュールのみをサーバ12からダウンロードすることにより、更新されていないファンクションモジュールをダウンロードしない。 - 特許庁
Though the specimen molecules not ionized in an ionization chamber 11 or the molecules once ionized but neutralized in process of transportation are mixed in the particle flow, such molecules are ionized under the application of ultraviolet light.例文帳に追加
粒子流にはイオン化室11内でイオン化されなかった試料分子や一旦イオンになったものの輸送途中で中性化された分子が混じっているが、こうした分子は紫外光の照射を受けてイオン化する。 - 特許庁
In a process step (5), the substrate is left standing in a vacuum atmosphere, without the application of plasma for removing moisture adsorbed to the substrate, by setting the time after the plasma cleaning, until the start of air opening (moisture-removing step).例文帳に追加
(5)の工程でプラズマクリーニング後、大気開放を開始するまでの時間を設定することで基板をプラズマ印加しない状態で真空雰囲気に放置して基板吸着水分を除去する(水分除去工程)。 - 特許庁
By producing the interruption state at an early stage to some extent in the process in which the generated current becomes larger, application of a large load to the power source 152 can be prevented while inhibiting the welding of a contact of the relays 200.例文帳に追加
発電電流が大きくなる過程におけるある程度早い段階で遮断状態を実現して、継電器200の接点の溶着を防止しつつ、電源152に大きな負荷が掛からないようにできる。 - 特許庁
An attribute on whether copying of the file is prohibited is recorded in a file attribute storing means, and the identification number of the file used by the process of an application program is recorded in a file use managing table.例文帳に追加
ファイルの複製が禁止されているか否かの属性をファイル属性格納手段に記録し、アプリケーションプログラムのプロセスにより利用された前記ファイルの識別番号を、ファイル利用管理テーブルに記録する。 - 特許庁
In the case of applications relating to microorganisms, the product obtainable by means of a claimed process shall be described as well as the process itself in the relevant application, and a strain of the microorganism shall be deposited with an institution authorized for the purpose, as provided by regulation. 例文帳に追加
微生物に係る出願の場合は,工程自体と共に,クレームの工程により取得できる製品を,当該出願において説明しなければならず,微生物の菌株(a strain of the microorganism)を規則の定により当該目的のために授権された機関に寄託しなければならない。 - 特許庁
(6) In the application of the provisions of paragraph (5), if the essence of the invention having the patented process as a subject-matter refers to a use of a product for a certain purpose, the extent of the patent protection is limited to the use for the mentioned purpose.例文帳に追加
(6) (5)の規定の適用上,特許方法を主題とする発明の主要部が一定の目的での物の使用に関するものである場合は,特許保護の範囲は当該目的での使用に限定される。 - 特許庁
In a process of sticking the nanowire solution 2 to the surface of the substrate 6, before the nanowire solution 2 reaches the substrate 6, the field is impressed to the nanowire solution 2 by the field application means 5 to orientate the nanowire 2a.例文帳に追加
ナノワイヤ溶液2を基板6の表面に付着させる過程において、ナノワイヤ溶液2が基板6に到達する前に、電界印加手段5によりナノワイヤ溶液2に電界を印加してナノワイヤ2aを配向させる。 - 特許庁
When a diffraction grating 12 is formed on a glass substrate 11, this manufacturing method has a process for filling and embedding a sol-gel method application solution or an organic metal decomposition method application solution in slots 12a of the diffraction grating 12.例文帳に追加
ガラス基板11に回折格子12を形成する際、回折格子12の溝12a内に、ゾルゲル法塗布液または有機金属分解法塗布液を充填して埋める工程を有する。 - 特許庁
The system and the method for accessing a data base in relation to the process control system transmit a request to information from a client application to an intermediate data server and determine whether or not the information is stored in a data source related to the intermediate data server process.例文帳に追加
プロセス制御システムに関連するデータベースをアクセスするシステム及び方法は、クラアントアプリケーションからの情報に対する要求を中間データサーバに送り、その情報がその中間データサーバプロセスに関連するデータソース内に格納されているかを決定する。 - 特許庁
In other hand, when the application number is inputted from a user terminal 3 of customer A, and display demand of the process information is requested, the managing part 20 searches the information responding to the application number and a web interface 40 displays the information on the user terminal 3.例文帳に追加
一方、顧客A社のユーザ端末3から申込番号が入力されてプロセス情報の表示要求があると、プロセス情報管理部20が当該申込番号に対応するプロセス情報を検索し、ウェブインタフェース40がユーザ端末3に表示させる。 - 特許庁
Then, the voltage is applied to the voltage application position arranged identically to Process S2 to make flow current into the test piece, and potential difference actual measurement data is obtained by measuring the difference in potentials for the plurality of combinations with the cracks of the potential difference measurement position placed therebetween for the potential difference measurement position arranged identically to Process S2 (Process S4).例文帳に追加
その後、工程S2と同一に配置された電圧印加位置に電圧を印加して試験体に電流を流し、工程S2と同一に配置された電位差測定位置に対して、その電位差測定位置のき裂を挟んだ複数の組み合わせについての電位の差を測定して電位差実測データを求める(工程S4)。 - 特許庁
The server 3 is provided with a web page storing a service application including: a process for displaying a menu in a display of the mobile phone 5; a process, in which a user selects data based on the displayed menu and directly inputs sentences; or a process for screening the input data on the non-contact reading device 8.例文帳に追加
サーバ3には、携帯電話機5のディスプレイに、メニューを表示する手順、利用者が表示されたメニューに従ってデータを選択したり、直接文章入力する手順、あるいは入力したデータを非接触読取り装置8にかざす手順を含んだサービスアプリケーションを格納するウェブページが設けられている。 - 特許庁
A conductive material implantation method of this application is a method for implanting a conductive material in a concavity part 22 formed on the surface in a process for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
本願に係る導電材の埋め込み方法は、半導体装置の製造過程において表面に形成される凹部22に導電材を埋め込む方法に関する。 - 特許庁
When there are deficiencies in IT application controls, their impact and likelihood of causing misstatements should also be assessed, as is the case with deficiencies in process-level controls. 例文帳に追加
ITに係る業務処理統制に不備がある場合には、業務プロセスに係る内部統制に不備がある場合と同様に、その影響度と発生可能性の評価を行う。 - 金融庁
To solve complexity and inconvenience in a wire connection process to the outside of a body of a structure in 'High-functioned stator device' of China Patent Application number 01115584.1.例文帳に追加
中国特許出願第01115584.1号“高機能の固定子装置”の構造の本体の外部に対するワイヤ接続工程の複雑さと不便さを解消する。 - 特許庁
Whether the examination claim of each application is required or not is investigated by simply using data (current data of the extraction date) in the DB 102a and the investigated result of the application and errors detected/corrected in the investigation process are also simply stored in the DB 102a.例文帳に追加
そして、以後はもっぱら審査請求DB102a内のデータ(上記抽出日現在のデータ)を使用して、個々の出願につき審査請求を要するか否かが検討され、その検討結果および検討の過程で発見・修正されたエラーももっぱら審査請求DB102aに蓄積される。 - 特許庁
Where a third party proceeded, in Egypt, in good faith, with the making of a product or use of a process or made serious preparations for such activities prior to the date of an application for patent by another person for the same product or process. 例文帳に追加
エジプトにおいて、善意の第三者による物の製造若しくは方法の使用又はその重要な準備が、他の者による当該物又は方法と同一の物又は方法についての特許出願日前又は当該から行われている場合。 - 特許庁
To easily obtain glass particles in each of which a metal particle is included in advance so as to avoid the mixing process in an application where glass particles and a metal powder or the like are mixed and used.例文帳に追加
ガラス粉末と金属粉末などとを混合して使用する用途における混合工程を無くし、予めガラス粒子に金属粒子を内包したガラス粒子を容易に得ることができるようにする。 - 特許庁
To provide a means for improving the efficiency of manufacture in a resist application process while preventing re-adhesion of droplets of resist in accordance with a rotating operation of a substrate onto the substrate in a spin coater.例文帳に追加
スピンコータにおける基板の回転運動に伴うレジストの飛沫の基板上への再付着を防止しながら、レジスト塗布工程における製造効率を向上させる手段を提供する。 - 特許庁
Also, each learner can simultaneously enjoy a service, and the educational application for making it easy for parents and school administrators to get involved in the educational process (210) can be prepared in this system.例文帳に追加
また、このシステムによって、各学習者は同時にサービスを受け、また、教育過程への親と学校管理者の関与(210)が容易となる教育アプリケーションを作成することができる。 - 特許庁
First, the nanoparticles 106 are added into a resin material and after the resin material is applied onto the optical film 102 by a wet process coating application system, the resin material is baked to volatilize the solvent in the resin.例文帳に追加
先ず、ナノ粒子106を樹脂材料中へ加え、湿式塗布方式によりこの樹脂材料を光学フィルム102上へ塗布してからベーキングし、樹脂材料中の溶剤を揮発させる。 - 特許庁
The frame processing means 6 forms a frame for storing data of the application on a display screen and executes a predetermined process using the data stored in the frame.例文帳に追加
フレーム処理手段6は、アプリケーションのデータを格納するフレームを表示画面上に作成し、且つこのフレーム内に格納されたデータを用いて所定の処理を行うものである。 - 特許庁
Specifically, the synchronous processing is prevented from being seen from the programmer by classing the application, task, and light process and concealing the control and synchronous processing in a previously prepared task class.例文帳に追加
具体的には、アプリケーション、タスク、軽量プロセスをクラス化し、あらかじめ用意されたタスククラスに制御および同期処理を隠蔽することで、プログラマからは同期処理が見えないようにした。 - 特許庁
In the preparation process, the ratio between the solid component and water is set to a range 1.0≤ water/solid component ≤10, to prepare the electrode slurry with viscosity suitable for application.例文帳に追加
調製工程において、固形分と水との比率(重量比)を、1.0≦水/固形分≦10の範囲とすることにより、塗布に適した粘度の電極用スラリーを調製することができる。 - 特許庁
This document is a basic introduction to using the Java Persistence API in a web application and demonstrates how the development process using the JavaTM Platform, Enterprise Edition 5 ("Java EE 5") technology simplifies the development of Java applications.例文帳に追加
このドキュメントは、Web アプリケーションで Java Persistence API を使用する基本的な入門書で、Java[tm] Platform Enterprise Edition 5 (「Java EE 5」) テクノロジを使用する開発プロセスで、どのように Java アプリケーションの開発が簡略化されるかを示します。 - NetBeans
In the processing method provided with a process of applying a developer to the photosensitive material having at least one photosensitive layer on a supporting body, an application amount of the developer is temporarily increased compared to a set application amount.例文帳に追加
支持体上に少なくとも1層の感光層を有する感光材料に現像液を塗布する工程を有する処理方法において、現像液の塗布量を設定塗布量に対して一時的に増大させることを特徴とする。 - 特許庁
The receiver side application 8 writes a plurality of the received main signals S1 to a memory 34 and reads the main signals S1 having already been received in the preceding frame and processes them when the receiver side application 8 cannot process the main signals S1 because of deviation in the reception timing between the frame synchronizing signal S2 and the main signal S1.例文帳に追加
受信側アプリケ−ション8は受信した複数個の主信号S1をメモリ34に書込み、フレ−ム同期信号S2と主信号S1の受信タイミングのずれで主信号S1の処理ができない場合、前のフレームで既に受信された主信号S1をメモリ34から読出し処理する。 - 特許庁
A second mold mask having projection-like projecting parts is used, parts other than parts corresponding to via holes are hardened by being irradiated with UV light, thereafter the via holes are formed in a developing/baking process S23, and the photosensitive silver paste in an upper layer is connected to the conductor pattern through the via holes in an upper-layer application process S24.例文帳に追加
突起状の凸部を有する第2のモールドマスクを用い、UV光を照射してビアホールに対応する部分以外を硬化させた後、現像焼成過程S23でビアホールを形成し、上層塗布過程S24で上層の感光性銀ペーストをビアホールを介して導体パターンに接続する。 - 特許庁
In other words, the output duty is converted to the output current in response to the electric source voltage value and the resistance value of the current route and estimated as an estimation current rightly by the application of an anneal (smoothening) process in response to the inductance of the coil of the torque motor 19.例文帳に追加
即ち、出力DUTYが電源電圧値と電流経路の抵抗値とに応じて出力電流に変換され、トルクモータ19のコイルのインダクタンスに応じたなまし(平滑化)処理が施され推定電流として正しく推定される。 - 特許庁
To obtain a liquid crystal display device which provides a uniform and excellent display by getting rid of cavitation in the liquid crystal cell generated in a liquid crystal injection process and in electric field application and perfectly filling the liquid crystal in it.例文帳に追加
液晶注入工程中および電界印加時に生じる、液晶セル内のキャビテーションを無くし、液晶を完全充填させ、均一で良好な表示を行う液晶表示素子を提供する。 - 特許庁
To simplify operation process and to reduce application cost in the case that an uncured resin is applied on a pipe line formed by connecting large sized pipe to a small sized pipe.例文帳に追加
大径管と小径管とを接続してある配管に未硬化樹脂を塗布する場合に、作業工程を簡略化でき、施工コストの低減を図り易くする。 - 特許庁
Various models can be separately made by mounting the decorative sheets 12 in a final production process, producing flexible application to changes of production models.例文帳に追加
また、生産の最後の工程で化粧シート12を取り付けると様々な機種に作り分けが可能で、生産機種の変更に柔軟に対応できる。 - 特許庁
Such a process can determine whether the alternative frequency supports a subsequent communication path in a mobile broadband wireless application.例文帳に追加
このようなプロセスは、モバイルブロードバンド無線アプリケーションにおいて、代替周波数がその後の通信経路をサポートするかどうかを決定することを可能にする。 - 特許庁
A central processing part 13 controls an internal process such as external control for each input and output interface, power supply management, etc., in accordance with a command of the installed application software.例文帳に追加
中央処理部13は各入出力インタフェースの外部制御及び電源管理等の内部処理を搭載アプリケーションソフトの命令に従い制御する。 - 特許庁
An application station for use in a process control system includes a redundancy manager and a redundancy link subsystem coupled to the redundancy manager.例文帳に追加
プロセス制御システムにおいて利用されるアプリケーションステーションは、冗長マネージャと、前記冗長マネージャに結合された冗長リンクサブシステムとを備えている。 - 特許庁
Accordingly, even if substrate constituents are melted and scattered by the application of heat when in the laser irradiation, since they do not adhere to the component side 11, there is no unfavorable influence on the packaging of an electronic part 31 in the post-process.例文帳に追加
したがって、レーザ照射時の加熱によって基板成分が溶けて飛散しても、それが実装面11に付着することないので、後工程における電子部品31の実装に悪影響を与えない。 - 特許庁
A shaping process S3 for expanding the wound body B between bead cores C and C to bond the same to a tread ring D is included and the expansion of the wound body B in the shaping process S3 is performed by the application of low inner pressure of 100 kPa or less and the pressurization due to the expansion of an expand drum 3 of which the diameter can be expanded and contracted.例文帳に追加
ビードコアC、C間において巻回体Bを膨出させトレッドリングDに貼着するシェーピング工程S3を含み、このシェーピング工程S3における巻回体Bの膨出は、100kPa以下の低内圧の付加と、拡縮径可能なエキスパンドドラム3の拡径による押圧とによって行う。 - 特許庁
Cooperating persons who operate the business process server computing application in cooperation are enabled to more easily and efficiently update configuration information about one or a plurality of components of the business process server computing application in response to a change of business custom between the cooperating persons by a communication/expansion tool of the configuration management and the configuration information to be operated in the distributed computing environment.例文帳に追加
分散コンピューティング環境で動作する構成管理および構成情報の通信/展開ツールにより、協働してビジネスプロセスサーバコンピューティングアプリケーションを動作させる協働者が、協働者間のビジネス慣行の変化に応答してビジネスプロセスサーバコンピューティングアプリケーションの1つまたは複数のコンポーネントの構成情報をより容易に、かつ効率的に更新することが可能になる。 - 特許庁
Patent Law section 37(iv) provides for unity of application between a specified invention pertaining to a "process" and related inventions pertaining to "machines, instruments, equipment or other things" directly used in working of the invention of the process." 例文帳に追加
特許法第37条第4号の関係とは、「方法の発明」である特定発明に対して関連発明が「その方法の発明の実施に直接使用する機械、器具、装置その他の物」に該当する関係をいう。 - 特許庁
A computerized model of the unwrapped cycle analyzes the computerized model as a constrained optimization problem to define an optimized schedule of process event times and defines a plurality of intermediate process event time schedules in an incremental application.例文帳に追加
展開サイクルのコンピュータ化モデルは、プロセス・イベント時点の最適スケジュールを決定するために、コンピュータ化モデルを制約最適化問題として分析し、プロセス・イベント時点の複数の順次中間スケジュールを決定する - 特許庁
The Patent Office shall start to process the international application in its capacity as the designated Office or the elected Office after having received, within the time limits prescribed in the Treaty, a request for starting the processing, a copy of the international application, unless the copy has been provided by the International Bureau, as well as its translation into the Polish language and the payment of the national fee.例文帳に追加
特許庁は,条約に定められた期限内に処理の開始請求,国際出願の写し(写しが国際事務局によって提供されていない場合)及びそのポーランド語翻訳文並びに国内手数料の納付を受領した後に,指定官庁又は選択官庁としての資格で国際出願の処理を開始する。 - 特許庁
The device for generating active oxygen species includes: a plurality of cathodes 2 and a plurality of anodes 3 that are connected to a voltage application means 6; and an oxygen species generation vessel 1 in which process water 5 is stored to immerse the cathodes 2 and the anodes 3 in the process water 5.例文帳に追加
本活性酸素種生成装置は、電圧印加手段6に接続された複数の陰極2及び複数の陽極3と、処理水5が溜められ、陰極2及び陽極3が処理水5に浸された活性酸素種生成槽1とを備える。 - 特許庁
To provide a manufacturing process of a film with metal films on the both sides by which a film with metal films having different functions on the both sides and having an excellent versatility in application is manufactured in a simple and easy way, and a film with metal films on the both sides manufactured by the manufacturing process.例文帳に追加
異なる機能を有する金属膜を有し、用途選択性に優れた両面金属膜付きフィルムを簡便に作製しうる両面金属膜付きフィルムの製造方法、及び該製造方法により得られた両面金属膜付きフィルムを提供すること。 - 特許庁
The color irregularity in the scanning direction is reduced by treating image data through a distribution process with the use of a distribution pattern of a 'diagonal arrangement' so that an ink application order of dots arranged in a raster direction becomes mutually different in secondary colors.例文帳に追加
二次色において、ラスタ方向に並ぶドットのインクの付与順序を互いに異なるように「対角並び配置」の振りまきパターンを用いて画像データに振りまき処理を施して、走査方向の色むらを軽減する。 - 特許庁
To provide a composition stabilizing a hydrophilic active ingredient unstable in an oxidative medium, showing a good feeling on application, not showing any irritation after the application, adapting to the limitation of an industrial apparatus in its production process and especially usable in the cosmetic field.例文帳に追加
酸化性媒体中で不安定である親水性活性剤が安定化され、適用したときに心地よく、適用後に皮膚に刺激をもたらさず、その製造プロセスの工業的装置の制約に適合するような、化粧品分野で特に用いることができる組成物の提供。 - 特許庁
To provide a network device management system and control method therefor, in which the operation of a client application is simplified and the traffics of inter-process communication can be reduced.例文帳に追加
クライアントアプリケーションの動作を簡単にするとともに、プロセス間通信のトラフィックを小さくすることができるネットワークデバイス管理システム及びその制御方法を提供する。 - 特許庁
To protect a memory cell from the application of a high voltage due to the charging of a word line even in a process after accumulating conductive layers for word line formation.例文帳に追加
ワード線形成用の導電層を堆積した後の工程においても、ワード線の帯電による高電圧の印加からメモリセルを保護することができるようにする。 - 特許庁
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