「Interlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(87ページ目) - Weblio英語例文検索

The first contact plug 8 is formed penetrating the first interlayer dielectric 7 in the thickness direction thereof, is electrically-connected with a source-drain region 5 at the bottom face thereof, and has a first electric resistivity.例文帳に追加

第一のコンタクトプラグ８は、第一の層間絶縁膜７の膜厚方向に貫通して形成され、下面においてソース・ドレイン領域５と電気的に接続され、第一の電気抵抗率を有する。 - 特許庁

A lower part opening 309 and an upper part opening 310 are formed, a lower electrode 311 of a capacitor, a capacitance insulating film 312, and an upper part electrode 313 are formed in the opening of the interlayer film.例文帳に追加

層間膜の中に下部開口部３０９及び上部開口部３１０が形成され、開口部にキャパシタの下部電極３１１、容量絶縁膜３１２、及び上部電極３１３が形成されている。 - 特許庁

To provide a multi-layer film which can be steam-sterilized and shows excellent interlayer adhesive properties, gas barrier properties and transparency as well as excellent handleability in terms of packaging container, and to provide a packaging container obtained using the multi-layer film.例文帳に追加

蒸気滅菌が可能で、層間接着性、ガスバリア性及び透明性に優れ、包装容器としてのハンドリング性が優れた多層フィルムと、該多層フィルムを用いて得られる包装容器。 - 特許庁

To provide a method for efficiently separating laminated glass into an interlayer and glass constituting the laminated glass, e.g. for recovering the glass part of the laminated glass and to provide a separation apparatus for applying the method.例文帳に追加

例えば、合せガラスのガラス部分を回収するなどの目的のため、合せガラスを構成する中間膜とガラスとを効率的に分離する方法及びこの方法を実施し得る分離装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pavement structure in which an anti-icing effect or the like can be displayed stably for a prolonged term by preventing interlayer exfoliation between an asphalt concrete matrix and a surface treating layer containing rubber grains.例文帳に追加

母体アスファルトコンクリートとゴム粒子を含む表面処理層との間の層間剥離を防止して、長期間に亘って安定して氷結防止効果等を発揮し得る舗装構造を提供する。 - 特許庁

To provide a light emitting device having a structure preventing deterioration of a light emitting element due to water and oxygen contained in an interlayer dielectric formed between a TFT and the light emitting element.例文帳に追加

ＴＦＴと発光素子の間に形成される層間絶縁膜に含まれる水や酸素により発光素子が劣化するのを防ぐ構造を有する発光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To efficiently perform the optimization of process conditions such as a wiring process and a gate process in a short period of time by performing the dielectric constant evaluation of an interlayer film with high precision in the middle of a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

半導体製造工程途中で高精度に層間膜の誘電率評価を行うことにより、配線工程やゲート工程などのプロセス条件の最適化を効率よく短期間で行う。 - 特許庁

To provide a transfer foil for an in-mold having a transparent hologram of high design property reduced in interlayer separation, whitening and a crack, even in a solid injection molding, and the solid molded article using the same.例文帳に追加

射出立体成形品であっても、層間剥離、白化、割れが少ない意匠性の高い透明ホログラムを有するインモールド用転写箔、及びそれを用いた立体成形品を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electronic device in which a photoresist can be cured even when a low dielectric constant interlayer insulating film is patterned, to provide a method for manufacturing an electronic device in which an energy beam absorbing material is actualized, and to provide an energy beam absorbing material.例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜をパターニングする場合であっても、フォトレジストにキュア処理を行うことが可能な電子デバイスの製造方法及びエネルギー線吸収材料を実現する。 - 特許庁

A plurality of wiring layers is laminated that are composed of an interlayer insulation film 405 and interconnect 407 made of copper, a solder resist layer 408 is formed at an uppermost layer, and a multi-layer wiring structure is constituted.例文帳に追加

層間絶縁膜４０５および銅からなる配線４０７からなる配線層が複数層積層し、最上層にソルダーレジスト層４０８を形成し、多層配線構造体を構成する。 - 特許庁

An interconnect line 11a being connected with the gate electrode 7 and an interconnect line 11b being connected with the active region 13 and becoming a dummy interconnect line are formed simultaneously on the underlying interlayer insulating film 10.例文帳に追加

次に、下地層間絶縁膜１０に、ゲート電極７に接続される配線１１ａと、ダミー配線となり、且つ、活性領域１３に接続される配線１１ｂとを同時に形成する。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition providing a molded article or an interlayer insulation film excellent in closely bonding strength with Cu-plating, excellent in working speed, and also equipped with a high linear expansion coefficient.例文帳に追加

本発明は、Ｃｕメッキとの密着強度に優れ、動作速度に優れ、かつ高い線膨張率を備えた、成形体や層間絶縁膜を提供できる熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a prepreg for heat- and pressure-molding, which can provide, when applied to an interlayer adhesive layer in multilayering of a printed wiring board, an insulating layer having satisfactory circuit filling properties and heat conductivity.例文帳に追加

プリント配線板を多層化する場合の層間接着層に使用すると、回路埋め性が良好で、かつ、熱伝導性の良い絶縁層が得られる加熱加圧成形用プリプレグを提供する。 - 特許庁

To provide a lamination wiring board which makes filing of a via hole easy when an interlayer connection structure, wherein the thickness of an insulation layer is relatively large, is formed and enables high density pattern formation.例文帳に追加

絶縁層の厚さが比較的大きい層間接続構造を形成する際のビアホールの充填を容易にし，高密度なパターン形成ができる積層配線板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can prevent the deterioration of an interlayer insulation film of a semiconductor device as well as the deterioration of a metallic film forming wiring, a plug or the like and has high reliability.例文帳に追加

半導体装置の層間絶縁膜の劣化を抑制するとともに、配線やプラグ等を構成する金属膜の劣化を抑制し、高い信頼性を有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

In the memory cell of a DRAM of the semiconductor storage device, a bit line 21a connected to a bit line plug 20b and a partial wiring 21b are provided on the first interlayer insulating film 18.例文帳に追加

半導体記憶装置であるＤＲＡＭのメモリセルにおいて、第１層間絶縁膜１８の上には、ビット線プラグ２０ｂに接続されるビット線２１ａと、局所配線２１ｂとが設けられている。 - 特許庁

To provide a laminated glass enabling to provide an appropriate acoustic preventing performance for each portion of the laminated glass according to the positional relationship between the laminated glass and a passenger, and employing an interlayer having functionality.例文帳に追加

合わせガラスと搭乗者との位置関係によって、合わせガラスの部位毎に適切な遮音性能の提供を可能にし、かつ、中間膜に機能性の中間膜を用いた合わせガラスを提供すること。 - 特許庁

To provide a multilayered film showing excellent transparency and interlayer adhesive properties regardless of whatever may be a polymer constituting each layer, and a multilayered film manufacturing method and a packaging material using the multilayered film.例文帳に追加

各層を構成するポリマーの如何に拘らず透明性及び層間の接着性に優れる多層フィルム、この多層フィルムの製造方法及びこの多層フィルムを用いた包装材料を提供する。 - 特許庁

The sheet which is used as each layer of the electronic component when the stacked electronic component is formed has constitution which includes an internal circuit electrode and an interlayer connection post inside.例文帳に追加

積層型の電子部品を形成する際に用いられる電子部品の各層として用いられるシートについて、その内部に内部回路電極と層間接続ポストとを包含する構成とする。 - 特許庁

The interlayer insulating layer 40 is used for electrically separating the non-volatile memory transistor from a conductive layer 30 formed at the upper section of the semiconductor layer 10, and includes a layer 42 containing a nitride.例文帳に追加

層間絶縁層４０は、不揮発性メモリトランジスタと、半導体層１０の上方に形成された導電層３０とを電気的に分離するための絶縁層であり、窒化物を含む層４２を含む。 - 特許庁

The semiconductor device is provided with a semiconductor substrate 10, a patterned layer 100 formed on the main surface of the semiconductor substrate 10, and an interlayer insulating film 110 formed on the patterned layer 100.例文帳に追加

半導体装置は、半導体基板１０と、半導体基板１０の主表面上に形成されるパターン層１００と、パターン層１００上に設けられる層間絶縁膜１１０とを備える。 - 特許庁

Data lines 24 and the scanning lines 20 are covered with the common electrodes 27 via an interlayer dielectric 26 and only one common electrode wiring 21 is formed on one side of the scanning lines 20.例文帳に追加

データ線２４及び走査線２０は層間絶縁膜２６を介して共通電極２７に覆われており、共通電極配線２１は走査線２０の片側に一本のみ形成されている。 - 特許庁

When using this polishing composite material, an interlayer insulating film or a circuit pattern for constituting a semiconductor base board and an electronic device is accurately and highly efficiently worked.例文帳に追加

また、本発明の研磨用複合材を使用すれば、半導体基板や電子デバイスを構成する層間絶縁膜あるいは回路パターン等を精度良く、しかも高能率に加工することが可能となる。 - 特許庁

To provide a system for extracting element groups capable of performing clustering on a multilayered element group graph while taking information about both interlayer edges and edges within edges into consideration.例文帳に追加

マルチレイヤー構造を有する要素集合グラフに対して、レイヤー間エッジとレイヤー内エッジの両方の情報を考慮したクラスタリングを行うことが可能な要素集団抽出システムを提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer flexible printed wiring board exhibiting high connection reliability, and interlayer connection exhibiting excellent productivity optimal for scaling down of wiring layer, and to provide its production process.例文帳に追加

本発明は、接続信頼性の高い、配線層の微細化に最適な、生産性に優れる層間接続を有する多層フレキシブルプリント配線板及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To prevent display failures due to a lateral electric field occurring between pixel electrodes in a liquid crystal device having a flattened interlayer insulating film and to make a high-quality image display possible.例文帳に追加

平坦化処理された層間絶縁膜を有する液晶装置において、画素電極間で生じる横電界による表示不良の発生を防止し、高品質の画像表示を可能にする。 - 特許庁

Then residues 7 of an interlayer film 5, second metal film 6, etc., adhering to the surfaces of the marks 4 are removed surely, by etching the surfaces of the marks 40.例文帳に追加

そしてそのアライメントマーク４０の表面にエッチング処理を施すことにより、その表面に付着していた層間膜５や第２の金属膜６などの残渣７を確実に除去することができる。 - 特許庁

A dummy gate electrode 4 and an interlayer insulating film 8a are formed on a silicon substrate 1, and the dummy gate electrode 4 is selectively etched and eliminated for a specific thickness for forming a first groove section 9.例文帳に追加

シリコン基板１上にダミーゲート電極４と層間絶縁膜８ａを形成し、ダミーゲート電極４を所定の厚さ分だけ選択的にエッチング除去し第１の溝部９を形成する。 - 特許庁

In the nozzle plate, a titanium film 4 as an interlayer is formed on the ink ejection surface 10 of a nozzle plate substrate 1 and the water repellent film is formed of a coating fluorine-based water repellent agent 5 on the titanium film 4.例文帳に追加

ノズルプレート基材１のインク吐出面１０上には、中間膜としてのチタン膜４が形成され、このチタン膜４上に、フッ素系塗布型撥水剤５から撥水膜が形成されている。 - 特許庁

A W plug 22 is formed in a contact hole penetrating an etching protective film 11 and the first interlayer insulating film 12 on a cobalt silicide film 10 on the source/drain region 6 of the transistor for logic.例文帳に追加

ロジック用トランジスタのソース・ドレイン領域６上のコバルトシリサイド膜１０上には、エッチング保護膜１１及び第１の層間絶縁膜１２を貫通するコンタクトホール内にＷプラグ２２が形成されている。 - 特許庁

An electrode pad 2, composed of Al is formed on a P-type semiconductor substrate 1, and a MOS transistor 4 is formed on the semiconductor substrate 1 directly below the electrode pad 2 via an interlayer insulating film 3.例文帳に追加

Ｐ型半導体基板１上にＡｌから成る電極パッド２が形成され、電極パッド２の直下の半導体基板１上に層間絶縁膜３を介してＭＯＳトランジスタ４が形成されている。 - 特許庁

To provide a polyester film which is intended for use as an interlayer for laminated glass and is excellent in adhesion to polyvinyl butyral used in the laminated glass in a normal usage environment of the laminated glass laminated via a polyester film.例文帳に追加

ポリエステルフィルムを介した合わせガラスが通常使用される環境において、合わせガラスに用いられるポリビニルブチラールとの密着性に優れた合わせガラス中間膜用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To suppress cracks caused in an interlayer insulating film composed of a low dielectric film between wirings in an inspection using a probe needle at a high temperature in a semiconductor device having an electrode pad.例文帳に追加

電極パッドを有する半導体装置における高温でのプローブ針を用いた検査において、配線間の低誘電率膜からなる層間絶縁膜に生じるクラックを抑制することを可能にする。 - 特許庁

The laminated glass 1 has a first and a second laminated glass constituent member 21, 22, and an interlayer of a monolayer or multilayer interposed between the first and the second laminated glass constituent member 21, 22.例文帳に追加

本発明に係る合わせガラス１は、第１，第２の合わせガラス構成部材２１，２２と、該第１，第２の合わせガラス構成部材２１，２２の間に挟み込まれた単層又は多層の中間膜とを備える。 - 特許庁

An internal electrode 26 is formed on the through-hole electrode on the first main surface, and an interlayer insulating film 13 is formed on the internal electrode 26 and on the first main surface.例文帳に追加

半導体基板１０の第１の主面の貫通電極上に内部電極２６が形成され、内部電極２６上及び第１の主面上に層間絶縁膜１３が形成されている。 - 特許庁

Further, removal of the rust-proof processing layer 17 corresponding to an interlayer connection hole 33 with a plating preprocessing prior to desmearing processing after laser processing or to the formation of the copper plating 31 can be facilitated.例文帳に追加

なお、層間接続孔３３に対応する部位の防錆処理層１７の除去は、レーザ加工後のデスミア処理または銅めっき３１の形成に先だってのめっき前処理で容易に行うことができる。 - 特許庁

A photoelectric conversion apparatus includes: a photoelectric conversion element and a MOS transistor disposed on a semiconductor substrate; and a multilayer wiring structure, and also has a first interlayer insulation film disposed on the semiconductor substrate.例文帳に追加

光電変換装置は、半導体基板に配された光電変換素子およびＭＯＳトランジスタと、多層配線構造と、を有し、半導体基板上に配された第１の層間絶縁膜を有する。 - 特許庁

The interlayer 12 contains 40-80 wt.% of a polystyrene resin, 15-40 wt.% of a polypropylene resin and 5-20 wt.% of styrene elastomer.例文帳に追加

また、中間層１２は、ポリスチレン系樹脂を４０ｗｔ％から８０ｗｔ％、ポリプロピレン系樹脂を１５ｗｔ％から４０ｗｔ％、スチレン系エラストマーを５ｗｔ％から２０ｗｔ％含有する。 - 特許庁

To provide a polyvinyl acetal sheet which maintains the transparency and the penetration resistance as a laminated glass and has improved adhesion with polyester film, and an interlayer film for laminated glass and a laminated glass.例文帳に追加

合わせガラスとしての透明性や耐貫通性を維持しつつ、ポリエステルフィルムとの接着性を向上させたポリビニルアセタールシートおよび合わせガラス用中間膜ならびに合わせガラスを提供する。 - 特許庁

An antireflection film 102 is formed on the third interlayer insulating film 103 and the first etching stopper film 107, and the top of the antireflection film 102 is coated with a chemically amplified resist 101 (c).例文帳に追加

第三層間絶縁膜１０３および第一エッチングストッパ膜１０７上に反射防止膜１０２を形成し、反射防止膜１０２上に化学増幅型レジスト１０１を塗布する（図１（ｃ））。 - 特許庁

To form an amorphous silicon film having uniform thickness of 20 nm or less on a base layer formed on a semiconductor substrate, so as to effectively eliminate voids formed in an interlayer insulation film.例文帳に追加

半導体基板上に形成された下地層上に、２０ｎｍ以下で、且つ、一様な厚みを有するアモルファスシリコン膜を形成し、層間絶縁膜中に形成されたボイドを効果的に消滅させる。 - 特許庁

The filler to be added to a resin comprises an organic hydrotalcite-like compound prepared by the ion exchange between ions of an interlayer of a hydrotalcite-like compound and an organic reagent having ion-exchange properties and adsorption properties.例文帳に追加

ハイドロタルサイト様化合物の中間層のイオンとイオン交換・吸着性を有する有機試薬とをイオン交換することにより形成した有機化ハイドロタルサイト様化合物からなる樹脂添加用フィラー。 - 特許庁

The porous interlayer dielectric film 1 is deposited by a plasma CVD method using a mixed material gas containing the cyclic siloxane and an organic compound containing at least one oxygen atom.例文帳に追加

なお、この多孔質層間絶縁膜１は、環状シロキサンと、少なくとも１つの酸素原子を含む有機化合物と、を含む混合原料ガスを用いたプラズマＣＶＤ法により成膜している。 - 特許庁

The composition for forming an interlayer film for a semiconductor device includes (A) a silicon-contained polymeric compound having a repeated, unit which contains a carbon-carbon triple bond and -Si-, and (B) an organic solvent.例文帳に追加

（Ａ）炭素−炭素三重結合および−Ｓｉ−を含む繰り返し単位を有する含ケイ素高分子化合物と（Ｂ）有機溶媒を含むことを特徴とする半導体装置用層間膜形成用組成物。 - 特許庁

To achieve excellent reliability and a high production yield using a fluorine-containing silicon oxide film as an interlayer dielectric film, relating to a semiconductor device having a multilayer interconnection structure.例文帳に追加

本発明は多層配線構造を有する半導体装置に関し、フッ素含有シリコン酸化膜を層間絶縁膜として用いつつ、優れた信頼性と、高い歩留まりとを実現することを目的とする。 - 特許庁