「Interlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(86ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide the manufacturing method of a multilayered flexible printed board having an interlayer connection between wiring layers that is of high reliability, is suitable for ultra fine processing of the wiring layers, and is excellent in productivity.例文帳に追加

接続信頼性が高く、配線層の微細化に最適な、生産性に優れる配線層間の層間接続を有する多層フレキシブルプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In an active matrix panel, a step is provided just below the seal material 168, and the oozing of the seal material is suppressed by forming two layers of interlayer insulating films 158 and 160 separately and removing one of the layers.例文帳に追加

アクティブマトリクスパネルにおいて、層間絶縁膜１５８、１６０を２層にわけて形成し一層を除去することで、シール材１６８の直下に段差を設け、シール材のしみだしをおさえる。 - 特許庁

To provide a method for recovering and reducing relative dielectric constant of an interlayer insulating film which has been deteriorated and raised, being influenced by preceding etching, ashing or the like treatment, with a comparatively simplified arrangement.例文帳に追加

先行するエッチング、アッシング処理等の影響で劣化上昇した層間絶縁膜の比誘電率を比較的簡易な構成で回復低下させる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To prevent increase of resistance caused by plasma application in a method of fabricating a liquid crystal display device, in which a transparent conductive film is patterned on an interlayer insulating film having at least an organic insulating film.例文帳に追加

少なくとも有機絶縁膜を有する層間絶縁膜上に透明導電膜をパターン形成する液晶表示装置の製造方法において、プラズマ処理による抵抗増大を防止する。 - 特許庁

To provide a method for inhibiting the putrefaction of a composition compounded with starch, capable of especially inhibiting the putrefaction of the alkaline composition compounded with the starch, such as a coating liquid for paper or an interlayer adhesive, which are used in paper-making and paper- processing industries.例文帳に追加

デンプン配合組成物、特に製紙産業、紙加工産業における紙用塗工液、層間接着剤等のアルカリ性デンプン配合組成物の腐敗抑制方法を提供する。 - 特許庁

A first conductive pattern 161 and a second conductive pattern 162 electrically connected to the first contact plug 151 and the second contact plug 152 respectively are disposed on the interlayer insulating film 130.例文帳に追加

第１コンタクトプラグ１５１及び第２コンタクトプラグ１５２とそれぞれ電気的に連結される第１導電パターン１６１及び第２導電パターン１６２が層間絶縁膜上１３０に配置される。 - 特許庁

A group of through holes 112 including a plurality of through holes 102, and an isolated through hole 114 that is not surrounded by other through holes 102, are formed on an interlayer insulating film 110 made of SiOC, or the like.例文帳に追加

ＳｉＯＣ等により構成された層間絶縁膜１１０には、複数のスルーホール１０２を含むスルーホール群１１２と、他のスルーホール１０２に囲まれていない孤立スルーホール１１４が形成されている。 - 特許庁

To manufacture a multilayered wiring board having a high interlayer connection reliability by fabricating a circuit board by a method which prevents the attachment of foreign matters to projecting end faces of projecting conductors and then by stacking a plurality of such circuit boards.例文帳に追加

突出導体の突端面に異物が付着しない方法で回路基板を製造し、複数枚の回路基板を積層して、層間接続の信頼性が高い多層配線板を製造する。 - 特許庁

In this etching, the silicon nitride film 86 is caused to work as an etching stopper in the etching treatment, as a kind or a condition that a selection ratio can be ensured in an interlayer insulating film for the silicon nitride film.例文帳に追加

このエッチングは、シリコン窒化膜に対する層間絶縁膜の選択比が確保されるような種類・条件として、当該エッチング処理においてシリコン窒化膜８６をエッチングストッパとして機能させる。 - 特許庁

TFTs 40, 43 are formed on a substrate 31, and in a state where they are covered an interlayer insulating film 44 not containing a hydroxyl group in a film constituting at least a lowermost layer is formed.例文帳に追加

基板３１上にＴＦＴ４０、４３を形成し、これらを覆う状態で少なくとも最下層を構成する膜中に水酸基が含有されない層間絶縁膜４０を形成する。 - 特許庁

To provide a capacitor built-in wiring board that can prevent performance deterioration and can improve reliability by connecting a capacitor to a rear-surface-side interlayer insulation layer reliably.例文帳に追加

性能低下を防止することができ、かつ、コンデンサと裏面側層間絶縁層とを確実に接続することにより信頼性を向上させることができるコンデンサ内蔵配線基板を提供する。 - 特許庁

Further, a bit line 14, a first wiring 15 in the same layer as the bit line 14 and neighbored to the bit line 14, and a first interlayer insulating film 18, are formed between the bit line 14 and the first wiring 15.例文帳に追加

また、ビット線１４、ビット線１４と同層でビット線１４に隣接する第１の配線１５、ビット線１４と第１の配線１５との間に第１の層間絶縁膜１８が形成されている。 - 特許庁

To solve the problem of unevenness of photosensitivity in a light receiving surface as the interlayer film at the periphery of a light receiving part becomes thicker, in a photodetector in which a circuit with a wiring formed therein is formed to adjoin the light receiving part.例文帳に追加

配線が形成される回路部が受光部に隣接して形成される光検出器において、受光部の周縁部の層間膜が厚くなり、受光面内での光感度が不均一となる。 - 特許庁

Cu wiring 100 formed at a groove 10a with a barrier metal layer 2 on a surface while being provided on an interlayer insulation film 10 formed on a semiconductor substrate 10 is composed by a Cu alloy 1 containing at least one of Ag, As, Bi, P, Sb, Si, and Ti.例文帳に追加

半導体基板０上に形成された層間絶縁膜１０に設けられ、表面にバリアメタル層２が形成された溝１０ａにＣｕ配線１００が形成されてなる。 - 特許庁

The interlayer insulating film comprises contact holes 121-130 reaching active regions 101, 102, 103, and 104 as well as contact holes 131 and 132 reaching the gate electrode 162 and 163.例文帳に追加

層間絶縁膜は、活性領域１０１、１０２、１０３および１０４に達するコンタクトホール１２１〜１３０と、ゲート電極１６２および１６３に達するコンタクトホール１３１および１３２とを有する。 - 特許庁

Bending columns 3 which receive horizontal shearing forces resulting from interlayer deformations are vertically continuously provided on each floor and an earthquake-control damper which is actuated upon receiving the horizontal shearing forces is provided on each of the bending columns.例文帳に追加

層間変形による水平せん断力を受ける曲げ柱３を上下方向に連続せしめて各階に設け、それら曲げ柱に水平せん断力を受けた際に作動する制震ダンパーを設ける。 - 特許庁

To provide a method for forming a coating film superior in low dielectric property, crack resistance and adhesion property with a substrate as an interlayer insulating film, in a semiconductor device or the like and to provide an insulating film by using the above method.例文帳に追加

半導体素子などにおける層間絶縁膜として、低誘電性、クラック耐性、基板との密着性に優れた塗膜形成方法およびそれを用いた絶縁膜を提供すること。 - 特許庁

To secure uniformity in ITO dry etching in a method of fabricating a liquid crystal display device, wherein an electrically conductive transparent film is pattern-formed on an interlayer insulating film comprised of at least an electrically insulating organic film.例文帳に追加

少なくとも有機絶縁膜を有する層間絶縁膜上に透明導電膜をパターン形成する液晶表示装置の製造方法において、ＩＴＯドライエッチング時の均一性を確保する。 - 特許庁

To provide a rotor of a rotating electric machine having high reliability and high efficiency, capable of preventing an interlayer insulating material from being peeled due to mechanical stress caused by thermal expansion/shrinkage of a field winding.例文帳に追加

界磁巻線の熱膨張・収縮などに起因する機械的なストレスによって層間絶縁材が剥離することがなく、信頼性が高く効率の良好な回転電機の回転子を提供する。 - 特許庁

To provide a motor insulation-monitoring system for detecting occurrence of interlayer short-circuiting or the like in the winding of a motor before reaching the large-scale burning of the winding.例文帳に追加

電動機の巻線における層間短絡等の発生の際、この状態を、巻線の大規模焼損に至る前に検出することができる電動機絶縁監視システムを提供することである。 - 特許庁

Following to a step (S1) for forming a first interlayer film and making contact holes, a first metallization for inspection mask is formed (S8) and leak current test or function test is conducted by inline test using a probe (S7).例文帳に追加

第１層間膜形成及びコンタクトホール形成工程（Ｓ１）後に、検査用マスクの第１金属配線を形成（Ｓ８）し、プローブを用いたインライン検査（Ｓ７）によりリーク電流検査や機能検査を行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method capable of suppressing the increase of contact resistance, the reduction of yield, and the reduction of reliability even when a SiOC film is used as an interlayer insulating film.例文帳に追加

ＳｉＯＣ膜を層間絶縁膜として用いた場合でも、コンタクト抵抗の上昇、歩留りの低下及び信頼性の低下を抑制することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an insulation film and a structure capable of suppressing the increase of the dielectric constant of an interlayer insulation film accompanying change of Si-CnH2n+1 combination to Si-OH combination in the film.例文帳に追加

膜中のＳｉ−Ｃ_nＨ_2n+1結合がＳｉ−ＯＨ結合へと変化することに伴う層間絶縁膜の誘電率の上昇を抑制し得る、絶縁膜の形成方法及び構造を得る。 - 特許庁

To provide a releasable lid material with a hot water drain hole, without paper peeling-off phenomena of the surface sheet and interlayer releasing at an easily releasable layer in a lid material for instant foods with a hot water drain hole.例文帳に追加

湯切り口付即席食品用蓋材において、易剥離層での剥離が表面シートの紙むけ現象がなく、かつ層間剥離のない湯切り口付剥離性蓋材の提供にある。 - 特許庁

To provide an optical head device and an optical information-reproducing device which can suppress crosstalks between layers, corresponding to the interlayer spacing between information layers for an optical recording medium, including a plurality of the information layers.例文帳に追加

複数の情報層を含む光記録媒体に対し、情報層間の層間隔に応じた層間クロストークの抑制が可能な光ヘッド装置及び光情報再生装置を提供する。 - 特許庁

Next, each connective hole 107 reaching each lower-layer wiring 102 is formed in the second interlayer insulating film 105 and the insulating barrier film 103, and each wiring groove 108 reaching each connective hole 107 is formed.例文帳に追加

次に、第２の層間絶縁膜１０５及び絶縁性バリア膜１０３に下層配線１０２に達する接続孔１０７を形成し、接続孔１０７に達する配線溝１０８を形成する。 - 特許庁

The cross electrode 36 is connected to electrode wirings 37a and 37b located below through a through-hole provided to an interlayer insulating film 35 of polyimide resin, so that a cross wiring consisting of the wirings 37a and 37c and an electrode wiring 37b can be realized.例文帳に追加

ポリイミド系樹脂からなる層間絶縁膜３５のスルーホールを介して交差電極が下の電極配線３７ａ、３７ｃと接続して、電極配線３７ｂとの交差配線を可能とする。 - 特許庁

To easily and quickly repair a short-circuited part at the occurrence of intralayer or interlayer short circuit in various wirings such as auxiliary wiring, and signal, scan and power lines.例文帳に追加

補助配線、信号線、走査線、又は電源線等の各種の配線において、同層間のショートや異層間のショートが発生した際に、そのショート部分を簡単かつ迅速に修復できるようにする。 - 特許庁

The adhesive layer 24 is formed to prevent interfacial delamination between the memory layer 25 and the interlayer insulating film 20, but the adhesive layer 24 is not formed on the upper surface of the plug 23 (lower electrode).例文帳に追加

接着層２４は、記憶層２５と層間絶縁膜２０との界面剥離を防止するために設けられているが、プラグ２３（下部電極）の上面には、接着層２４が設けられていない。 - 特許庁

To obtain a resin composition which is excellent in flexibility and resistances to soldering heat, heat degradation, and nonelectrolytic gold plating, can be developed with an organic solvent or a dilute alkali solution, and is suitable for a solder resist and an interlayer insulation layer.例文帳に追加

可撓性、半田耐熱性、耐熱劣化性、無電解金メッキ耐性に優れ、有機溶剤、希アルカリ溶液で現像ができ、ソルダーレジスト用、層間絶縁層用に適する樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To obtain a composition for forming a film, as a material for the interlayer insulating film in semiconductor devices, which can make a coating film that has low dielectric property and excels in crack resistance, elastic modulus of film, and adhesiveness to a substrate.例文帳に追加

半導体素子などにおける層間絶縁膜材料として、低誘電性、クラック耐性、塗膜弾性率、基板との密着性に優れた塗膜が形成可能な膜形成用組成物を得る。 - 特許庁

Inside a connection hole 16 formed on an interlayer insulation film 12 on a lower layer wiring layer 11, the barrier layer of high-melting point metal and the contact plug 17 of the high-melting point metal through the barrier layer are embedded.例文帳に追加

下層配線層１１上の層間絶縁膜１２に形成された接続穴１６の内部に、高融点金属のバリア層と該バリヤ層を介して高融点金属のコンタクトプラグ１７を埋設する。 - 特許庁

To alleviate a deflection of an interlayer insulating film caused by an external force (load or the like) when a semiconductor integrated circuit device is mounted (at bonding) so as to protect a protective film against fissures caused by the deflection of the insulating film.例文帳に追加

半導体集積回路装置の実装時（ボンディング時）にかかる外力（荷重等）により生じる層間絶縁膜の撓みを軽減させることで、その撓みに起因した保護膜の亀裂を抑制する。 - 特許庁

Thus, the generation of the peeling of the intermediate film 3 and the inorganic glass plates 2, the clouding of the interlayer or the like in an exposure procedure can be suppressed with a simple constitution without damaging the appearance.例文帳に追加

従って、外観を損ねることなく、かつ、簡単な構成で、露出施工において、中間膜３と無機ガラス板２との剥離や、中間膜の白濁等の発生を抑制することができる。 - 特許庁

The ferromagnetic interlayer 28 magnetically integrates the lower layer 25a and the upper layer 25b, and also restricts an electronic path shifting in the lamination 20 to enhance a rate of resistance change.例文帳に追加

強磁性層間層２８は、下層２５ａおよび上層２５ｂを磁気的に一体にすると共に、積層体２０中を移動する電子の通路を制限して抵抗変化率を向上させるようになっている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the same, wherein when using polysilazane for forming interlayer dielectrics onto groove-like regions with narrow width, a silicon oxide film can be efficiently reformed.例文帳に追加

幅の狭い溝状領域への層間絶縁膜の形成にポリシラザンを用いた場合のシリコン酸化膜への改質が良好に行われる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, the clay mineral preferably has a polar group and an alkyl chain, and an interlayer distance of the clay mineral before dispersed in the surface layer is preferably 0.9 nm or more and 1.4 nm or less.例文帳に追加

また、粘土鉱物が極性基およびアルキル鎖を有することが好ましく、表面層に分散前の粘土鉱物の層間距離が０．９ｎｍ以上１．４ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

To prevent an electrode material of an upper electrode formed on a BPSG insulating film from diffusing in the BPSG insulating film when the BPSG insulating film is used as an interlayer insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜としてＢＰＳＧ絶縁膜を用いる場合に、ＢＰＳＧ絶縁膜上に形成される上部電極の電極材料がＢＰＳＧ絶縁膜に拡散することを抑制する。 - 特許庁

To reduce total capacitance between wirings by forming a semiconductor device, using a fluorine added carbon film (CF film) as an interlayer insulating film while using a boron nitride film(BN film) as a hard mask.例文帳に追加

層間絶縁膜としてフッ素添加カ−ボン膜（ＣＦ膜）を用いた半導体装置を、ハ−ドマスクとして窒化ホウ素膜（ＢＮ膜）を用いて形成することによりト−タルの線間容量を小さくすること。 - 特許庁

Further, after a contact hole 18 is formed by etching an interlayer insulation layer 14, the surfaces of the lower electrode layers are also smoothed again by the plasma projections to eliminate their damages caused by the etching.例文帳に追加

さらに、層間絶縁層１４をエッチングしてコンタクトホール１８を形成した後にも、下部電極層表面のエッチングによる損傷を解消するため、プラズマ照射により表面を再度平滑化する。 - 特許庁

A copper wiring layer 114 serving as the top layer of a seal ring 110 is formed in an interlayer insulating film 109 on a silicon substrate 101, and an aluminum wiring layer 141 is formed for covering the top of the copper wiring layer 114.例文帳に追加

シリコン基板１０１上の層間絶縁膜１０９に、シールリング１１０の最上層となる銅の配線層１１４を形成し、その上面を覆うアルミ配線層１４１を形成する。 - 特許庁

To provide techniques which separate transistor characteristics and characteristics of wiring load in a wiring system with high precision and evaluate characteristics of interlayer insulating films and the like considerably influencing the wiring load.例文帳に追加

トランジスタの特性と配線系における配線負荷の特性とを高精度で分離でき、配線負荷に大きな影響を及ぼす層間絶縁膜等の特性を評価できる技術を提供することである。 - 特許庁

To obtain a resin composition having excellent solder heat resistance, electroless plating properties and electrical insulating properties of a cured product, developable with an organic solvent or a dilute alkali solution and suitable for solder resists and interlayer insulating layers.例文帳に追加

硬化物の半田耐熱性、無電解メッキ性、電気絶縁性に優れ、有機溶剤又は希アルカリ溶液で現像ができ、ソルダーレジスト用及び層間絶縁層用に適する樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

After the formation of an interlayer film, a pixel electrode 108, common electrodes 110 and 111, and source lines 106 and 107 are formed at the same time.例文帳に追加

本発明は、ゲイト線１０２、１０５とコモン線１０３、１０４を最初に同時に形成し、層間膜形成後、画素電極１０８とコモン電極１１０、１１１とソ─ス線１０６、１０７を同時に形成する。 - 特許庁

To provide an interlayer membrane for a laminated glass constituted by a laminate of a resin layer including a resin layer containing a transparent adhesive resin, and polyethylene terephthalate, which is prevented from the debonding caused by moisture.例文帳に追加

透明接着樹脂を含む樹脂層とポリエチレンテレフタレートを含む樹脂層の積層体からなり、水分に起因する剥離が防止された耐久性に優れる合わせガラス用中間膜を提供する。 - 特許庁