「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a wiring circuit board and a manufacturing method of the same which can achieve continuity of differential impedance though a transmission line differs from a desired value in width within a predetermined range.例文帳に追加

伝送線路の幅が所望の値から一定の範囲内でずれる場合でも、差動インピーダンスの連続性を確保することが可能な配線回路基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

For example, when all channels are turned on in the multichannel AOM 33, the peripheral part of the substrate W is irradiated with five laser beams arranged in a line in the width direction.例文帳に追加

例えば、マルチチャンネルＡＯＭ３３において全てのチャンネルを「ＯＮ」状態にすると、基板Ｗの周縁部では幅方向において一列に並んで５本のレーザ光が照射される。 - 特許庁

The tip at the outer side in the vehicle width direction of the holder 54 is arranged at the same position as the engaging portion of the cylinder 53a with the vehicle body B in a direction along the axial line of the cylinder 53a.例文帳に追加

ホルダ５４の車幅方向外方側の先端部が、筒部５３ａの軸線に沿う方向で該筒部５３ａの車体Ｂへの係合部と同一位置に配置される。 - 特許庁

To provide a pattern forming method that excels in exposure latitude and sensitivity, which can form a pattern that also excels in line-width variation, and to provide a chemically-amplified resist composition using the method.例文帳に追加

線幅バラツキに優れたパターンを形成できるとともに、露光ラチテュード及び、感度に優れたパターン形成方法及びこれに用いる化学増幅レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In image data for inner area display, the block 211 has a line whose width is thicker toward the inside in comparison with that in image data for normal display, and has an inner edge located within a visible range of the EVF 113.例文帳に追加

内域利用表示用の映像データは通常表示用に比し、ブロック２１１の線幅が内側へ太く、内縁の位置がＥＶＦ１１３の視認可能領域内に位置する。 - 特許庁

The projection part 50 is positioned on an extension line L1 along the extension direction of a lug groove 30M, and extends toward the outside in the tread width direction TW from a sidewall 21 of the central land part row 20C.例文帳に追加

突起部５０は、ラグ溝３０Ｍの延在方向に沿った延長線Ｌ１上に位置し、中央陸部列２０Ｃの側壁２１からトレッド幅方向ＴＷ外側に向かって延びる。 - 特許庁

This titanium hydride has microcrystal grains in which the half width value of the peak in the (1, 1, 1) plane as the strongest line of titanium hydride TiH1.971 by X-ray diffraction is 0.2122 degree or more.例文帳に追加

水素化チタンは、Ｘ線回折による水素化チタンＴｉＨ_１．９７１の最強線である（１，１，１）面におけるピークの半価幅値が０．２１２２ｄｅｇｒｅｅ以上である微小結晶粒を持つ。 - 特許庁

In the absorbent article 1, a length of a transverse line intersecting the absorbent article 1 through a center C in its plane view is longer than a width of the crotch part.例文帳に追加

吸収性物品１は、好ましくは、該吸収性物品１の平面視における中心Ｃを通って該吸収性物品１を横断する横断線の長さが、クロッチ部の幅よりも長い。 - 特許庁

To provide a non-volatile semiconductor memory device and a method of manufacturing the same which are capable of narrowing a word-line width for increasing the integration degree or the like while securing a withstand voltage between bit lines.例文帳に追加

高集積化等のために、ビット線間の耐圧を確保しながら、ワード線の幅を狭めることができる不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

As a result, the overlap parts of all the adjacent four shot regions are prevented from changing suddenly in a cumulative light exposure, that is, a pattern can be prevented from suddenly changing in line width.例文帳に追加

この結果、隣接４ショット領域の全域で重ね合せ部分の積算露光量の急激な変化、すなわちパターン線幅の急激な変化の発生を防止することができる。 - 特許庁

The total resistance of bit lines is reduced by making the bit line diffusion layer on which no transistor is formed broader in width or higher in concentration in the flat cell type memory cell area of the semiconductor device.例文帳に追加

フラットセル型メモリセル領域にてトランジスタを形成しないビット線拡散層を幅広とするか、または拡散層濃度を高くすることにより、ビット線全体としての抵抗を低くする。 - 特許庁

To adjust an exposure luminous energy in each area precisely set within a substrate plane, to improve uniformity in a resist residual film after a developing process and to suppress variations in the line width and pitches of a wiring pattern.例文帳に追加

基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。 - 特許庁

Since a line width which is practically needed can be secured by using this simple exposing method, so that it becomes easy to design and manufacture the mask 8, and the cost of the microwave circuit board can be reduced.例文帳に追加

この簡便な露光方法を用いて実用上必要な線幅を確保できるのでマスク８の設計と製作が簡単になり、立体回路基板のコストダウンにつながる。 - 特許庁

A rate of a groove area ratio Sin at a second side in the tire width direction with a tire center line as a center to a groove area ratio Sout at a first side is not smaller than 1.10 and smaller than 1.25.例文帳に追加

タイヤセンターラインを中心としてタイヤ幅方向の第２の側の溝面積比率Ｓinの、第１の側の溝面積比率Ｓoutに対する比は、１．１０以上１．２５未満である。 - 特許庁

A display piece 8 having an appropriate width is formed in the other side crossing the one side of the opening 10 in the bag body 1 by a cutting line 6, leaving a coupling part 7.例文帳に追加

この袋体１の上記開口部１０の１辺部に交差する他辺部側には、連結部７を残し切線６によって適宜の幅を有する表示片８を形成している。 - 特許庁

To obtain a resist material that makes good use of the rectilinear propagation of electrons as a characteristic of an electron beam at a high accelerating voltage and attains high throughput while retaining high pattern line width controlling capability.例文帳に追加

高加速電圧電子線の特性である電子の直進性を生かし、高いパターン線幅制御性を維持したまま、高スループットを得ることができるレジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive dielectric material which can induce a thinner line width of a bus electrode, the method for forming an electrode of the plasma display panel, the substrate for plasma display panel, and the plasma display panel.例文帳に追加

低コストで、バス電極の線幅の細線化が図れる誘電体材料、プラズマディスプレイパネルの電極形成方法、プラズマディスプレイパネル用基板、およびプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

A slit 61 in a transparent pixel electrode 6 is formed, for example, with a 10 μm width, extending over the entire length of the center line in each transmissive display part 6A on an array substrate 10.例文帳に追加

そして、アレイ基板１０上の各透過表示部６Ａには、その中央線のほぼ全長にわたって、透明画素電極６のスリット６１を、例えば幅１０μｍで設ける。 - 特許庁

A slit 3 whose one end part 11 is clogged and which has a width being a little larger than the diameter of the needle can be arranged in an axial line direction in the tubular case 2.例文帳に追加

前記管状ケース２には、その端部１１は閉塞され、管状体の一端から針の直径よりわずかに大きい巾を有するスリット３を軸線方向に設けることができる。 - 特許庁

The laser light 28a passes the slit 30 is after that, converged into a projected body 26 and vivid line light 36 with narrow width (a) is projected on the projected body 26.例文帳に追加

スリット３０を通過したレーザー光２８ａは、その後被投射体２６に向かって収斂（集束）され、被投射体２６に鮮明で狭い幅ａのライン光３６ａを投射する。 - 特許庁

The computer readable code for applying the shrink correction comprises providing corner cutouts, and adjusting line width and length, shape modifications, etc. for forming features in a patterned layer.例文帳に追加

シュリンク補正を適用するためのコンピュータ読み取り可能なコードは、パターン化層に形状を形成するための角切り欠き部を提供して、線の幅および長さ、形の修正などを調整する。 - 特許庁

In a semiconductor device layout method, a minimum space specified by a design rule is equal to or smaller than the via concerning the width and space of the via and a metal interconnecting line.例文帳に追加

デザインルールにおいて規定される最小スペースが、ビア及びメタル配線の巾と間隔に関して、同等、又は、ビアの方が大きい半導体装置レイアウト方法に係る発明である。 - 特許庁

To provide a power line communication device and a noise detection method, capable of detecting periodically generated noise without spreading the width of a dynamic range of an A/D converter.例文帳に追加

Ａ／Ｄ変換器のダイナミックレンジの幅を広げることなく周期的に発生するノイズを検出することができる電力線通信装置及びノイズ検出方法を提供すること - 特許庁

The monument consists of the body, capping stone and stone pedestal, and the body is a prismatic column 125 cm in height and 60 cm in width, on which 80 kanji (Chinese characters) of 6 lines are engraved in yagen-bori style (a carving method in which each line is cut or carved so that its section is V-shaped). 例文帳に追加

碑身、笠石、台石からなり、材質は安山岩、碑身は高さ125センチメートル、幅60センチメートルの角柱で6行80文字の漢字が薬研彫りで刻まれている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

If the display label 12 corresponding to each of the chromatograms 11 is subjected to click operation, only the selected chromatogram 14 is subjected to highlight display (line width becomes thick) to become conspicuous.例文帳に追加

各クロマトグラム１１に対応付けられている表示ラベル１２をクリック操作すると、選択されたクロマトグラム１４のみがハイライト表示（線幅が太くなる）されて目立つようになる。 - 特許庁

A chamfering is applied at the top-most vertex of a crowning part 19 with a prescribed width, and a cross-section shape of the crowing part 19 has a straight line portion parallel to the contact face of a polymer membrane 20.例文帳に追加

頂部１９の頂点部分に所定の幅で面取りを施し、頂部１９の断面形状は、高分子膜２０の接触面に平行な直線部分を設ける。 - 特許庁

From an intra-surface tendency Z of the measured line width of the wafer, an improvable intra-surface tendency Za and a non-improvable intra-surface tendency Ze by the temperature correction of the thermal plate are calculated by using Zernike polynomials.例文帳に追加

その測定線幅の面内傾向Ｚから、ゼルニケ多項式を用いて、温度補正により改善可能な面内傾向Ｚａと改善不能な面内傾向Ｚｅが算出される。 - 特許庁

In the packaging material 1 including a laminated body having a plurality of laminated films 2, 3, a tearing guide line M constituted of a groove having a width of 1-10 μm is formed on the surface of the packaging material.例文帳に追加

複数のフィルム２、３を積層した積層体からなる包装材１において、包装材の表面に幅１μｍ〜１０μｍの溝からなる引き裂き誘導線Ｍを施す。 - 特許庁

An interval L of the upper-layer routing lines 7 is set to (2W+D) obtained by adding an interval D of the lower-layer routing lines 6 to the double of a line width W of the lower-layer routing lines 6.例文帳に追加

上層引き回し線７の間隔Ｌは、下層引き回し線６の線幅Ｗの２倍に該下層引き回し線６の間隔Ｄを加えた値（２Ｗ＋Ｄ）となっている。 - 特許庁

To provide a printed board buffer stocker capable of stocking each printed board of a different width for a process adjustment in a carrying line of the printed board for carrying printed boards of different widths.例文帳に追加

幅の異なるプリント基板が搬送されるプリント基板の搬送ラインにおいて、工程調整のために異なる幅のプリント基板ごとにストックを可能とするプリント基板バッファストッカの提供。 - 特許庁

In this heat exchanger, the fin 1 is arranged between tubes, and the line connecting middle points in the width direction of the louver forms an angle with respect to the wind direction.例文帳に追加

熱交換器は、チューブ間に上記構成のフィン１を配置し、かつルーバーの幅方向の中点を結ぶ直線が、風の流れ方向に対して角度を有するように配置した構成とする。 - 特許庁

To provide a means for eliminating, at a low cost, mutual dislocation in the paper width direction of a male type ruling roll and a female type ruling roll in ruling work in a corrugated cardboard sheet manufacturing line.例文帳に追加

段ボールシート製造ラインの罫入加工において、雄型罫線ロールと雌型罫線ロールの相互の紙幅方向の位置ずれを低コストで解消できる手段を実現する。 - 特許庁

The radiation antenna elements 24a-24j has a width smaller than a half of a length W of a short side of the rectangular radiation antenna elements at one apex angle and are connected to a side of the feeder strip line 23.例文帳に追加

放射アンテナ素子24a〜24jは、その１つの頂角において、矩形の放射アンテナ素子の短辺の長さＷの１／２以下の幅で、給電ストリップ線路２３の側辺に接続されている。 - 特許庁

To attain an inexperienced high degree of cleanliness of 0.1 μm particle class 1 required for a transfer device with miniaturization of a line width on a highly integrated semiconductor wafer.例文帳に追加

高集積度半導体ウエハ上の線幅の微細化に伴い、移載装置にも従来にない高クリーン度０．１μｍ粒子クラス１が要求されるため、これに対応することにある。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern, a method for manufacturing a semiconductor device and a photoresist applicator/developer, whereby variations of a line width dimension of the resist pattern can be reduced.例文帳に追加

レジストパターンの線幅寸法のばらつきを小さくできるようにした レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法、フォトレジスト塗布現像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material improved in storage stability prior to development and its humidity dependency, particularly improved in the humidity dependence of letter line width in development, and having high sensitivity.例文帳に追加

未現像時の保存性およびその湿度依存性を改良し、特に文字線巾の現像時の湿度依存性を改善し、さらに高感度である熱現像感光材料を提供する。 - 特許庁

At the wall surface through which an AC magnetic field is intended to be guided into the resonator from outside, a conductor thickness is not larger than 0.3 mm, and a cut line whose width is between 1 mm and 5 mm is formed.例文帳に追加

外部から交流磁界を共振器内に導入しようとする壁面においては、導体厚さが０．３ｍｍ以下であり、幅が１ｍｍから５ｍｍの間の切れ目を設ける。 - 特許庁

To provide a method for producing drinking water which emits far-infrared energy and has a narrowed spectrum line width of its water cluster, using a solution derived by chemically-treating a charge generating material.例文帳に追加

電荷発生物質を化学処理して誘導された溶液を用いた、遠赤外線エネルギーを放出し、かつ水のクラスタ幅を狭めた飲料水の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a DFB laser that has high output and emission efficiency, has a narrow spectrum line width, shows an improved single vertical mode, and has a configuration so that it can be manufactured with high production yield.例文帳に追加

出力及び発光効率が高く、スペクトル線幅が狭く、良好な単一縦モード性を示し、しかも高い製品歩留りで作製できる構成を備えたＤＦＢレーザを提供する。 - 特許庁

As a result, heat input time to the metallic plates 1, 2 is extended, with the heat input increased in the direction orthogonal to the planned welding line R, so that the width of a weld zone 21 is expanded.例文帳に追加

これにより、金属板１，２への入熱時間が長くなり、溶接予定線Ｒと直交する方向への入熱量が増加するため、溶接部２１の幅が拡張される。 - 特許庁

To provide a heat developable photographic sensitive material having excellent moisture resistance of photographic performances (Dmax at low humidity and line width μm of letters at high humidity), blocking resistance and scratch resistance.例文帳に追加

本発明の目的は、写真性能（低湿時のＤｍａｘ、高湿時の文字線幅μｍ）の耐湿性、耐ブロッキング性及び耐傷性に優れた熱現像写真感光材料を提供する。 - 特許庁

Then, the display position of the main image 3 and the sign language image 5 is shifted to the left by a width (m) portion of the sign language image 5 and the straight line of X=m is disposed at the center of the screen 51.例文帳に追加

そこで、主画像３及び手話画像５の表示位置を手話画像５の幅ｍだけ左へずらし、Ｘ＝ｍの直線が画面５１の中心に配設されるようにする。 - 特許庁

To provide a high-speed heat developable photosensitive material which can rapidly be developed while suppressing the increase of the line width of letters and fogging and has good resolvability.例文帳に追加

文字線幅太りや被りを抑制しつつ迅速な現像処理を行うことが可能で、良好な感光材料保存性を有する高速熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

Then, the length (h) of the backward tilted section on a ball hitting section central line X which is in contact with the flat surface ball hitting section 3 and divides the flat surface ball hitting section 3 in two in the width direction is set at 5-20 mm.例文帳に追加

そして、平面打球部３に接してこの平面打球部３を巾方向に２分する打球部中心線Ｘ上での後傾部の長さｈを５〜２０mmとする。 - 特許庁

The insulating spacer is provided on a lower portion of at least a part of the conductive line, thereby insulating properties are improved even if width of the spacer is reduced, and thus a contact area is increased.例文帳に追加

導電性ラインの少なくとも一部分の下部に絶縁スペーサーが提供されて、スペーサーの幅が狭くなっても絶縁特性が改善されることができ、コンタクト領域が増大される。 - 特許庁