「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

A bent point A in the transmission line 11 bent in the L-shape and a branch point B of the two branch lines 12, 13 are defined and an adjustment conductor is connected between the points A, B to adjust the line width and prevent the gain reduction at the confluent point.例文帳に追加

L字に曲げられた伝送線路１１内には屈曲点Ａと２つの分岐線路１２、１３の分岐点Ｂを定義し、このＡＢ点間に調整導体を接続することにより、線路幅を調整し、合成点での利得低下を防止する。 - 特許庁

The server 10 registers CAD data and conversion contents (CAD data file format, output data format, scale of output data, typeface of output data, line type, line width, etc.), in a conversion specification designated by the information terminal 9 to a CAD data DB 12.例文帳に追加

サーバ１０は、ＣＡＤデータと、情報端末機９により指定された変換仕様書の変換内容（ＣＡＤデータファイルフォーマット、出力データフォーマット、出力データ尺度、出力データの書体、線種、線幅等）をＣＡＤデータＤＢ１２に登録する。 - 特許庁

The feeding line 16 is connected to a feeding circuit, which feeds power to around both ends of the slot 15 in the width direction by electromagnetic coupling to the feeding line 16 to excite the slot 15, resulting in that the slot 15 emits a linearly polarized wave.例文帳に追加

給電ライン１６は給電回路に接続されており、この給電ライン１６との電磁結合によってスロット１５の幅方向両端近傍に給電することにより、スロット１５を励振させて直線偏波を放射させることができる。 - 特許庁

Perpendicular bisectors 11 and 12 of two line segments tying line width centers (P15 and P16, and P25 and P26) of the teaching mark M to one another are determined by repeating the reciprocative scanning of the teaching mark M in two cycles using a photo-reflex type sensor.例文帳に追加

光反射型センサを用いてティーチングマークＭの往復走査を２回繰り返すことによって、ティーチングマークＭの線幅中心（Ｐ１５とＰ１６、およびＰ２５とＰ２６）間を結ぶ２つの線分の垂直２等分線ｌ１，ｌ２を求める。 - 特許庁

To provide a band ultra-narrowing fluorine laser system, which oscillates in one line only and moreover, can be narrowed the band of the wavelength width of the line into a band of about 0.2 pm or thereabouts by constituting a laser resonator, using an optical element which hardly generates damages.例文帳に追加

ダメージの生じ難い光学素子を用いてレーザ共振器を構成することにより、１ラインのみで発振し、しかもそのラインの波長幅を約０．２ｐｍ程度に狭帯域化することができる超狭帯域化フッ素レーザ装置を提供する。 - 特許庁

The back clearance provided on the back 5 of the blade of the edge part 2 is formed in such a way that the conduit bottom L of this back clearance omnipresently passes to the back 3 side from approximately the width center at the base end D of the edge part 2 and is a line approximately in parallel to the edge line 4.例文帳に追加

刃部２の刃裏５に設ける裏スキは、この裏スキのひぞこＬが、刃部２の基端Ｄにおいては略幅中央よりも峰３側に偏在して通り且つ刃先線４に略平行な線、となる様に形成される。 - 特許庁

A line width (W) of a contour line of each toon object is calculated by W=RNDUP(a×Eb×Db÷D) in accordance with a distance (D) from a visual point 303 to each toon object and a coefficient (a) defined depending on a status of a game.例文帳に追加

各トゥーンオブジェクトの輪郭線の線幅（Ｗ）は、視点３０３から各トゥーンオブジェクトの基準点までの距離（Ｄ）と、ゲームの状況に応じて定められる係数（ａ）とに従って、Ｗ＝ＲＮＤＵＰ（ａ×Ｅｂ×Ｄｂ÷Ｄ）と算出される。 - 特許庁

For forming a reentrant 61 in a workpiece, an end mill EM is first moved along the inside of the contour line (a) of the reentrant to finish an annular groove 62 of a width generally equal to the diameter of the end mill EM inside the contour line (a).例文帳に追加

ワークＷに凹部６１を加工する場合、まず、エンドミルＥＭを凹部６１の輪郭線ａの内側に沿って移動させ、その輪郭線ａの内側に幅がエンドミルＥＭの直径の略等しい環状溝６２を形成（仕上げ加工）する。 - 特許庁

The element conduction part 71 and the connection part 61 are formed on the same layer as the power source line 15, and are located on one side in a direction (Y direction) of the width of the power source line 15 with the driver transistor Tdr interposed therebetween when seen from a direction perpendicular to the substrate 10.例文帳に追加

素子導通部７１および接続部６１は、電源線１５と同層から形成され、基板１０に垂直な方向からみて、駆動トランジスタＴdrを挟んで電源線１５の幅方向（Ｙ方向）における一方の側に位置する。 - 特許庁

A minimum interval is made so as to pass only one wiring therebetween, and power supply (VDD, VSS) wirings at a minimum line width are disposed in a vertical axial direction in n layers and in a horizontal axial direction in (n+1) layers to form a lattice-like shield, which is wired with a signal line.例文帳に追加

間に配線が一本通れるだけの最小の間隔を空けて最小線幅の電源（VDD,VSS）配線をｎ層で縦軸方向、ｎ＋１層で横軸方向に配置し格子状のシールドを形成しておき、その間に信号線を配線する。 - 特許庁

The optical fiber is such that the transmission loss at 1,550 nm is ≤0.3 dB/km and that the SBS threshold level (TH^SBS) at 1,550 nm is ≥5 mW in the line length of 20 km, when a light source having a line width of ≤5 MHz is used.例文帳に追加

本願発明の光ファイバは、１５５０ｎｍでの伝送損失が０．３ｄＢ/ｋｍ以下で線幅５ＭＨｚ以下の光源を使用した場合の条長２０ｋｍでの１５５０ｎｍにおけるＳＢＳしきい値（TH^ＳＢＳ）が５ｍＷ以上である。 - 特許庁

The printing length of printing data to be sent to the printers 3A to 3D can be calculated also by identifying font size or line feed width in each line and the calculation can be executed by a server 1 receiving a printing request from each of clients 2A, 2B.例文帳に追加

プリンタ３Ａ〜３Ｄに送出する印字データの印字長を、行毎にフォントサイズまたは改行幅を識別して算出することもでき、これらをクライアント２Ａ、２Ｂからの印刷要求を受けたサーバ１において実施することも可能である。 - 特許庁

Since the holding frame is slided along the width direction of the conveyer, the frame is slided in accordance with the arrangement in a sucked line, the number same to the number of the products (articles) in the one line is thereby enough for the number of the vacuum heads, and the vacuum pressure is thereby prevented from being reduced.例文帳に追加

保持フレームが搬送装置の幅方向にスライドするので、吸着する列の配列に従って保持フレームをスライドすることで、バキュームヘッドの数は１列の製品の数と同数でよく、バキュームヘッドのバキューム圧が減少することがない。 - 特許庁

Respective coring parts 12 are placed on a guide rail 3 respectively such that a marking-off line provided on a width gauge 21 of a positioning fixture 19 is positioned just below a previously set center line C.L and are fixed by a spacer 22 so as not to be moved to left and right sides.例文帳に追加

位置決め用治具１９の幅ゲージ２１に設けたけがき線２３が予め設置したセンターラインＣ．Ｌの真下に位置するように各芯出し部１２をそれぞれガイドレール３上に載置し、スペーサ２２で左右に移動しないように固定する。 - 特許庁

The element conduction part 71 and the connection part 61 are formed from the same layer as the power source line 15, and are located on one side in a width direction (a Y direction) of the power source line 15 across the driver transistor Tdr while viewing from a direction perpendicular to the substrate 10.例文帳に追加

素子導通部７１および接続部６１は、電源線１５と同層から形成され、基板１０に垂直な方向からみて、駆動トランジスタＴdrを挟んで電源線１５の幅方向（Ｙ方向）における一方の側に位置する。 - 特許庁

Alternatively, the moving distance of the sheet 50 is measured with the magnetic scale 60a and the magnetic detector 60b, and the read time Ti of each reading line is controlled by a control means 32a so that the width of each read line of the sheet 50 becomes constant.例文帳に追加

または、蓄積性蛍光体シート50の各読取りラインの幅が一定になるように、磁気スケール60aおよび磁気検出器60bによってシート50の移動距離を測定し、制御手段32aによって各読取ラインに対する読取時間Ｔ_ｉを制御する。 - 特許庁

A dimension and graphic discriminating section 324 discriminates whether the part to be measured of an object SA to be inspected is a circle or line and whether computation can be performed on the dimension of the circle or width of the line from the measuring points stored in a measuring point storing stack 323.例文帳に追加

寸法図形判断部３２４は、測定点格納スタック３２３に保存された測定点から被検物ＳＡの測定対象部分が円及び線のいずれであるかと円寸法及び線幅のいずれの演算が可能であるかとを判断する。 - 特許庁

A first voltage drop countermeasure for thickening the line width of high potential side power source lines 31, 33 and a low potential side power source line 32 and a second voltage drop countermeasure for forming a decoupling capacitance 8-m (m=1, 2, etc.) between cells, are applied to the semiconductor circuit.例文帳に追加

さらに、高電位側電源線３１，３３および低電位側電源線３２の線幅を太くする第１の電源電圧ドロップ対策と、セル間にデカップリング容量８−ｍ（ｍ＝１，２…）を形成する第２の電源電圧ドロップ対策とを施す。 - 特許庁

When the same image is continuously printed and the image data includes a line of a predetermined length along a sheet conveying direction, the control circuit 22 generates the control signal CTL so as to shift the effective light emitting elements by a predetermined number of light emitting elements corresponding to the width of the line.例文帳に追加

制御回路２２は、同一画像の連続印刷であり、且つ、用紙の搬送方向に所定の長さの線がある場合、線幅に応じた数の発光素子だけ、有効発光素子をずらすように制御信号ＣＴＬを生成する。 - 特許庁

The width in the projecting part 34 is regulated by an angle having a tube axis as a center, and when a vertical line is dropped onto the tube axis from a rise part 37, the angle αmade relative to the vertical line and the vertical plane is not less than 10° and not more than 50°.例文帳に追加

凸部３４における幅は、管軸を中心とする角度によって規定されており、立ち上がり部分３７から管軸上に垂線を下ろしたとき、当該垂線と垂直面とのなす角度αが１０°以上、５０°以下である。 - 特許庁

To provide an outline image forming apparatus capable of forming an outline image of arbitrary height and width with good appearance by smoothing the seam between the leading line and the ruled line of preceding and following character images, and to provide outline image forming method and program and a storage medium.例文帳に追加

前後キャラクタ画像の引出線と罫線との間の繋ぎ目を円滑にして、任意の高さ且つ任意の線幅の外枠画像を見栄え良く作成できる外枠画像作成装置、外枠画像作成方法、プログラムおよび記憶媒体を提供する。 - 特許庁

When a line width is measured at 36 points on the surface of a wafer treated in a coating development treatment system, 36 points Q of measurement are divided and line widths of all the points Q of measurement are measured using six wafers W_1-W_6, for example.例文帳に追加

塗布現像処理システムにおいて処理されたウェハ面の例えば３６箇所の線幅を測定するにあたり、３６箇所の測定点Ｑを分割し、例えば６枚のウェハＷ_１〜Ｗ_６を用いて総ての測定点Ｑの線幅を測定する。 - 特許庁

A controller 12 calculates the number of revolutions of the optical disk 1 at which the line speed of the optical disk 1 attains a target line speed in this access position and sets the pulse width of the FG pulse corresponding to this number of revolutions in a comparator 21 of a spindle servo circuit 15.例文帳に追加

コントローラ１２は、このアクセス位置で光ディスク１の線速度が目標線速度となる光ディスク１の回転数を算出し、その回転数に相当するＦＧパルスのパルス幅をスピンドルサーボ回路１５の比較器２１に設定する。 - 特許庁

To provide a joint device capable of safely supporting a joint plate, and absorbing expansion/contraction movement of the same dimension as that of the width of a joint part to be safely used, if the dimension from the joint part to a boundary line is substantially equal to the width dimension of the joint part.例文帳に追加

目地プレートを安全に支持することができるとともに、目地部と境界線までの寸法がほぼ目地部の幅寸法があれば、目地部の幅寸法分の伸縮移動を吸収して、安全に使用することができる床用目地装置を提供する。 - 特許庁

A vibrator element 33 including a beam 47 electrostatically driven is formed opposite to lower electrodes 43, 44 on a board of the minute vibrator, and a width W1 of a DC bias feeder line 45 connected to the beam 47 is formed narrower than a width W2 of the beam 47.例文帳に追加

基板上に、下部電極４３、４４に対向して静電駆動する梁４７を有した振動子素子３３が形成され、梁４７に接続された直流バイアス給電線４５の線幅Ｗ１が、梁４７の幅Ｗ２よりも狭い幅で形成されている - 特許庁

On a conveyance passage where paper 1 is conveyed after printing by a line head 21, air is supplied to the paper 1 along a first direction advancing from one side to the other side of the conveyance width direction, and along a second direction advancing from the other side to one side of the conveyance width direction.例文帳に追加

ラインヘッド２１で印刷した後に用紙１が搬送される搬送経路上で、搬送幅方向の一方から他方に向かう第一の方向、及び搬送幅方向の他方から一方に向かう第二の方向に沿って用紙１に送風を行う。 - 特許庁

After cutting the sector mold in a cutting groove with a set width along the dividing line, the sector mold structure is constituted by bringing the cut sectional parts into contact with each other at the adjacent parting lines of the contact parts by controlling a relative displacement in the tire width direction.例文帳に追加

セクター金型を設定幅の切断溝によって分割線に沿って切断した後に、該切断された分割金型をタイヤ幅方向の相対変位を規制して当接部の隣接する切断面で当接させてセクター金型構造体を構成する。 - 特許庁

The original holders 8 are holders for placing an extra large size original, etc., wound up in a roll and one each is installed separated by a space which is slightly smaller than the width L of a minimum size original in positions where they are in line symmetry from the center in the width direction.例文帳に追加

該原稿ホルダー８は、特に大サイズ原稿等を筒状に巻いて載置するためのものであり、最小サイズ原稿の幅Ｌよりも若干小さい間隔を隔て、かつ幅方向の中心から線対象になる位置にそれぞれ１個づつ設けられている。 - 特許庁

A pad 1 for connection and/or a pad 2 for connection with a width wider than the line width of a display part 101 and/or a terminal part 102 are formed at a connecting part between the display part 101 and the leader part 103 and/or a connecting part between the terminal part 102 and the leader part 103.例文帳に追加

表示部１０１と引出し部１０３との接続部、および／または、端子部１０２と引出し部１０３との接続部に、表示部１０１および／または端子部１０２の線幅より幅の広い接続用パッド１および／または接続用パッド２を設ける。 - 特許庁

The slide contact side end face 10A is formed into a substantially rhombic shape, in which the width W36 along the axis line direction (arrow A) of the commutator 28 in the both ends 10B, 10C in the circumferential direction of the commutator 28, is smaller than the width W10 at the center in the circumferential direction.例文帳に追加

摺接側端面１０Ａは、コンミテータ２８の周方向の両端１０Ｂ、１０Ｃにおけるコンミテータ２８の軸線（矢印Ａ）方向に沿った幅Ｗ３６が、該周方向の中央における幅Ｗ１０よりも小さい略菱形状に形成されている。 - 特許庁

More specifically, the projections 6 are disposed in such a way that they are deflected right and left alternately to a width center line of the circumferential groove to have overlapped parts between adjoining projections in the groove width direction while having no overlapped parts in the tire circumferential direction.例文帳に追加

具体的には、複数の突起６を、周方向溝の幅方向中心線ＣＬに関して左右に交互に振れながら、しかも隣接する突起間において、タイヤ周方向では重なり部分を持たず、かつ溝幅方向では重なり部分を持つように配置する。 - 特許庁

Then the width p of the dielectric body 5 is selected to be twice or over and 20 times or below of the line width w of the transmission lines 4-1, 4-2, and the thickness q of the dielectric body 5 is selected to be equal to or over and 7 times or below the distance y between the transmission lines 4-1, 4-2.例文帳に追加

そして、誘電体５の幅ｐが伝送線路４−１，４−２の線幅ｗの２倍以上２０倍以下に設定され、誘電体５の厚さｑが伝送線路４−１，４−２間の距離ｙの１倍以上７倍以下に設定されている。 - 特許庁

The right/left width (b) of the tray 14 is set to be proper based on the right/left width size B of the board 7 so as to easily put the object S housed in a rear line space 13B by sliding the tray 14 to right or left.例文帳に追加

収納トレー１４の左右幅ｂは、棚板７の左右幅寸法Ｂを基準にして適正値に設定し、収納トレー１４を左右スライドすることにより、後列スペース１３Ｂに収納した収納対象Ｓが容易に出し入れできるようにする。 - 特許庁

A photographing method includes: a diaphragm setting means for setting the diaphragm of a lens by a line camera and a distance of the Buddhist statue; an entire width setting means for setting the entire width of the Buddhist statue to be recorded; and a rotational speed setting means for setting the sub scanning speed of a rotation means by a numerical value set by a distance setting means and the entire width setting means.例文帳に追加

本発明は、ラインカメラと仏像の距離とでレンズの絞りを設定する絞り設定手段と、記録する仏像の全幅を設定する全幅設定手段と、距離設定手段と全幅設定手段で設定された数値を用いて回転手段の副走査速度を設定する回転速度設定手段と、からなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a holder for measuring the displacement magnitude of extension and width and a method for measuring the magnitude of extension and width which can accurately recognize a marked line to be used to measure extension and an edge of a test piece to be used to measure the displacement magnitude of width by using a single camera even in the case of executing a material test to a round bar-shaped test piece.例文帳に追加

丸棒状試験片に対して材料試験を実行する場合においても、単一のカメラを使用して伸びの測定に利用する標線と幅の変位量の測定に利用する試験片の端縁とを正確に認識することが可能な伸びと幅の変位量の測定用治具および伸びと幅の変位量の測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming circuit wiring capable of forming the circuit wiring having a fine line width of a circuit wiring film composing the circuit wiring and a uniform film thickness, to provide a circuit substrate including the circuit wiring, and to provide the circuit wiring film having a fine wiring width and a uniform film thickness larger than a wiring film width.例文帳に追加

回路配線を構成する回路配線膜の線幅が微細であって、膜厚が均一である回路配線を形成できる回路配線形成方法、当該回路配線を備える回路基板、及び線幅が微細であって、膜厚が均一である配線膜の膜厚が配線膜の幅より大きい回路配線膜を提供する。 - 特許庁

A plurality of passages T1 to T3 through which containers P being the articles to be conveyed can pass in a line are formed at a predetermined pitch in the width direction of the conveyor 3 by the partition plates 20a to 20d.例文帳に追加

仕切板２０ａ〜２０ｄによって搬送品の容器Ｐが列状で通過可能な複数の通路Ｔ１〜Ｔ３がコンベア３の幅方向に所定ピッチで形成される。 - 特許庁

To provide a sheet processing device capable of preventing the deviation of a punching position in the width direction of a sheet by detecting the position of the sheet end on a punching line with high accuracy, and provide an image forming device.例文帳に追加

孔あけライン上のシート端の位置を高精度に検知してシート幅方向の孔あけ位置のずれを防止することができるシート処理装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The position for moving the side guide 3b is obtained based on the width dimension of the steel plate 1 which is carried on the carrying line 4, and the side guide 3b is moved in advance until the obtained position.例文帳に追加

搬送ライン４を搬送されてくる鋼板１の幅寸法に基づいて、サイドガイド３ｂを移動させる位置を求め、求めた位置までサイドガイド３ｂをあらかじめ移動しておく。 - 特許庁

To provide a pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness and exposure latitude, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a system and method for exposure by which the fluctuation of the line width of a transferred pattern caused by the electrification of a substrate to be treated can be prevented, and to provide a method of manufacturing semiconductor device.例文帳に追加

被処理基板の帯電による転写後のパターン線幅の変動を防止することができる露光装置、露光方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the uniformity of the line width in the scanning direction of a pattern transfer image transferred to each section area can be improved as a result of the scanning exposure to each section region on the substrate W.例文帳に追加

このため、基板上の各区画領域に対する走査露光の結果、各区画領域に転写されるパターン転写像の走査方向における線幅均一性が向上する。 - 特許庁

As it has an addition circuit to integrate the image information as well as it enlarges the image of a defect, even a defect of fine line width can be inspected exactly as a defect.例文帳に追加

欠陥の画像を拡大すると共に画像情報を積分する加算回路を有することにより、微細線幅の欠陥であっても欠陥として正確に検査することができる。 - 特許庁

To provide a method for on-line identifying a width deformation model in a hot finishing mill in which deformation by rolling, the fluctuation in a crown rate and the change in temperature are considered.例文帳に追加

圧延による変形、クラウン比率変動、及び温度の変化等を考慮した熱間仕上げ圧延機における板幅変形モデルをオンラインで同定する方法を提供する。 - 特許庁

Perforations 7 and 7 are formed as double line-like scores extended so as to cross the support in a width direction at a position downward rather than a center of a longitudinal direction of the support 5.例文帳に追加

そして、支持体５の長手方向の中央よりも下寄りの位置には、支持体を幅方向に横切るように延びる二重線状の折り線としてのミシン目７，７が形成されている。 - 特許庁