「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

The secondary cell 134 and the aqueous solution tank 130 are arranged so that the respective centers of gravity are deviated on the side opposite to the swing arm 48 side from the center line B in the body width direction.例文帳に追加

二次電池１３４および水溶液タンク１３０は、それぞれの重心が車体幅方向中心線Ｂよりもスイングアーム４８側とは反対側にずれるように配置される。 - 特許庁

To provide a mask for use in an electron beam aligner correcting a variation in the line width of a pattern due to the deflection of the mask when exposure is performed using an electron beam which cannot be made parallel completely.例文帳に追加

完全に平行にはできない電子ビームにより露光を行う際に、マスクたわみによるパターン線幅のばらつきを修正する電子ビーム露光装置に使用するマスクを提供する。 - 特許庁

The intersecting points B1 and B2 of the tangential lines of two inflection points C1 and C2 and the base line BL are detected and the distance between both intersecting points B1 and B2 is set to a peak width (w).例文帳に追加

そして、その２つの変曲点Ｃ１、Ｃ２のそれぞれにおける接線とベースラインＢＬとの交点Ｂ１、Ｂ２を検出し、両交点Ｂ１、Ｂ２間の距離をピーク幅ｗとする。 - 特許庁

To provide a surface-emitting type laser device that narrows the spreading of spectrum line width of laser light emitted from a surface-emitting type laser by suppressing the vibration of an MEMS movable mirror.例文帳に追加

ＭＥＭＳ可動ミラーの振動を抑圧することにより、面発光型レーザから出射されるレーザ光のスペクトル線幅の広がりを狭くできる面発光型レーザ装置を提供すること。 - 特許庁

Even when the signal voltage Vs is changed, the voltage between a common signal line and the pixel electrode is always held equal to or higher than a voltage Vdmax at the time the depletion layer of a semiconductor layer becomes the maximum width.例文帳に追加

コモン信号線と画素電極間の電圧は、信号電圧Ｖsが変化しても、半導体層の空乏層が最大幅となるときの電圧Ｖdmax以上に常に保たれる。 - 特許庁

Consequently, uniform development can be realized in the surface of the substrate without causing any time lag in development starting time, and the line width uniformity of the resist pattern film in the surface of the substrate can be improved.例文帳に追加

これにより、基板面内で現像開始時の時間差が生じず、均一に現像することができ、基板面内のレジストパターン膜の線幅均一性を向上させることができる。 - 特許庁

Furthermore, a characteristic pattern wherein the linear regions L1, L2, L3 are aligned along the width direction is extracted from the converted image and, from the characteristic pattern, a line running along a longitudinal direction is created.例文帳に追加

さらに、この変換後の画像から線状領域Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３が幅方向に沿って並ぶ特徴パターンを抽出し、その特徴パターンから長手方向に沿うラインを生成する。 - 特許庁

The protection plate 6 is provided with a brittle part 9 so as to be bent around a vertical line 11 substantially at a width center with force exceeding a predetermined value applied from the front toward the rear.例文帳に追加

保護プレート６には、前方から後方に所定以上の力が加わることで幅略中央の垂直線１１周りで曲がるようにするための脆弱部９が形成されている。 - 特許庁

The body 11 includes a rear frame 18, and the rear frame 18 is provided so that its center of gravity is deviated to the side opposite to the swing arm 48 side from the center line B in the body width direction.例文帳に追加

さらに、車体１１はリヤフレーム１８を含み、リヤフレーム１８は、その重心が車体幅方向中心線Ｂよりもスイングアーム４８側とは反対側にずれるように設けられる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which significantly suppresses the line width change rate by changes in the resist film thickness on a highly reflective substrate with a rough surface (such as a bare silicon substrate, a polysilicon substrate).例文帳に追加

凹凸のある高反射基板（ベアシリコン基板、ポリシリコン基板等）上でのレジスト膜厚変動による線幅変動率が顕著に抑制されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser generating very narrow laser beams and having stable characteristics, and also to provide a method for generating the laser beams, and a method for reducing a spectral line width of the laser beams.例文帳に追加

きわめて狭線幅なレーザ光を発生でき、安定した特性を有する半導体レーザ、レーザ光の発生方法、およびレーザ光のスペクトル線幅の狭窄化方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an aligner which accelerates a drive speed of an arrayed blanking deflector to improve throughput, accuracy and line width controllability, and a device manufacturing method using the aligner.例文帳に追加

アレイ化されたブランキング偏向器の駆動速度を高めてスループット、精度、線幅制御性を改善する露光装置及びその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a belt line structure of a door for an automobile capable of improving bending moment against an input in a vehicle width direction while securing rigidity against an input in a vehicle longitudinal direction.例文帳に追加

車両前後方向の入力に対する剛性を確保しつつ車幅方向の入力に対する曲げモーメントを高めることができる自動車用ドアのベルトライン部構造を提供する。 - 特許庁

The ink suction hole 54 (or 56) is formed such that one end thereof in the width direction bridges over the inner side of the other end of a recording medium 12 matched with a reference line 51 to the outer side thereof.例文帳に追加

インク吸引口５４（又は５６）は、その幅方向一端が基準線５１に一致した記録媒体１２の幅方向他端の内側から外側に渡るように形成されている。 - 特許庁

The width in gate length direction of a gate electrode 18 in a memory cell is less than a half of a cell pitch C which is the length form the center of a source line connect 31 to the center of a drain contact 32.例文帳に追加

メモリセル内のゲート電極１８のゲート長方向の幅を、ソース線コネクト３１の中心からドレインコンタクト３２の中心までの長さであるセルピッチＣの１／２未満とする。 - 特許庁

When the long hole 5 is formed along a contour line 3 of an individual wiring board (semiconductor device), a swell portion 5a which swells along the width of the long hole 5 is formed at an end of the long hole 5.例文帳に追加

個々の配線基板（半導体装置）の外形ライン３に沿って長穴５を形成する際に、長穴５の端部に、長穴５の幅方向に膨らむ膨らみ部５ａを形成する。 - 特許庁

Besides, the outside portion has a second choke 36 having a depth for extension practically parallel to the lengthwise central axial line of the antenna and a width for extension in the radial direction.例文帳に追加

外側部分は、また、アンテナの長手方向中心軸線に対して実質的に平行に伸長する深さと、半径方向に伸長する幅とを有する第二チョーク３６を有する。 - 特許庁

To provide an exposure/development method featuring high resolution and high line width precision on the surface, which is capable of removing watermarks and spots produced at the time of liquid immersion exposure without doing damage to resist.例文帳に追加

液浸露光時に生じるウォーターマークやシミをレジストにダメージを与えることなく除去して、解像度及び面内の線幅精度の高い露光・現像方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and an image forming system capable of carrying out printing that brings the line width of a bar code close to an ideal value and raises contrast when printing the bar code on paper.例文帳に追加

バーコードを用紙に印刷する際に、バーコードの線幅を理想値に近づけ、コントラストを上げる印刷をすることができる画像形成装置および画像形成システムを提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for adjusting a position of a corrugated cardboard sheet which has a simple configuration and quickly corrects width-direction positional deviation of the traveling corrugated cardboard sheet in a production line.例文帳に追加

製造ラインにおいて走行する段ボールシートの幅方向の位置のずれを、簡易な構成で、素早く修正することができる段ボールシートの位置調整装置を提供する。 - 特許庁

To form a ceramic substrate having a microfine electrode pattern and a general electrode pattern with a line width wider than that of the microfine electrode pattern, while restraining a material loss and securing thickness uniformity of the electrode patterns.例文帳に追加

微細電極パターンとそれより線幅の広い一般電極パターンとを有するセラミック基板を、材料の損失を抑え、また、電極パターンの厚さ均一性を確保して形成する。 - 特許庁

To provide a method of processing a substrate, which reduces variations in line width of the second time resist patterning on a wafer plane without lowering productivity when double patterning is performed.例文帳に追加

ダブルパターニングを行う際に、生産性を低下させることなく、ウェハ面内における２回目のレジストパターンの線幅のばらつきを低減することができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

In addition, curve line current flowed from a side of an electrode tooth can be generated by controlling the width of a tip of the comb tooth-shaped electrode and a distance between the electrode teeth.例文帳に追加

また、櫛歯状電極の先端部の幅や、電極歯部間の間隔を制御することによって、電極歯部の側面から流れる曲線電流を発生させることができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light permeable electromagnetic shield material by which an electromagnetic wave shield layer having uniform thickness and line width and showing high electromagnetic wave shield properties is efficiently formed.例文帳に追加

均一な厚さ及び線幅を有し、高い電磁波シールド性を有する電磁波シールド層をより効率的に形成する光透過性電磁波シールド材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a line type ink jet printer which prevents unused nozzles from being dry, can arrange necessary nozzles in a width direction of a printing surface not to be wasted, and also is excellent in maintenance efficiency.例文帳に追加

使用しないノズルが乾燥せず、必要なノズルを無駄なく印刷面の幅方向に配列でき、メンテナンス効率も優れたライン型インクジェット印刷装置を提供することである。 - 特許庁

Next, a cutting groove 18A is machined on the cutting line by a blade 9B having a thickness (b) of not less than the kerf width dimension (a) of the V-shaped groove 18 with the V-shaped groove 18 as a guide groove.例文帳に追加

次に、このＶ溝１８をガイド溝として、Ｖ溝１８のカーフ幅寸法ａ以上の厚さｂを有するブレード９Ｂによって切削加工ラインに切断溝１８Ａを加工する。 - 特許庁

The distance h measured between folded ends 11 of the maximum width up ply 9a and a rim diameter line position 12 along the tire radial direction is 30-70% of the tire cross sectional height SH.例文帳に追加

最幅アッププライ９ａの折返し端縁１１とリム径ライン位置１２の間をタイヤ径方向に沿って測定した距離ｈがタイヤ断面高さＳＨの３０〜７０％である。 - 特許庁

To provide a welding carriage which can travel along a concave curved line having a small radius of curvature, and further can travel along even the narrow width portion of the lug portion of a horizontal member.例文帳に追加

曲率半径の小さい凹曲線に倣って走行することができ、しかも、水平部材の板耳部の幅が狭い場所であっても倣い走行できる溶接台車を提供する。 - 特許庁

A plurality of rod members 11a to 11c in the label receiver 10 extend in a label L feeding direction A from the vicinity of lower part of the label receiving port 2, and are laid in line in the label L width direction B.例文帳に追加

ラベル受け１０の棒状部材１１ａ〜１１ｃは、ラベル発行口２の下方付近からラベルＬの送り出し方向Ａに延び、ラベルＬの幅方向Ｂに複数並んでいる。 - 特許庁

An image forming apparatus detects the size of character (such as the point size) for small characters and line width for thin lines, and if the detected measurements are smaller than predetermined sizes, performs edge smoothing not only for edge parts but also an object as a whole.例文帳に追加

小さい文字は文字サイズ（ポイント数など）、細線は線幅を検出し、所定のサイズより小さい場合には、エッジ部だけでなくオブジェクト全体に対してエッジスムージングを実施する。 - 特許庁

In an intermediate land, the groove area ratio in a region at the second side is higher compared with the groove area ratio in a region at the first side with a center line in the tire width direction as a boundary.例文帳に追加

中間陸部において、タイヤ幅方向の中心線を境にして、前記第２の側の領域の溝面積比率は、前記第１の側の領域の溝面積比率に比べて高い。 - 特許庁

In a model base OPC, the result of measuring the line width of a test pattern is compared with the calculation result of the model to judge whether or not the fitting residual falls within the tolerance of error (-a, +a).例文帳に追加

モデルベースＯＰＣにおいて、テストパターンの線幅の実測結果とモデルによる計算結果を比較し、まず、フィッティング残差が誤差許容範囲（−ａ、＋ａ）以内であるか否かを判断する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition, which has high exposure sensitivity to g- and h-lines, is excellent in removability by development, and forms a colored pattern with no variations in a line width.例文帳に追加

ｇ線及びｈ線に対する露光感度が高く、且つ、現像除去性に優れ、線幅にバラつきのない着色パターンを形成し得る着色硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a mask and a method of monitoring mask contamination, which is capable of grasping the timing of cleaning of a mask before contamination causes a variation in the line width of a transferring pattern on a mask.例文帳に追加

コンタミネーションによるマスクの転写用パターンの線幅の変動が起きる前に、マスクの洗浄のタイミングを把握することができるマスクおよびマスクコンタミモニタ方法を提供することにある。 - 特許庁

To uniform a line width and improve the yield of products by enabling temperature control depending on the warpage of a substrate to be processed and on an actual device by a single heater.例文帳に追加

単一のヒータで、被処理基板の反りや実デバイスに応じた温度制御を可能にし、線幅の均一化等を図ると共に、製品歩留まりの向上を図れるようにすること。 - 特許庁

This upper tray 4 is adapted to let balls flow down from a prize ball outlet to a ball supply port and finally guide and align the balls in a line by sequentially decreasing the width of a ball passage 7.例文帳に追加

上皿４は賞球出口側から球供給口側へ球を流下させ且つ球の流路７の幅を順次狭めて球を最終的に一列に誘導整列させるものである。 - 特許庁

A coupler 11 is made of a metallic plate, the cross section of the coupler 11 is channel-shaped to surround a feeder (line) 12, and has a width (k) in an extension direction of the feeder 12.例文帳に追加

結合器１１は金属板からなり、給電線（線路）１２を囲むように断面がコの字状をしており、給電線１２の延長方向に所定幅ｌの広がりを持つ。 - 特許庁

To stably manufacture a transfer master disk substrate with a surface formed with rugged pattern excellent in line width accuracy, and excellent in pattern shape accuracy where pattern defect is inhibited.例文帳に追加

表面凹凸パターンの線幅精度が良好で、パターン欠陥が抑制されパターン形状精度が良好な転写用原盤基板を安定的に製造することを可能とする。 - 特許庁

To accurately detect a focus, to highly accurately measure and inspect even when the line width of a pattern on a semiconductor and the pitch of the pattern become equal to or below the wavelength of an optical system.例文帳に追加

半導体のパターンの線幅、ピッチが光学系の波長以下になった場合であっても、正しいフォーカス検出を行い、高精度の計測及び検査技術を行うこと。 - 特許庁

The display of the colored character "B" with the line width set at the time of input is performed when it is determined that no event occurs after the display of the preview handwritten input.例文帳に追加

入力時の設定での線の太さで、色が付された状態の「Ｂ」の文字の表示は、プレビュー用手書き入力の表示後、イベントが発生していないと判定されたときに行われる。 - 特許庁

To provide an exposure system, an exposure apparatus, a substrate processing apparatus, a pattern forming method, and a semiconductor device manufacturing method for enhancing the uniformity of line width of a resist film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成されるレジスト膜の線幅均一性を向上させる露光システム、露光装置、基板処理装置、パターン形成方法、及び半導体デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

The line width of each of portions 16 of grounding ends 2b, 4b of the inductor strip lines 2, 4 is smaller than that of the portions 15 of opening ends 2a, 4a.例文帳に追加

そして、曲折部２ｃ，４ｃを境にして、インダクタ用ストリップライン２，４の接地端２ｂ，４ｂ側の部分１６のライン幅が、開放端２ａ，４ａ側の部分１５のライン幅より細くなっている。 - 特許庁

To provide a process managing method with which dispersion of an increase amount of line width by a flow can be managed with high measurement precision and high throughput by using an optical inspection device.例文帳に追加

フローによる線幅の増加量のばらつきの管理を光学的検査装置を用いて高い測定精度、且つ高スループットに行うことができるプロセス管理方法を提供する。 - 特許庁

The two pipes constituting the pipe pairs are each provided with a plurality of blowout ports in the form of holes having a prescribed size or in the form of a line of slit having a prescribed width.例文帳に追加

パイプ対を構成する２本のパイプにはそれぞれ複数個の、所定の大きさを有する孔状又は所定の幅を有する一条のスリット状の吹出し口が設けられる。 - 特許庁

To sufficiently assure lithography process tolerance, such as exposure tolerance and depth of focus, while reducing the line width difference by the pattern density of resist patterns without exerting load on manufacturing a mask.例文帳に追加

マスクの製造に負荷をかけることなく、レジストパターンのパターン密度による線幅差を縮小しつつ、露光裕度および焦点深度などのリソグラフィプロセス裕度を十分に確保する。 - 特許庁