「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

The image processor draws a vehicle width guide line W indicating a standard of vehicle width on the composite image 43 and a predicted arrival position indicator P indicating a predicted route of the vehicle C to a predetermined distance from a retreat-starting position toward the advancing direction on the basis of a steering angle of the vehicle C.例文帳に追加

画像プロセッサは、車幅の目安を示す車幅ガイド線Ｗを合成画像４３上に描画するとともに、車両Ｃの予想進路を示す予想到達位置指標Ｐを、車両Ｃの舵角に基づき、後退開始位置から進行方向に向かって所定距離まで描画する。 - 特許庁

Furthermore, the system control apparatus 401 receives a specification of a photographing area of at least two directions of a body axial (z) direction, a horizontal (x) direction, or a vertical (y) direction (photographing area line 85), and the opening width of a collimator 203 is controlled in order to irradiate X rays with the irradiation width corresponding to the radiographing area.例文帳に追加

更に、システム制御装置４０１は、体軸（ｚ）方向、左右（ｘ）方向、または上下（ｙ）方向の少なくとも２方向の撮影範囲の指定を受け付け（撮影範囲ライン８５）、撮影範囲に応じた照射幅でＸ線を照射するよう、コリメータ２０３の開口幅を制御する。 - 特許庁

A block land part 4 of the outermost side land part train 8 in the tire width direction has a notched part 9 and at least a part of the notched part 9 is superposed on the block land part 4 in a region adjacent to the center land part train 6 in the tire width direction when projected on a line parallel to the tire circumferential direction.例文帳に追加

また、タイヤ幅方向最外側の陸部列８のブロック陸部４に切り欠き９を具え、該切り欠き９の少なくとも一部は、タイヤ周方向に平行な線へ投影したとき、中央陸部列６のタイヤ幅方向に隣接している領域のブロック陸部４と重なっている。 - 特許庁

The generation of the abnormal pulse accompanied with the updating of the pulse width setting register value in the process of recording operation is prevented, since the production of the recording pulse line is made to be stopped by e.g. turning off a write gate signal when the value of the pulse width setting register is updated in the process of recording operation.例文帳に追加

記録中にパルス幅設定レジスタの値を更新する際には、例えば、ライトゲート信号をオフとすることにより、記録パルス列の生成を停止させるようにしたので、記録動作中のパルス幅設定レジスタ値更新に伴う異常パルス発生を防ぐことができる。 - 特許庁

By using light with a wide irradiation area in exposing, adjacent wires are also slightly exposed, consequently a plurality of wires are irradiated in a high density region, thereby an integral of energy is accumulated and the correction of the exposure width (a line width or a spacing) is achieved.例文帳に追加

露光時に広い照射エリアを有した光を用いることにより、隣接する配線にも微量に露光を行うため、密度の高い場所では複数本照射されることによりで積算エネルギーが累積され、露光幅（ライン又はスペース幅）の補正を行うことができる。 - 特許庁

The device is equipped with LCSs(liquid crystal shutters) 11 which control output gradations of the image by adjusting the quantity of monochromatic light by pixels according to original image information and an optical retardation plate 10 which has width corresponding to at least the width of the line light in a horizontal scanning direction and optically uniform characteristics.例文帳に追加

原画像情報に応じて、各画素毎における単色光の光量を調整して、画像の出力階調を制御するＬＣＳ１１と、少なくとも上記ライン光の主走査方向の幅に相当する幅を有し、光学的に均一な特性を有する位相差板１０とを備える。 - 特許庁

The stationary barrel 160 is turned within the broad width part from an arcuate part side on one end side in a transverse direction by the energizing force of a torsional spring 184, thereby, the top end of a straight line part 178 on the other end side of the arcuate part is held in abutment on the slopes of the broad width part.例文帳に追加

固定コマ１６０は、捩りばね１８４の付勢力によって、幅方向の一端側の円弧状部側から拡幅部内で回動されることにより、円弧状部の他端側の直線状部１７８の上端部が拡幅部の斜面に当接して保持される。 - 特許庁

The spool 4 includes a fishing line-winding drum part 4a for winding the fishing line and a tubular skirt part 4c, and at the end part region of front and rear of the skirt part 4c, penetrating holes 20, 21 having a uniform width and hexagonal and trapezoidal forms are formed along its circumferential direction and also at a middle region, the penetrating holes 20 having a uniform width and the hexagonal form are formed.例文帳に追加

そして、スプール４は、釣糸が巻回される釣糸巻回胴部４ａと筒状のスカート部４ｃとを備えており、スカート部４ｃの前後の端部領域には、均等幅で六角形状及び台形状の貫通孔２０，２１が周方向に沿って形成されると共に、中間領域には、均等幅で六角形状の貫通孔２０が形成されている。 - 特許庁

A closed caption decoder 2 extracts start line information denoting a horizontal scanning start position and end line information denoting a horizontal scanning end position in a vertical direction of an effective area of the video signal to calculate the vertical video image width of the effective image area and controls a display position of the closed caption information on the basis of the obtained vertical video image width.例文帳に追加

クローズドキャプションデコーダ２にて映像信号の有効画像領域の垂直方向の水平走査開始位置を示すスタ−トライン情報と、水平走査終了位置を示すエンドライン情報とを抽出して有効画像領域の垂直方向映像幅を算出し、該垂直方向映像幅に基づいてクロ−ズドキャプション情報の表示位置を制御する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing copper conductive films used for wiring of an image display device, for plating with a uniform plating height in a case where the maximum line width of a level difference structure is four times or more of the minimum line width thereof, and for easily forming a copper wiring pattern having less resistance variation between the level difference structures, without significantly deteriorating the productivity.例文帳に追加

画像表示装置の配線等として用いられる銅導電膜を形成する際に、生産性を大きく低下させることなく、段差構造体の最大線幅が最小線幅に対して４倍以上である場合においても均一なめっき高さでめっきを行ない、段差構造体間での抵抗ばらつきの小さい銅配線パターンを容易に形成できるようにする。 - 特許庁

A photographing method includes: a diaphragm setting means for setting the diaphragm of a lens by a line camera and a distance of a distant object; an entire width setting means for setting the entire width of the distant object to be recorded; and a rotational speed setting means for setting the sub scanning speed of a rotation means by a numerical value set by a distance setting means and the entire width setting means.例文帳に追加

本発明は、ラインカメラと遠方対象物の距離とでレンズの絞りを設定する絞り設定手段と、記録する遠方対象物の全幅を設定する全幅設定手段と、距離設定手段と全幅設定手段で設定された数値を用いて回転手段の副走査速度を設定する回転速度設定手段と、からなることを特徴とする。 - 特許庁

In transferring the image data to a white/black dual beam print engine, a CPU 12 sets in a register (not shown in Figure) a transfer start address, data transfer quantity and address shift quantity by each DMAC, so that the two DMAC used for transferring the image data input/transfer the image data at every one line by one line each, corresponding to the data width d of one line.例文帳に追加

白黒デュアルビームプリントエンジンに画像データを転送する場合には、ＣＰＵ１２は、１ラインのデータ幅ｄに応じて、転送に使用する２つのＤＭＡＣが１ライン置きに１ライン分ずつ画像データを入力して転送するように、各ＤＭＡＣ毎に、転送開始アドレス、データ転送量、及びアドレスシフト量を図示しないレジスタに設定する。 - 特許庁

The line width of at least either one of the common electrode and the pixel electrode is larger than the interval between the common electrode and the pixel electrode and the film thickness of at least one side of the common electrode and the pixel electrode is larger than that of at least one side of the scanning signal line and the video signal line.例文帳に追加

前記共通電極及び前記画素電極の少なくとも何れか一方の線幅は、前記共通電極と前記画素電極との間の間隙よりも大きく、かつ、前記共通電極及び前記画素電極の少なくとも何れか一方の膜厚は、前記走査信号線及び映像信号線の少なくとも何れか一方の膜厚よりも大きい。 - 特許庁

At least one piece of ruled line information, wherein respective positions of two reference points are represented by a combination of one piece of cell identification information specific to a plurality of cells arranged in matrix form and having the width of a plurality of dots in each of the line direction and the column direction, the number of line offsetting, and the number of column offsetting, is stored in a HDD 13.例文帳に追加

罫線上の２つの基準点のそれぞれの位置を、マトリクス状に並び、かつライン方向およびカラム方向のそれぞれについて複数ドット分の幅を有した複数のセルに固有のセル識別情報の１つとラインオフセット数とカラムオフセット数との組み合わせにより表した罫線情報をＨＤＤ１３に少なくも１つ記憶する。 - 特許庁

Then a small area extract section 14 extracts an area with a width by a 2nd prescribed number of pixels from each area extracted by the shadow extract section 11 and the dot extract section 12, and a line segment correction section 15 corrects the line segments extracted by the line segment extract section 13 on the basis of the extracted area.例文帳に追加

そして、シャドー抽出部１１および網点抽出部１２で抽出された各領域から、小領域抽出部１４によって第２の所定画素数分の幅を有する領域を抽出し、この抽出された領域に基づいて、線分補正部１５において線分抽出部１３によって抽出された線分の補正を行う。 - 特許庁

When image width is to be vertically increased, is there if no longer an empty space for writing in the line buffer memories 226, the writing and reading of image data to and from the line buffer memories 226 is prohibited, and pixel data of a prescribed amount for enlargement prepared in advance in an additional line buffer memory 229 is transferred to an output layer.例文帳に追加

画像幅を副走査方向に拡大する処理を施す場合において、ラインバッファメモリ群２２６に書込み用の空きがなくなるときには、ラインバッファメモリ群２２６に対する画像データの書込みおよび読出しを禁止し、予め追加ラインバッファメモリ２２９に用意された拡大用の所定量分の画素データを出力段に転送する。 - 特許庁

In a laser surveying apparatus target 6A constructed of an acrylic plate 10 carrying the reference line 20, an isosceles triangular cutout 50 having a center line 52, which matches the reference line, and a base 54 slightly longer than a width d of an irradiated part 26, which is irradiated with a laser beam emitted from the laser surveying apparatus, on the acrylic plate is arranged in the acrylic plate.例文帳に追加

基準線（２０）が描かれたアクリル板（１０）からなるレーザ測量機用ターゲット（６Ａ）において、基準線と一致する中心線（５２）と、レーザ測量機から出射されるレーザビームによるアクリル板上の照射部分（２６）の幅（ｄ）よりもいくらか長い底辺（５４）とを有する二等辺三角形の切欠き（５０）をアクリル板に設けた。 - 特許庁

A line width of at least either the common electrode 3 or the pixel electrodes 4 is larger than a gap between the common electrode and the pixel electrode 4, and a film thickness of at least either the common electrode 3 and the pixel electrode 4 is thicker than that of at least either the scanning signal line 6 or the video signal line 5.例文帳に追加

共通電極３及び画素電極４の少なくとも何れか一方の線幅は、前記共通電極と前記画素電極との間の間隙よりも大きく、かつ、共通電極３及び画素電極４の少なくとも何れか一方の膜厚は、走査信号線６及び映像信号線５の少なくとも何れか一方の膜厚よりも大きい。 - 特許庁

To provide a semiconductor device wherein a cell array area can be reduced by forming a bit line contact in a cell array region in a narrow width and junction leakage can be prevented by reducing resistance in word lines and the bit line contact, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

セルアレイ領域におけるビット線コンタクトの幅を小さく形成し、セルアレイ面積を縮小することが可能になるとともに、ワード線およびビット線コンタクトを低抵抗化し、ジャンクションリークを改善することが可能になる半導体装置およびその製造方法を提供する - 特許庁

A light receiving region 100 of a profile sensor 7 and light transmitting/blocking parts 4 arranged in a scale plate 3 satisfy the relational expression W/2<D<W, wherein the width of the light receiving region 100 is W and the distance between adjacent light transmitting/blocking parts 4 over a line L1 and a line L2 is D.例文帳に追加

プロファイルセンサ７の受光領域１００と、スケール板３に配置された光透過／遮断部４とは、受光領域１００の幅をＷ、ラインＬ１上とラインＬ２上とに渡って隣り合う光透過／遮断部４の距離をＤとした場合に、Ｗ／２＜Ｄ＜Ｗの関係式を満たす。 - 特許庁

A fine slit pattern structure of a predetermined shape is executed in respective printing elements and/or dots of a line drawing and/or a dot pattern on a basic image A expressing the face image of a person by continuously changing the printing element width or the diameter of the line drawing and/or the dot pattern.例文帳に追加

線画及び／又はドットパターンにおける画線幅や直径を連続的に変化させて人物の顔画像を表現した基本画像Ａに対して、前記線画及び／又はドットパターンのそれぞれの各画線内及び／又は各ドット内に一定形状の微小スリットパターン構造を施す。 - 特許庁

The scan control part 401 outputs a driving signal LD2 for the light source 41 synchronized with the second line period T2 as a pulse signal divided into a plurality of the same pulse width T5, so that the light emission time for the first and second line periods T1 and T2 are equalized.例文帳に追加

走査制御部４０１は、第１及び第２のライン周期Ｔ１，Ｔ２における発光時間が等しくなるように、第２のライン周期Ｔ２に同期する光源４１への駆動信号ＬＤ２を同一パルス幅Ｔ５に複数分割したパルス信号として出力する。 - 特許庁

Inspection inner interconnect lines 53 connected to the inspection through-hole copper plating layer 49 are provided inside the printed wiring board 37, and the inspection inner interconnect line 53 is connected to the through-hole copper plating layer 41 provided on the inner wall of the through-hole 39 with a connector 55 smaller in width than the inspection inner interconnect line 53.例文帳に追加

プリント配線基板３７の内部には、検査用スルーホール銅めっき４９に接続する検査用内層配線５３を設け、検査用内層配線５３と、スルーホール３９の内壁のスルーホール銅めっき４１とを、検査用内層配線５３よりも幅の狭い接続部５５で接続する。 - 特許庁

The width and length of the line 304 are set so that the characteristic impedance of the via hole connection part and the characteristic impedance of a microstrip line 301 for signal transmission are matched with each other in the wavelength of a signal to be transmitted.例文帳に追加

伝送すべき信号の波長において、ビアホール接続部の特性インピーダンスと信号伝送用のマイクロストリップ線路３０１の特性インピーダンスとが一致するように、整合調整用マイクロストリップ線路３０４の幅と長さおよび矩形スタブ３０３の幅と長さを設定する。 - 特許庁

In the peripheral region A, width thereof is 5 to 20 mm and maximum of the main stress difference averaged in a thickness direction on its central line is 20 to 40 MPa and minimum of the main stress difference averaged in the thickness direction on the central line is 8 to 25 MPa.例文帳に追加

周縁領域Ａは、その幅が５〜２０ｍｍであり、かつ、その中心線上における厚さ方向に平均化した主応力差の最大値が２０〜４０ＭＰａであり、中心線上における厚さ方向に平均化した主応力差の最小値が８〜２５ＭＰａである。 - 特許庁

The moving track of the vehicle is predicted from yaw rate and vehicle speed, and in which position within the traffic line width the vehicle is traveling is decided by deciding a lateral pair (for example, T3 and T4) of stopped matters (cat's eye or white line) set along the sides of the traffic lane.例文帳に追加

ヨーレートおよび車速から自車の進行軌跡を予測するとともに、物体検知装置で車線の側部に沿う停止物（キャッツアイや白線）の左右ペア（例えばＴ３，Ｔ４）を判定することにより、自車が車線幅内のどの位置を走行しているかを判定する。 - 特許庁

In the low wind-noise overhead power transmission line 3 formed by winding a spiral rod 2 to an overhead transmission line 1, a reverse-winding spiral rod 4 reverse in spiral direction is wound to a winding zone of the spiral rod 2 with the same width as that of the spiral rod 2 and the same spiral pitch as that of the spiral rod.例文帳に追加

架空送電線１にスパイラルロッド２を巻き付けてなる低風騒音架空送電線３において、前記スパイラルロッド２の巻き付け区間に、当該スパイラルロッド２と同じ太さ、同じらせんピッチで、らせん方向が逆方向の逆巻きスパイラルロッド４を巻き付ける。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that is satisfactory with respect to high sensitivity, high resolution of a dense pattern and an isolated line, sufficient exposure latitude, proper line width roughness, proper bridge margin and high resolution of isolated space, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

高感度、密集パターンおよび孤立ラインの高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、良好なブリッジマージン、孤立スペースの高解像性を同時に満足する感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The bending line 52A of the second bending portion 52 is set to incline toward the outside in the vehicle width direction toward the rear side of the vehicle by a vehicle plane view, while the bending line 50A of the first bending portion 50 is set to extend along the longitudinal direction of the vehicle by a vehicle plan view.例文帳に追加

第一屈曲部５０の折れ線５０Ａが車両平面視で車両前後方向に沿って延在するように設定されているのに対し、第二屈曲部５２の折れ線５２Ａは車両平面視で車両後方へ向けて車幅方向外側に傾斜するように設定されている。 - 特許庁

A two-dot wide white line supplementation processing part 31 of a preprocessing part 3 connects a character line segment of two-dot width to the segmented character image data, and a reference variable filter processing part 32 further eliminates noise and performs smoothing processing while minimizing the increase of throughput.例文帳に追加

切り出された文字画像データは、前処理部３の２ドット幅白ライン補完処理部３１で２ドット幅の文字線切れが接続され、さらに、参照可変フィルタ処理部３２で、処理量の増加を最小限に抑えながら雑音の除去及び平滑化処理が行われる。 - 特許庁

The gate oxide film 213 of the auxiliary gate 223a is thicker than the gate oxide film 211 of the floating gate 221b, and the size (gate width) of the auxiliary gate 223a in the extension direction of the word line WL is smaller than the gate length of the floating gate 221b in an extension direction of the word line WL.例文帳に追加

補助ゲート２２３ａのゲート酸化膜２１３の厚さは、浮遊ゲート２２１ｂのゲート酸化膜２１１の厚さよりも薄く、ワード線ＷＬの延在方向における補助ゲート２２３ａの寸法（ゲート幅）は、ワード線ＷＬの延在方向における浮遊ゲート２２１ｂのゲート長よりも小さい。 - 特許庁

After a copper plating layer 16 is formed on the surface of a lower-side metal layer 14 on the lower surface 11B of an original substrate 11, an insulating resin layer 19 is formed to cover the copper plating layer 16 on a cut line L extending over the entire width along the cut line L.例文帳に追加

元基板１１の下面１１Ｂ上の下側金属層１４の表面に銅めっき層１６が形成された後、切断ラインＬ上において、その銅めっき層１６を切断ラインＬに沿う方向の全幅にわたって覆うように絶縁樹脂層１９が形成される。 - 特許庁

A belt line reinforcement 18 is constituted of an outer panel 14 and an inner panel 16, and a main protruded part 24 a projected end 24T of which is positioned outside in the vehicle width direction of a flexural neutral shaft BC of the closed cross-section type belt line reinforcement 18, is formed on an inner side bulging part 22.例文帳に追加

アウタパネル１４とインナパネル１６とでベルトラインレインフォースメント１８が構成され、インナ側膨出部２２には、突出端２４Ｔが、閉断面形状のベルトラインレインフォースメント１８の曲げ中立軸ＢＣよりも車幅方向外側に位置する主凸部２４が形成される。 - 特許庁

The disposable diaper of a type to secure with a tape has a center line formed along the lengthwise direction of the diaper in approximately the center of the width of a part between the legs on the side of a top sheet and contains a preventive agent for diaper rash including a natural plant extract ingredient in the center line.例文帳に追加

テープ止めタイプの使い捨て紙おむつにおいて、トップシート側における股間部幅方向のほぼ中央部に、おむつの長手方向に沿ってセンターラインを設けるとともに、該センターラインに天然植物エキス成分を配合したおむつかぶれ防止剤を含有させる。 - 特許庁

The cumulative one-dimensional data written in the line memory after processing the whole time-phase data reflect the substantial width of the Doppler waveform in the maximum PRF and the offset quantity of the base line and the optimal PRF are calculated by linearly projecting the one-dimensional data on display coordinates.例文帳に追加

全時相データの処理後にラインメモリに書き込まれた累積一次元データは、最大ＰＲＦにおけるドプラ波形の実質的な幅を反映したものであり、この一次元データを表示座標に線形投射することによりベースラインのオフセット量及び最適ＰＲＦを算出する。 - 特許庁

To provide a semiconductor storage device which has a floating gate and a control gate and whose source and drain regions are asymmetrical and which can avoid the increase of the resistance of a bit line arranged between the floating gates in itself and besides can scale down the bit line width.例文帳に追加

フローティングゲート及びコントロールゲートを有し、ソース／ドレイン領域が非対称である半導体記憶装置におけるフローティングゲート間に配置されるビット線抵抗の増大を避け、かつ、ビット線幅を縮小することができる半導体記憶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, a fourth insulating film 10 is deposited on the first insulating film pattern 9, a resist pattern is formed again, and spacer processing and anisotropic etching processing are performed to form a spacer part with the width F/2 on a line part of the first insulating film pattern 9 and form a line and spacer pattern with a pattern pitch F.例文帳に追加

更に、第１の絶縁膜パターン９上に第４の絶縁膜１０を堆積させ、再びレジストパターン形成、スペーサ加工、及び異方性エッチング処理を施すことで、第１の絶縁膜パターン９のライン部にＦ／２の幅のスペース部を形成してパターンピッチＦのラインアンドスペースパターンを形成する。 - 特許庁

The laser light 9 has a linear irradiation shape including a line 9a proceeding obliquely downward from an optical system and landing on the floor surface 2 and a line 9b proceeding straight and having the width in the vertical direction to the floor surface 2, and the section 9c has a shape whose upper side in the vertical direction is rather thickened.例文帳に追加

レーザー光９は、光学系により斜め下方に進んで床面２上に乗るライン９ａと、直進するライン９ｂを含む、床面２に対する垂直方向に幅を有する線状の照射形状とされ、断面９ｃは垂直方向上側がやや太くなる形状を有している。 - 特許庁

The work W is clamped by a clamp device 39 provided in a cutting width positioning device 41, the clamp device 39 moves forward to almost cross to a cutting line CL of a sawtooth BS in a right angle direction on the table 23 and the cutting position of the work W is positioned in the cutting line CL of the sawtooth BS.例文帳に追加

このワークＷを切断幅位置決め装置４１に備えたクランプ装置３９でクランプし、クランプ装置３９がテーブル２３上で鋸刃ＢＳの切断ラインＣＬに対してほぼ直交方向に前進してワークＷの切断位置を鋸刃ＢＳの切断ラインＣＬへ位置決めする。 - 特許庁

This silenced splitter for a wide width stretched film is a rotor comprising a polygonal column of polygonal cross section, is formed screw-thread-likely with a large number of cutting edges in a ridge line part of a polygon thereof, and is formed spirally crookedly with a rod-like ridge line part having a polygonal cross section.例文帳に追加

断面が多角形の多角柱からなる回転体であって、この多角形の稜線部に多数の刃がネジ山状に形成され、断面が多角形の棒状体の稜線部がラセン状に捻れて形成されていることを特徴とする、広巾延伸フィルム用消音スプリッター。 - 特許庁

An angle θ between a straight line 14 connecting the center of the irradiation part 11a and the point closest to the center of the irradiation part 11 in the end edge 6a of a display area 6 and a horizontal line 15 extending in the width direction from the center of the irradiation part 11a is set to 80° or less.例文帳に追加

また、照射部分１１ａの中心と表示エリア６の端縁６ａにおける照射部分１１ａの中心に最も近い点とを結ぶ直線１４と、この照射部分１１ａの中心から幅方向に延びる水平線１５とのなす角度θを、８０°以下とする。 - 特許庁

In a built-in voltage dividing resistor, a metallic thin film having width not less than 1 mm is placed on the dielectric tapetum face of inner wall side of the neck part, between the middle voltage terminal of the voltage dividing resistor and the discharge control metallic line, and in at least not less than 1 mm from the metallic line.例文帳に追加

内臓された分圧用抵抗器の、ネック部内壁側の絶縁被膜面上であって、分圧抵抗器の中間電圧端子と放電抑制金属線との間で、この金属線から少なくとも１ｍｍ以上離間した位置に１ｍｍ以上の幅の金属薄膜を設ける。 - 特許庁

The propagation delay characteristics for the predetermined length of the branch lines L21-L24 are established to appropriate characteristics by which the phase of an input signal to each input terminal is aligned, by adjusting, for example, line width and line thickness of the branch lines L21-L24, and the dielectric ratio of a semiconductor substrate.例文帳に追加

分岐線Ｌ２１〜Ｌ２４の所定長あたりの伝播遅延特性は、例えば分岐線Ｌ２１〜Ｌ２４の線幅や、線の厚み、半導体基板の誘電率などを調節することによって、各入力端子への入力信号の位相が揃う適切な特性に設定される。 - 特許庁

To control the operation such that an edge having a level difference is made smoother and longitudinal, lateral or oblique line has a uniform line width when a document is read out with a scanner, a digital image signal thus obtained is subjected to image processing and an image is reproduced on a transfer sheet by means of a printer.例文帳に追加

スキャナー等により原稿を読み取り、得られたディジタル画像信号に対して画像処理をおこない、プリンター等において転写紙に画像を再生するにあたり、段差のあるエッジ部分をより滑らかにしたり、縦線や横線や斜め線が一様の線幅となるように制御すること。 - 特許庁

Then, when it is decided that the coin 2 has reached a reading region by specific line reading processing for reading the image data of a specific line L which is long in the width direction of the conveyance path B, the CPU 401 executes all range reading processing of reading the image data of the all ranges successively.例文帳に追加

そして、ＣＰＵ４０１を、搬送路Ｂの幅方向に長い特定ラインＬの画像データを読取る特定ライン読取処理にて硬貨２が読取部位に達したと判定すると、続いて全範囲の画像データを読取る全範囲読取処理を実行する構成にした。 - 特許庁