「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern forming method with the excellent exposure latitude (EL) and focus margin (DOF) capable of reducing the line width irregularity (LWR) and residual defect, a chemically amplified resist composition and a resist film.例文帳に追加

露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れ、線幅バラツキ（ＬＷＲ）及び残渣欠陥を低減できるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To virtually improve the lengthwise resolution of subpixels of a character display device and to freely vary the line width of a character without using a large-capacity work memory.例文帳に追加

文字表示装置において、大容量の作業用メモリを用いることなく、サブピクセルの長手方向の解像度を擬似的に向上させると共に、自由に文字の線幅を変更することができるようにする。 - 特許庁

A lighting unit body 65 constituting the reading light 32, 34 is installed substantially coincident with a line in a vehicle body width direction passing through a rotation shaft 17 for changing the direction of the seat of the transverse seat 10.例文帳に追加

読書灯３２，３４を構成する灯具本体６５は、横形腰掛１０の座席の向きを変えるための回転軸１７を通る車体幅方向の線上にほぼ一致して設置されている。 - 特許庁

Thus, since a voltage change width is halved in the periods T3 and T1, current is halved, and thereby, the power consumption can be halved, when the voltage of the auxiliary capacitance line is changed.例文帳に追加

このように、期間Ｔ３、Ｔ１での電圧変化の幅が半減し、それにより電流も半減し、補助容量線の電圧を変化させる際の電力消費量を半減させることができる。 - 特許庁

The outline of the light reception face 7a1 is shaped so that the traffic lane width direction dimension of an uplink region UA can be almost fixed, and that the uplink region UA can be set in the traffic line.例文帳に追加

この受光面７ａ１の輪郭形状は、アップリンク領域ＵＡの車線幅方向寸法を略一定にするとともにアップリンク領域ＵＡを車線内に設定する形状とされている。 - 特許庁

To provide the automatic guidance device of an autonomous traveling vehicle capable of making a vehicle body accurately perform its autonomous traveling along a guide line even when a floor surface is bumpy, and the vehicle body is inclined in a vehicle width direction.例文帳に追加

床面に凹凸があって車体が車幅方向へ傾斜しても、車体を誘導線に沿って正確に自律走行させることができる自律走行車のオートガイダンス装置を提供する。 - 特許庁

The patterns 57 and 59 are restrained from intersecting joints 63 and 67 of the fields 61 and 65 on the original plates, so that the exposure patterns can be prevented from degrading in control accuracy of the exposure line width at joints.例文帳に追加

各々の原板では、フィールド６１、６５の繋ぎ部６３、６７にはパターン５７、５９がかからないようにしたので、繋ぎ部において露光線幅の制御精度が損なわれることが回避される。 - 特許庁

To provide a novel metal cluster aggregate having a line width ranging from 10 to 300 nm, a polymethyl methacrylate-metal cluster complex for manufacturing the aggregate, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

発明の課題は、線幅が１０〜３００ｎｍの範囲にある新規な金属クラスター集合体、この集合体を製造するためのポリメチルメタクリレート− 金属クラスター複合体及びその製造方法の提供。 - 特許庁

A plurality of independent circular closed loop conductive foils with prescribed line width are provided in the inner side surface of the tire 50 without a metal mesh or metal wire attached to a wheel 43.例文帳に追加

ホイール４３に装着される金属メッシュや金属ワイヤ等を有しないタイヤ５０の内側表面に、所定の線幅を有する独立した複数本の円形閉ループの導体箔５３が設けられている。 - 特許庁

To provide a substrate processing unit in which the line width of a circuit pattern being formed on a substrate can be kept at a constant level by keeping a constant time elapsing before starting heat treatment after exposure processing.例文帳に追加

露光処理が行われてから加熱処理が行われるまでの時間を一定に保ち、基板上に形成される回路パターンの線幅を一定に保つことができる基板処理装置の提供。 - 特許庁

The clock skew is eliminated by adjusting the transmission delay time of a signal in the clock wire 1 by varying the line width of the shield wires 2 and varying the wiring capacitance of the clock wire 1.例文帳に追加

シールド配線２の線幅を変え、クロック配線１の配線容量を変化させることにより、クロック配線１を伝搬する信号の伝搬遅延時間を調整し、クロックスキューがないようにする。 - 特許庁

To provide a laser aligner for lithography that makes possible a lithography exposure of sub-micron units such as a pattern line width of 0.3 μm corresponding to a 64-bit DRAM having high integration density.例文帳に追加

高集積密度の高い６４ビットＤＲＡＭに対応するパターン線巾０．３μｍというサブミクロン単位の描画露光が可能となるリソグラフィ用レーザ露光装置を提供する事を目的とする。 - 特許庁

The inner rotary brushes 55 and the outer rotary brushes 56 are arranged at opposite sides in a width direction by respectively sandwiching the front wheel 92 and the rear wheel 94 and are offsetly arranged in an axial line.例文帳に追加

内側回転ブラシ５５と外側回転ブラシ５６とは、前車輪９２、後車輪９４を挟んで幅方向の反対側に位置しており、かつ軸線方向にオフセットして配置されている。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an ion implantation process which ensures a good profile, a small change in line width at the time of variation in film thickness, and large exposure latitude, and an ion implantation method using the same.例文帳に追加

プロファイル良好で、膜厚変動時の線幅変化が小さく、露光ラチチュードが広い、イオン注入工程用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたイオン注入方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive composition for color filter not only having sufficient hardening property even with a low exposure but also having an excellent pattern shape, further forming a pixel pattern with a narrow line width.例文帳に追加

低露光量でも十分な硬化性を有するのみならず、パターン形状に優れかつ線幅が狭く画素パターンを形成することができる新規なカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

The only tension force on the approximately central line in the longitudinal direction of the tension force by the adjust bolt part 13a is applied to the travel belt, and the only tension uniform in the width direction is transmitted to the belt.例文帳に追加

アジャストボルト部１３ａによる引張力は、走行用ベルトに対して長手方向略中心線上の引張力のみが付与され、ベルトにはその幅方向に均一な張力のみが伝達される。 - 特許庁

To make it possible to heighten the bonding strength between a glass substrate and a sealing layer even in the case where the line width of the sealing layer and the space between glass substrates are narrowed in adopting laser sealing.例文帳に追加

レーザ封着を適用するにあたって、封着層の線幅やガラス基板間の間隔を狭小化する場合においても、ガラス基板と封着層との接着強度を高めることを可能にする。 - 特許庁

Consequently, the compact light receiving element can be adopted when compared with the case where an image sensor and a line sensor being longer than the whole width of the sheet 100 are used, and the whole device can be miniaturized.例文帳に追加

これにより、シート１００の全幅よりも長いイメージセンサやラインセンサなどを用いる場合と比較し、小型の受光素子を採用することができ、装置全体を小型化することができる。 - 特許庁

At least, the line width of part of scale marks 13 and 14 at every specified scale mark gap increase from the end of one side edge of the ruler body 11 toward the other end or its vicinity.例文帳に追加

少なくとも所定目盛間隔毎の一部の目盛線１３，１４の線幅は、定規本体の一側縁側の端部から反対端部又はその近傍に向かうに従って増大している。 - 特許庁

An average position of a contact E4 between the second vane 211 and the second piston 209 is offset toward the second delivery space side than a center line L4 with respect to width direction WD of the second vane 211.例文帳に追加

第２ベーン２１１と第２ピストン２０９との接点Ｅ４の平均位置が、第２ベーン２１１の幅方向ＷＤに関する中心線Ｌ４よりも第２吐出空間側にオフセットしている。 - 特許庁

The lenses 2, 2, ... are mounted on a line leaned to one side from the centerline in the width direction of the LED substrate 20, and it is preferable that the reflector sections 21, 21, ... are arranged so as to project to one side only of the LED substrate 20.例文帳に追加

ＬＥＤ２，２…をＬＥＤ基板20の幅方向中心線から一側に偏倚した線上に実装し、ＬＥＤ基板20の一側のみに張り出すようにリフレクタ部21，21…を設けるのが望ましい。 - 特許庁

To provide a method capable of forming a fine pattern without deteriorating the line width precision nor shape of a resist pattern when a remaining film of the pattern obtained by pressing a mold is removed.例文帳に追加

モールドをプレスすることにより得られたパターンの残膜を除去する際、そのレジストパターンの線幅精度、形状を劣化させることなく、微細なパターンを形成可能にする方法を提供する。 - 特許庁

A front-layer paper 2 of the roll paper 1, formed with a tear-off portion 6 that has a cut line 4 at a middle area in the width direction, and perforations 5 on both sides thereof, appears at every given interval in the length direction.例文帳に追加

ロールペーパー１の表層のペーパー２には、幅方向の中間部に切れ目４とその左右にミシン目５を入れた切り取り部６を長さ方向の所定間隔ごとに形成してある。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming a pattern with an excellent resolution, a wide exposure latitude (EL) and a small line width variation (LWR), a chemical amplification resist composition used in the method, and a resist film.例文帳に追加

解像力に優れ、露光ラチチュード（ＥＬ）が広く、また線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さいパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

The spray passage 44, of which a cross sectional shape along an exhaust flow line 51 is an approximate triangle and of which a width gradually increases from a projection side to an exhaust passage 42 side, is formed inside the projection part 43.例文帳に追加

張り出し部４３の内部には、張り出し側から排気通路４２側へ向けて漸次幅広となりかつ排気流線５１に沿う断面形状が略三角形となる噴霧通路４４が設けられる。 - 特許庁

First, a vehicle is selected as a parallel running object, the vehicle existing in a parallel running area in front of an own vehicle from a straight line extending in a vehicle width direction through a reference part set in the own vehicle.例文帳に追加

まず、自車両に設定した基準部分を通って車幅方向に延びる直線よりも自車両前方側の並走エリアに存在する他車両を並走対象として選択する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a conductive material by a simple method capable of obtaining a highly precise wiring pattern with superior conductivity without thickening of line width as seen at a plating process.例文帳に追加

めっき処理時に見られるような線幅の太りがなく、かつ簡便な方法によって、高精細かつ高導電性の配線パターンが得られる導電性材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

This muffler includes a woven fabric or a nonwoven fabric of an appropriate length and width attached to the front or back along the center line of the short side of the muffler, alternatively in a detachable manner.例文帳に追加

襟巻について、襟巻の表面または裏面に、襟巻の短辺の中心線に沿って、適当な長さと適当な幅の織物または不織布を取り付け、又は、着脱自在に取り付ける構造とする。 - 特許庁

To provide a gas insulation switchgear which can be reduced entirely or partially without limiting layout by minimizing influences exerted upon a dimension in a line width direction by a dimension limitation of a cable head.例文帳に追加

ケーブルヘッドの寸法制約による回線幅方向の寸法へ与える影響を極小化して、レイアウトを制約することなく全体または一部を縮小化できるガス絶縁開閉装置を提供する。 - 特許庁

In the packing band formed of a thermoplastic synthetic resin, two or more hollow grooves prolonged in the longitudinal direction of the band are formed in left-right symmetry using the center in the width direction of the band as the center line.例文帳に追加

また、熱可塑性合成樹脂により形成される梱包用バンドにおいて、バンドの巾方向中央を中心線として左右対称に、バンドの長さ方向へ延びる凹溝を複数形成した。 - 特許庁

The pneumatic tire 1 has a tread center section C lying in a region including a tire equator line CL; and a tread shoulder section S lying outside in a tread width direction of the tread center section C.例文帳に追加

本発明に係る空気入りタイヤ１は、タイヤ赤道線ＣＬを含む領域に位置するトレッドセンター部Ｃと、トレッドセンター部Ｃのトレッド幅方向外側に位置するトレッドショルダー部Ｓとを有する。 - 特許庁

By using the process solution as a rinsing solution during or after developing a patterned photoresist layer, post-development defects such as pattern collapse and line width roughness can be reduced.例文帳に追加

この処理溶液は、パターニングされたフォトレジスト層の現像の際又はその後にリンス溶液として用いられた場合に、パターンの倒壊又はライン幅の凹凸のような現像後の欠陥を低減することができる。 - 特許庁

In addition, the printing registration process is performed so that each feed direction edge 41a, 41b, 41c and 41d and each width direction edge 42a, 42b, 42c and 42d can be positioned in a straight line.例文帳に追加

各送り方向端縁４１ａ、４１ｂ、４１ｃ、４１ｄおよび各幅方向端縁４２ａ、４２ｂ、４２ｃ、４２ｄがそれぞれ一直線上に位置するよう印刷の見当合わせを行う。 - 特許庁

To provide a thermally developable photosensitive material giving a high contrast image of high maximum density with a slight change in image line width and little unevenness in density even by development in a humid environment.例文帳に追加

高湿環境下での現像処理でも画像線幅変動が少なく、濃度ムラの発生も少ない、硬調でかつ最高濃度が高い画像が得られる熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

A pulse light with a width TS for finding a range is repetitively emitted to the object and the sum of signal charges with respect to the light received for a storage period TU1 among the reflected light pulses (hatched line part A1) is detected as the distance information.例文帳に追加

被写体に幅Ｔ_S のパルス状の測距光を照射し、その反射光のうち蓄積期間Ｔ_U1に受光される光（斜線部Ａ１）に関する信号電荷を距離情報として検出する。 - 特許庁

To provide an adhesive supply apparatus for securing uniform and high filling space while maintaining narrow line width to prevent a sealing or an adhesive from flowing, and to provide an adhesive supply method.例文帳に追加

シール若しくは接着剤の流動防止のための線幅を細く維持しつつ、均一で高い充填空間を確保できる接着剤供給装置及び接着剤供給方法を提供する。 - 特許庁

In a lithography method, an original layout with line patterns and pad patterns is designed, and a pad pattern is extracted, and then a first reduction layout which is reduced by a first reduction width relative to the pad pattern layout is obtained.例文帳に追加

ラインパターン及びパッドパターンを含む原本レイアウトを設計して、パッドパターンを抽出した後、パッドパターンのレイアウトに対して第１縮小幅に縮小された第１縮小レイアウトを得る。 - 特許庁

Rubber gages in five places in the width direction of an upper side rubber sheet G_3 are measured by a rubber gage sensor 8 in a plurality of places in the longitudinal direction of the upper side rubber sheet G_3 and sent to the CPU of the in-line examination device which is not illustrated.例文帳に追加

ゴムゲージセンサ８により上側ゴムシートＧ_3の幅方向５箇所のゴムゲージを上側ゴムシートＧ_3の長手方向の複数箇所で測定し、図示されていないインライン検査装置のＣＰＵへ送る。 - 特許庁

An electric potential is supplied with a first cell power supply line 104 having a fixed width, from a first power supply strap 101 for supplying an electric potential to a first standard cell 108 to which an electric potential is supplied.例文帳に追加

電位を供給する第１の電源ストラップ１０１から電位供給を受ける第１のスタンダードセル１０８までは、一定幅の第１のセル電源線１０４で電位を供給する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a mask pattern which can eliminate presence of an optically isolated pattern as much as possible so as to transfer a mask pattern with desired line width or the like onto a photoresist.例文帳に追加

光学的に孤立した孤立パターンの存在を出来る限り無くし、所望の線幅等を有するマスクパターンをフォトレジストに転写することを可能とするためのマスクパターンの補正方法を提供する。 - 特許庁

In the fixed flange, in at least microstrip feed line direction, the size of the flange width d is such as to be selected to move the resonance mode, in the direction away from a useful bandwidth.例文帳に追加

固定フランジは、少なくともマイクロストリップ給電線方向において、フランジの幅ｄが共振モードを有用帯域から離間方向に移動するよう選択されるような寸法とされている。 - 特許庁

To provide a laser light source and its manufacturing method by which laser oscillation light with an extremely small line width of an emission spectrum can be obtained without an optical element such as an external resonator or the like.例文帳に追加

外部共振器等の光学素子を必要とすることなく、発光スペクトルの線幅が極めて小さいレーザ発振光を得ることができるレーザ光源及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, using second floors 13 made of a punching plate or the like on the housing bottom frame 2b, class 0 can be attained under a specific condition, hence enabling to manufacture a semiconductor device having a 0.1 μm line width.例文帳に追加

ここで、筐体底部フレーム２ｂ上にパンチング板等からなる第２の床１３を用いると、特定の条件下ではクラス０状態を実現でき、０．１μｍ線幅の半導体製造が可能となった。 - 特許庁

To make it possible to prevent deviation from the design of a lithography pattern that is caused by the switching of lithograph devices, when forming a resist pattern that includes a layout with a minimum line width of 100 nm or less.例文帳に追加

最小線幅が１００ｎｍ以下のレイアウトを含むレジストパターンの形成において、描画装置の切り替え作業に起因する描画パターンの設計からのずれを防止することを可能とする。 - 特許庁

Consequently, the yield is enhanced by embodying a meshed contact trench part of fine line width impossible to be formed by current photolithographic process while improving the bonding power and the reliability of the semiconductor element.例文帳に追加

したがって、現在のフォト工程では形成できない微細な線幅のメッシュ型コンタクト用トレンチ部を具現して収率を向上させ、ボンディング能及び半導体素子の信頼性を改善できる。 - 特許庁