「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a wavelength variable light source capable of performing high-precision wavelength control by suppressing an increase in spectrum line width and phase noise due to wavelength fluctuations exceeding a response speed of a motor.例文帳に追加

モータの応答速度以上の波長揺らぎによるスペクトル線幅の増大や位相雑音を抑制することによって高精度の波長制御を行うことができる波長可変光源を提供する。 - 特許庁

A detector 23 is provided in a recessed part 17 of a relative displacement member 16, and a line of action of an action body 24 is arranged in the direction which is close to the center of entrance 14 width and approaches a sliding door 15 face.例文帳に追加

相対変位部材１６の凹所１７に検出器２３を設け、出入口１４幅の中心寄りであって引き戸１５面に近づく方向に作動体２４の作動線を配置する。 - 特許庁

Lubricants are supplied to the fixed aprons 116 and 126 and the center guide rolls 118 and 128 installed at the central area in the crosswise direction of the metal stock to be rolled of the width reducing device located in the middle of the hot rolling line.例文帳に追加

熱間圧延ライン途中に設置された幅圧下設備の該被圧延金属材幅方向中央域に設置された固定エプロン１１６、１２６やセンターガイドロール１１８、１２８を潤滑する。 - 特許庁

The beam switching is carried out by rotating a mirror member 18 to reflect one part of reflecting light from a reflector 16 upward around a rotational axis line Ax1 extending in a vehicle width direction.例文帳に追加

リフレクタ１６からの反射光の一部を上方側へ反射させるミラー部材１８を、車幅方向に延びる回動軸線Ａｘ１回りに回動させることによりビーム切換えを行う構成とする。 - 特許庁

The projection pieces 3 are formed by bending a surface side along a straight line in a width direction of the bracket 2 and phase adjusting is performed by butting an inside edge of the projection pieces 2 on side edges of the clip 1.例文帳に追加

突片３をブラケット２の幅方向に沿う直線に沿って表面側に折曲げ形成したことにより、突片３の内側縁をクリップ１の側縁に当接させて位相決めするようにした。 - 特許庁

To provide an optical recording apparatus capable of acquiring predetermined resolution even when a line width of an exposure pattern is close to a wavelength of exposed light, and reducing time necessary for exposing, and to provide its method.例文帳に追加

露光パターンの線幅が露光光の波長に近い場合であっても所定の解像度が得られかつ露光に要する時間が低減する、光学的な記録装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

To easily adjust an exposure amount for each area finely set within a substrate surface, improve uniformity of a resist residual film after a development processing and suppress fluctuation in a line width and a pitch of a wiring pattern.例文帳に追加

基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を容易に調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave generator efficiently generating a high-output electromagnetic wave having a narrow line width in the range of 0.1 to 10 THz, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

０．１ＴＨｚから１０ＴＨｚの範囲の狭線幅の電磁波を高効率に高出力で発生させることを可能とする電磁波発生装置およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

Consequently, the terahertz wave having a frequency equal to a difference frequency between the pumping light and the synchronous injected light, and having a frequency-variable narrow spectrum line width between 0.3 THz to 11 THz, can be obtained.例文帳に追加

その結果、ポンプ光と同期注入光の差周波数に等しい周波数をもつ０．３ＴＨｚから１１ＴＨｚの間で周波数可変のスペクトル線幅の狭いテラヘルツ波が得られる。 - 特許庁

First of all, a light source 14a is structured as a line-segment light source extended in a car-width direction, and a first additional reflector 32 is provided at a lower part of a reflector 16, in front of which, a second additional reflector 34 is provided.例文帳に追加

光源１４ａを車幅方向に延びる線分光源として構成した上で、リフレクタ１６の下方に第１付加リフレクタ３２を設け、その前方に第２付加リフレクタ３４を設ける。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having high sensitivity, excellent in preservability in the undeveloped state, having small temperature and humidity dependency of the line width of characters in development and exhibiting photographic characteristics optimum for a photomechanical process.例文帳に追加

高感度で、未現像時の保存性に優れ、文字線幅の現像時の温度および湿度依存性の小さい写真製版用途に最適な写真特性を示す熱現像感光材料を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method of a conductive film pattern in which the conductive film pattern having a narrow line width is formed by a simple process, a wiring board formed using the conductive film pattern, and a display device.例文帳に追加

簡単な工程で線幅の細い導電膜パターンを製造する導電膜パターンの形成方法、さらにはこの導電膜パターンを用いてなる配線基板、表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having good moisture resistance (small difference in line width and high Dmax at low humidity) and excellent in development latitude and in raw stock preservability (Δ fog).例文帳に追加

本発明の目的は、湿度耐性（線幅差、低湿Ｄｍａｘ）が良好で現像処理ラチチュードに優れ、かつ生保存性（Δカブリ）に優れた熱現像写真感光材料を提供することにある。 - 特許庁

Except the projecting faces 45(G), 45(B), the data signal lines SD(R), SD(G), SD(B) have an equal line width, and the area of the projecting face 45(B) is larger than that of the projecting face (G).例文帳に追加

突出面４５（Ｇ）・４５（Ｂ）を除いては、データ信号線ＳＤ（Ｒ）・ＳＤ（Ｇ）・ＳＤ（Ｂ）間で線幅は揃っており、突出面４５（Ｂ）の面積は突出面（Ｇ）の面積よりも大きい。 - 特許庁

Next, a shared mask pattern provided with recessed/projected parts for upper face and for lower face for regulating the magnetic pole shape, symmetrically with respect to a center line parallel to the direction of track width, is exposed to the photoresist.例文帳に追加

次に、磁極形状を規定する上面用凹凸部と下面用凹凸部をトラック幅方向に平行な中心ラインに対して対称に有する共有マスクパターンを、フォトレジストに露光する。 - 特許庁

A relative position of the contact part D and the contact center position M when looking at a straight line area of the chain 1 from the chain width direction W, is mutually different between the first type pin 3a and the second type pin 3b.例文帳に追加

チェーン１の直線領域をチェーン幅方向Ｗからみたときの、接触部Ｄと接触中心点Ｍとの相対位置が、第１種ピン３ａと第２種ピン３ｂとで相異なっている。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having high sensitivity and small humidity dependency of letter line width in development and ensuring the occurrence of few black spots even when processed in a high humidity environment.例文帳に追加

感度が高く、しかも、文字線巾の現像時の湿度依存性が小さく、また高湿環境下で処理されても黒ポツがあまり発生しない熱現像感光材料を提供することにある。 - 特許庁

To provide an aligner, a manufacturing apparatus of semiconductor devices, a phase shift, and its design method, all of which are capable of suppressing a variation in the line width of a miniaturized pattern by correcting the distribution of light intensity between phase shifters.例文帳に追加

位相シフタ間の光強度分布を補正して、微細パターンの線幅の変動を抑制できる露光装置、半導体装置の製造装置、位相シフトマスクおよび設計方法を提供する。 - 特許庁

Coating, exposing, and developing conditions are varied and the treatment result under changed treatment conditions is tested with a line- width measuring apparatus, and a depending relation of the coating, exposing, and development is sought and the result is kept.例文帳に追加

塗布・露光・現像条件を振り、それぞれの処理条件が変化した際の処理結果を線幅測定器により検定し、塗布・露光・現像処理の依存関係を求め、その結果を保持する。 - 特許庁

Here, the average speed v1 (ave) of the moving member is a solid line represented by ΣV1 in a figure B, so the width of speed fluctuation can be suppressed low for smoother moving speed (constant speed).例文帳に追加

このとき、可動子の平均速度ｖ１(ave)は図８ＢのΣＶ１に示す実線となるため、速度変動の幅を低く抑えることができ、移動速度の平滑性（等速性）を高めることができる。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition improved in a LWR, an exposure latitude and an MEEF, and fit to a liquid immersion process, of 45 nm of line width, and to provide a pattern forming method which use the composition.例文帳に追加

ＬＷＲ、露光ラチチュード、ＭＥＥＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合したポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A first and a second steering hanger beam 14 arranged along the body width direction are laid in line in the fore-and-aft direction of a vehicle body, and the meter indication part 4 on an instrument panel 3 is located between the steering hanger beams 14 and 15.例文帳に追加

車体幅方向に沿う第１と第２のステアリングハンガビーム１４を車体前後方向に並列に設け、インストルメントパネル３上のメータ表示部４をステアリングハンガビーム１４，１５の間に配置する。 - 特許庁

The control part 71 makes a carrying-amount set value of the paper 21 smaller than a value equivalent to the width dimension of one line in the carrying operation in which a back end of the paper 21 passes through a point of the pressure contact by the paper feeding roller 25.例文帳に追加

制御部７１は、用紙２１の後端が給紙ローラ２５による圧接点を通過する搬送動作において、用紙２１の搬送量設定値を１行の幅寸法分より小さくする。 - 特許庁

The first control part 6 is made of a fitting group comprising a front fitting part 12 and a back fitting part 13 positioned at the front and back of the cover 3 in the width direction provided in a line in the right and left direction of the cover.例文帳に追加

第１規制部分６は、蓋体３の幅方向前後に位置する前の係合部１２と後の係合部１３とからなる係合部組が蓋体の左右方向に並設されてなる。 - 特許庁

Drawing information parameters, which are stored in a coordinate information storing means, such as color, width, transparency of the line of the drawing, and area for the drawing, are altered according to the moving amount of a coordinate input device per unit time.例文帳に追加

座標情報記憶手段に格納された描画情報パラメータを、描画する線の色、太さ、透明度、描画範囲、を座標入力装置の単位時間あたりの移動量に応じて変化させる。 - 特許庁

This sheet used between the fingers of the foot has cuts formed on three points of a central part in the width direction, of a long band-shaped rectangular sheet material, laterally in a line in a vertically and laterally symmetrical state.例文帳に追加

細長い帯状の方形のシート状物の幅方向の中心部の３ヶ所に切り込みを上下左右の対称に横一列に設けたことを解決手段とする足の指間用シート。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure system which has a wide in-batch transfer region and can let a maximum current flow, while securing accuracy in transfer, even in the case of exposing a fine line width.例文帳に追加

広い一括転写領域を有し、細かい線幅を露光する場合においても、転写精度を確保しながら、最大電流を流すことのできる荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that is improved by overcoming the problem of development defects, provided with a superior in-plane uniformity of line width, and also superior in LWR performance, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

現像欠陥の問題が改善され、優れた線幅の面内均一性が得られ、かつ、ＬＷＲ性能にも優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A step bolt supporting device consists of means for suppressing and locking an L-angle material in the lower end of a steel tower of a power line or the like from a width direction, and the step bolt 30 protruded from the suppressing and locking means and fixed.例文帳に追加

ステップボルト支持装置では、送電線等の鉄塔脚部Ｌ字アングル材を幅方向から抑圧係止する手段と、該抑圧係止手段から突出固定したステップボルト３０とからなる。 - 特許庁

In this vehicle, a seat 2 in the second line is guided to slide by the longitudinal sliding mechanism 20 provided on the floor in a vehicle compartment and the width direction sliding mechanism 21 guided by the longitudinal sliding mechanism 20.例文帳に追加

２列目シート２は、車室内のフロアに設けられた前後方向摺動機構２０と、前後方向摺動機構２０に案内される車幅方向摺動機構２１とにより摺動案内される。 - 特許庁

In this vehicle, a seat 2 in the second line is guided to slide by the longitudinal sliding mechanism 20 provided on the floor in a car compartment and the width direction sliding mechanism 21 guided by the longitudinal sliding mechanism 20.例文帳に追加

２列目シート２は、車室内のフロアに設けられた前後方向摺動機構２０と、前後方向摺動機構２０に案内される車幅方向摺動機構２１とにより摺動案内される。 - 特許庁

The length L of an arbitrary cell length direction (lateral direction) of the gate pad part of the ECO cell is more than or equal to the total value of three times of the minimum line width of a first wiring layer and two times of the minimum separation distance.例文帳に追加

ＥＣＯセルのゲートパッド部の任意セル長方向（横方向）の長さＬは、第１配線層の最小線幅の３倍と最小離間距離の２倍との合計値以上である。 - 特許庁

The folding line 66 of the wing part 6 formed upon mounting on the underwear is placed between the side edge 512 of the constricted part 7 and the side edge 511 on a position wherein the width of the body part 5 is the largest.例文帳に追加

下着に装着する際に形成されるウイング部６の折り曲げ線６６が、括れ部７での側縁５１２と本体部５の幅が最も広い位置での側縁５１１との間に配されている。 - 特許庁

The power transmitting chain 1 comprises first, second and third link lines R1, R2 and R3 each having a plurality of links arranged in chain width direction, the number of links of each link line R1, R2 and R3 is not the same.例文帳に追加

動力伝達チェーン1は、チェーン幅方向に並ぶ複数のリンクをそれぞれ有する第１、第２および第３のリンク列R1,R2,R3を備えており、各リンク列R1,R2,R3のリンク枚数は同じではない。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which produces an effect of improving a margin for exposure in the production of a semiconductor device, that is, ensures a small change in the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、露光マージンに対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To perform correlation operation, even when the minimum line width of an ABS pattern is not an integral multiple of an array interval of an ABS light-receiving element array, and enables measurement of moving distance, with high accuracy.例文帳に追加

ＡＢＳパターンの最小線幅がＡＢＳ受光素子アレイのアレイ間隔の整数倍となっていない場合でも、相関演算を行うことができ、高精度に移動距離を計測可能とする。 - 特許庁

To form a pattern having a high line width accuracy by promoting chemical amplification of a resist at the time of heat-treating a substrate which is applied with the chemically-amplified resist and is exposed.例文帳に追加

化学増幅型のレジストが塗布され露光された基板を加熱処理するにあたり、レジストの化学増幅反応を促進させて線幅精度の高いパターンを形成できる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having improved humidity dependency, having improved humidity dependency of letter line width in development, and ensuring suppressed occurrence of black spots in development at high humidity.例文帳に追加

湿度依存性が改良されて、文字線巾の現像時の湿度依存性が改良され且つ高湿下現像時での黒ポツ発生が大巾に改良された熱現像感光材料を提供する。 - 特許庁

The anchor 29 is formed in the shape of a square having size between two pieces making a pair is shorter than the width D of the opening 24b and having the length of a diagonal line is longer than size F between a pair of turning-stop sections 24d.例文帳に追加

止め具29を、対をなす２片間の寸法が開口24bの幅Ｄより短くかつ対角線の長さが架台21内の一対の回り止め部24d間の寸法Ｆより長い正方形状とする。 - 特許庁

A mask pattern 1 including a measurement pattern 2 having the same line width in regions a, b, c which are interposed by peripheral patterns 3, 5, 7 having different aperture ratios of 0%, 50% and 100%, respectively, is formed on a mask.例文帳に追加

マスクに、測定パターン２の同一線幅の領域ａ，ｂ，ｃがそれぞれ、異なる開口率０％，５０％，１００％の周辺パターン３，５，７に挟まれたマスクパターン１を形成する。 - 特許庁

As the material of the strip-like line Rx, a hard resin material or a metal material, for example, an aluminum alloy is used and formed into a strip shape having a predetermined thickness and a predetermined width.例文帳に追加

帯状ライナーＲｘの材料としては、硬質の樹脂材料または金属材料、例えば、アルミ合金等により所定の厚さ，所定の幅で帯状に形成したものを使用する。 - 特許庁

The correction values shown in the temperature correction table M are the optimal temperature correction values so set that a finally formed line width may be uniformed in the wafer plane against each quantity of warping and warped shape of each part of the wafer.例文帳に追加

温度補正テーブルＭには，ウェハの各反り量，反り形状に対して，最終的に形成される線幅がウェハ面内で均一になるような最適温度補正値が定められている。 - 特許庁

At this time, a distance (d) between the extension line of the curve Rc of the center ribs 31 and 32 and the curve Rs of the shoulder rib 33 is elongated toward the outside in the tire width direction from the intersection P.例文帳に追加

このとき、センターリブ３１、３２の曲線Ｒｃの延長線とショルダーリブ３３の曲線Ｒｓとの距離ｄが交点Ｐからタイヤ幅方向外側に向かうに連れて増加している。 - 特許庁

The second holding part 5 has a pasting overlap width 9 in a lower side, and an index piece 15 comprising the first break 11, a folding line 13 and the first tongue piece 17 is provided in an inside of the second holding part 5, in a right part.例文帳に追加

第２保持部５は、下辺にのりしろ片９を有し、右部に、第１切れ目１１と折り目１３と第１舌片１７とからなるインデックス片１５が、第２保持部５の内部に設けられる。 - 特許庁

The width of a frame-line non-light emitting part formed in the periphery of the plane X of incidence of back-light is reduced to make the dimensions of the light emitting part relatively larger than the dimensions of the outline.例文帳に追加

また、バックライト光出射面Ｘの周囲に形成される枠状の非発光部の幅を狭くして、外形寸法に対して発光部寸法を相対的に大きくすることも可能である。 - 特許庁