「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(50ページ目) - Weblio英語例文検索

When the length of the bound tokens exceeds the width of the region, the most recently added token is subtracted from the bound tokens (S611) and the subtracted token is set to be a starting position of a new line in the region.例文帳に追加

連結されたトークンの長さが領域の幅を超えた場合に、連結されたトークンから最も新しく加えられたトークンを差し引き（Ｓ６１１）、該差し引かれたトークンを領域内の新しい行の開始位置とする。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of restraining ununiformities of a line width difference, a contrast difference or a shift amount difference of an image in image performance between X-image heights, and capable of expanding a depth of focus, when a substrate stage is inclined to be exposed.例文帳に追加

基板ステージを傾けて露光する際に、Ｘ像高間の像性能における線幅差、コントラスト差あるいは像のシフト量差の不均一性を抑え、焦点深度を拡大する露光装置を提供する。 - 特許庁

The cylinder part 11 is provided with a slit 13 extended in the direction of a center axis line C, and is elastically deformed by the extension and contraction of the slit 13 in a width direction, whereby it is freely attached to/detached from the insertion part 2.例文帳に追加

円筒部１１には、中心軸線Ｃ方向に延びるスリット１３が設けられ、スリット１３が幅方向に拡縮することによって円筒部１１が弾性変形して挿入部２に着脱自在となっている。 - 特許庁

Since the base film is porous, the printed matter is likely to be absorbed more by the base film than by the object to be printed with a printed matter, reducing a ratio of a quantity of bleeding to the width of the line part of the fine pattern.例文帳に追加

さらに、印刷用下地膜が多孔質であるので、被印刷物に比べて印刷物を吸収し易くなり、ファインパターンであってもライン部分の幅に対して滲み量の比率を小さくすることができる。 - 特許庁

In a full line type print head 100 constituted of a plurality of head chips 50 arranged in the width direction of recording paper, an assembly member 120 is provided between the a common liquid chamber member 102 and the head chips 50.例文帳に追加

複数のヘッドチップ５０を記録紙の幅方向に並べて構成されるフルライン型の印字ヘッド１００において、共通液室部材１０２とヘッドチップ５０との間にはアセンブリ部材１２０が設けられる。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by which a high- density resist pattern the line width of which can be controlled excellently on the surface of a wafer and between wafers can be formed, a semiconductor manufacturing apparatus a semiconductor device, and a portable information terminal.例文帳に追加

ウェハ面内,ウェハ間の線幅制御性の良好な高密度レジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法および半導体製造装置および半導体装置および携帯情報端末を提供する。 - 特許庁

To provide a lithography for reducing a variation of line width in an imprint area, by decreasing a variation of each image height of degree of polarization caused by birefrigence of a projection optical system, and produced on a substrate.例文帳に追加

投影光学系の複屈折に起因して基板上で発生する偏光度の像高間差を小さくし、転写エリアにおける線幅のばらつきを減少させる露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a sample positioning method and a line width measuring device therewith capable of positioning even if there is dispersion in kinds, sizes, and processing accuracies of samples or there is misalignment of conveyed positions by delivery robots.例文帳に追加

試料の種類や、サイズ、加工精度のばらつきがあっても、または搬送ロボットの搬送位置がずれても、位置決めが可能な試料位置決め方法及びその方法を用いた線幅測定装置を提供する。 - 特許庁

The guide bar 20 protruded to the position higher than the height position of the warp line L forms the weaving passage M of the woven fabric W between a cloth fell W1 and the main sucking cylinder 22 into a chevron shape in the view from the width direction in weaving of the woven fabric.例文帳に追加

ワープラインＬの高さ位置よりも上に突き出た案内バー２０は、織前Ｗ１と主吸引筒２２との間の織布Ｗの織布経路Ｍを織布の織り幅方向に見て山形となる形状にする。 - 特許庁

To prevent wiring from being reduced in reliability and manufacturing yield due to it that a wiring pattern, which is formed resting on single minimum line width data in the formation of a wiring mask pattern, is used in a semiconductor device or the like.例文帳に追加

配線マスクパターン発生において、単一最小線幅データで発生させた配線パターンを半導体装置等で使用することに起因する配線の信頼性低下や製造歩留り低下を抑制する。 - 特許庁

A recess groove 22, having a semicircular cross-sectional shape, is formed to extend in a straight line from the front end to the rear end thereof at the center position of the width of the lower surface of a tab part 21 projecting from a male terminal 2.例文帳に追加

雄端子２から突出するタブ部２１の下面の幅方向中央位置に、半円状の横断面形状を有する凹溝２２を先端から基端側まで一直線状に延びるように形成する。 - 特許庁

An inside width and a side-wall height of the spacer 3 are made larger than a diagonal line length of a layered body comprising plural optical fiber coated fibers 4, and the layered body is twistedly wound unidirectionally in its longitudinal direction.例文帳に追加

１溝スペーサの溝の内幅および側壁高さは、複数枚のテープ状光ファイバ心線の積層体の対角線長さより大きくされており、この積層体は、長さ方向に一方向に向けて捻回されている。 - 特許庁

To enable manufacturing of a small-sized, high-performance laminated chip coil in which fine internal conductor patterns having a line width of 80 μm or less and a conductor thickness of several μm or more are formed accurately and clearly.例文帳に追加

線幅が８０μｍ以下で且つ導体厚数μｍ以上の微細な内部導体パターンを高精度で鮮明に形成できるようにし、小型で且つ高性能の積層チップコイルを製造できるようにする。 - 特許庁

The light from an artificial light source S as a line segment light source extending in vehicle width direction is reflected to the front by a first reflector 14 and a light distribution pattern having cut-off lines CL1, CL2 at the top end part is formed.例文帳に追加

車幅方向に延びる線分光源としての擬似光源Ｓからの光を、第１リフレクタ１４で前方へ向けて反射させて、上端部にカットオフラインＣＬ１、ＣＬ２を有する配光パターンを形成する。 - 特許庁

In a joint surface 22 of the base material 20, an area with a required width along a line scheduled to be cut by the water jet is formed as a receiving surface 26 substantially intersecting perpendicularly to the jet axis of the water jet WJ.例文帳に追加

基材２０の接合面２２において、ウォータージェットＷＪによる切断予定ラインに沿った所要幅の領域を、該ウォータージェットＷＪの噴射軸線に対して略直交する受面２６として形成する。 - 特許庁

The seams include oblique seams 18 and 20 disposed in oblique directions crossing a center line X-X extending in the length direction of the pillow 10 through the middle points in the width direction of the pillow 10.例文帳に追加

縫合線は、枕１０の幅方向の中間点を通って枕１０の長さ方向に延びる中心線Ｘ−Ｘに交差する斜線方向に配設される斜め縫合線１８，２０を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This screen device for the veranda has a surface substantially orthogonal to a partition wall with a next room veranda space on the veranda of a multiple dwelling house, and is formed by installing a screen panel having the height and a width for intercepting a line of sight over the veranda from the next room residents.例文帳に追加

集合住宅のベランダに、隣室ベランダ空間との隔壁に対してほぼ直交する面を有し、隣室居住者からのベランダ越しの視線を遮る高さと幅の目隠しパネルを取付けて成る。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern for fabricating a semiconductor elements without requiring an exposure process where misalignment takes places as the design rule becomes fine and the minimum line width of a pattern decreases.例文帳に追加

デザインルールが微細になりパターンの最小線幅が減少するにつれてミスアラインメント発生しやすくなる露光工程を行うことなく、半導体素子を製造するためのパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

The guide display has a line segment of car width length in a position of almost wheel base length from a rear bumper in a screen of the monitor 4, of the estimated locus of the vehicle in reversing at the steering angle α in the point of this time.例文帳に追加

ガイド表示は、その時点の操舵角αでの後退時の車両の予想軌跡のうち、モニタ４の画面において後部バンパーからほぼホイールベース長の位置に、車幅の長さの線分を有する。 - 特許庁

When two wooden members are fast fastened by this pulling force, as the anchor members are placed on the center line of wood members, a strong fastening force is maintained without being affected by a wood contraction in the width direction.例文帳に追加

この引張力によって、二つの木部材が固く締結されると、定着部材が木部材の中心線上にあるため、木材の幅方向の収縮による影響を受けず、強い締結力が維持される。 - 特許庁

To provide a method of measuring optical characteristic capable of measuring the optical characteristic related to pitch-dependence of the line width of a projected image within a substantially wide pitch range near a required pitch without the need for increasing kinds of a measurement pattern.例文帳に追加

投影像の線幅のピッチ依存性に関する光学特性を、計測用のパターンの種類を多くすることなく、実質的に広いピッチ範囲で、かつ必要とするピッチの近くで計測できるようにする。 - 特許庁

To provide a packet multiplexer capable of inserting an appropriate inter-packet gap between packets even if the transmission speed of a communication line is accelerated, and packets having a wider data width are multiplexed due to multiple bit expansion.例文帳に追加

回線速度が高速化され、多ビット展開によってより大きなデータ幅のパケットを多重化する場合であっても、パケット間に適切なインターパケットギャップを挿入することができるパケット多重化装置を提供する。 - 特許庁

To obtain the resolution sufficiently coping with the fining tendency in the case of exposing a pattern by using extreme ultraviolet light, and to avoid defects such as a difference from line width and positional deviation of the pattern.例文帳に追加

極短紫外光を用いて露光を行う場合に、微細化の進展に十分に対応可能な解像性を得られるようにし、さらには線幅の相違やパターンの位置ずれ等といった不具合を招かないようにする。 - 特許庁

A light shielding part 17X is provided between the fellow pixels adjacent each other, out of the plurality of color pixels 17R, 17G, 17B, and a line-directional width of the light shielding part 17X is set to any of three kinds.例文帳に追加

複数の色画素１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂのうち互いに隣接する色画素同士の間には、遮光部１７Ｘが設けられ、この遮光部１７Ｘの行方向の幅は、３種類のいずれかに設定される。 - 特許庁

To optimally set a line width about a photopolymer recording material and a profile of a prescribed laser beam in an exposer and to prevent an area with a low exposure degree from occurring between adjacent image lines to each other.例文帳に追加

フォトポリマー記録材料および所定のレーザービームのプロフィルについて線幅を露光機内で最適に調整でき、隣接する画像線どうしのあいだに露光の度合の低い領域を生じないようにする。 - 特許庁

To provide a high-performance, high-reliability semiconductor laser device which operates at a single wavelength and allows arbitrary wavelength control, while a laser oscillation spectral line width is narrow, for fast response with out reducing optical output.例文帳に追加

レーザ発振スペクトル線幅が狭く、かつ光出力を減少することなく高速応答できる任意な波長制御が可能な単一波長で動作する高性能、高信頼度な半導体レーザ装置を提供する。 - 特許庁

The scanner 107 properly sets the width and input timing of the start pulse azsp and sequentially outputs scanning pulses having always equal pulse widths during the line-sequential scanning in spite of the presence of the adjustment section.例文帳に追加

スキャナ１０７は、スタートパルスａｚｓｐの幅及び入力タイミングを適切に設定して、線順次走査中この調整区間の存在にかかわらず、常に同じパルス幅の走査パルスを逐次出力する。 - 特許庁

The first terminals 11 that are extended along the straight lines L_1 on the radial outermost side are formed in a manner that a width in the radial outward direction from the straight line L_1 may become larger than that in the opposite direction.例文帳に追加

放射状の最も外側の直線Ｌ_１に沿って延びる第１の端子１１は、直線Ｌ_１から放射状の外方向への幅が、その反対方向への幅よりも広くなるように形成されている。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of preventing deformation of a photoresist pattern or increase in LWR (line width roughness) when a silicon oxide film is formed on the photoresist pattern in a sidewall spacer method.例文帳に追加

側壁スペーサー法において、フォトレジストパターン上に珪素酸化膜を形成した際のフォトレジストパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The top dielectric stack or the bottom dielectric stack is selected such that its peak reflective index is less than 99%, and although the spectral line width of the device is increased, the generated natural emission is in a tolerable level.例文帳に追加

トップ誘電体スタックまたはボトム誘電体スタックは、そのピーク反射率が９９％未満であって、前記デバイスのスペクトルライン幅は増加するが、発生する自然放出は許容レベルであるように選択される。 - 特許庁

To provide a slimming processing method for a resist pattern which can reduce variation in line width of a resist pattern after slimming processing when the resist pattern formed by exposure processing and development processing is subjected to slimming processing.例文帳に追加

露光処理、現像処理を行って形成したレジストパターンをスリミング処理する際に、スリミング処理後のレジストパターンの線幅のばらつきを低減させることができるレジストパターンのスリミング処理方法を提供する。 - 特許庁

In the high-output fiber amplifier suitable for use of narrow line width, the fiber amplifier is segmented into separate parts exhibiting different Brillouin center frequencies to suppress stimulated Brillouin scattering (SBS).例文帳に追加

高出力の、狭線幅の用途に適したファイバ増幅器は、このファイバ増幅器を異なるブリルアン中心周波数を示す別々の部分にセグメント化することにより、誘導ブリルアン散乱（ＳＢＳ）の抑制を示す。 - 特許庁

Returns a 3-column calendar for an entire year as a multi-line string.Optional parameters w, l, and c are for date column width, lines per week, and number of spaces between month columns,respectively.例文帳に追加

3列からなる一年間のカレンダーを複数行の文字列で返します。 任意の引数w,l, 及びcはそれぞれ、日付列の表示幅、各週の行数及び月と月の間のスペースの数を変更するためのものです。 - Python

When the magnets 13 are arranged to be six poles, a bottom path width in which a magnetic line of force is focused most, and magnetic saturation tends to be generated is made to be narrower most effectively, then a diameter of the core 32 is made smaller.例文帳に追加

磁石１３を６極とすることによって最も磁力線が集中し磁気飽和の起こりやすい底路幅を最も効果的に狭くすることが可能となり、コア３２の直径を小さくすることができる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which enables formation of a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, line width roughness (LWR) and etch resistance, and a method of forming resist patterns using the radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

感度、解像性、ＬＷＲ及び耐エッチング性に優れるレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁

By using a photomask with a pattern that has a line width being equal to or less than a resolution limit for the surface of the resist pattern 12, a groove (dummy pattern) with a depth that does not reach the substrate 11 is formed, and the volume of the resist pattern 12 is reduced.例文帳に追加

レジストパターン１２の表面には、解像限界以下の線幅のパターンを有するフォトマスクを用いることにより、基板１１に達しない深さの溝（ダミーパターン）を形成し、レジストパターン１２の体積を小さくする。 - 特許庁

To solve the problem that conventionally in a photoresist forming process, reflection of active rays during exposure of photoresists and poisoning of photoresists with dielectric layers are harmful in forming fine structures, and to provide provide a method of forming fine structures by reducing the variation of the line width of photoresists, etc.例文帳に追加

フォトレジスト加工プロセスにおいて、フォトレジストの露光の間における活性放射線の反射、および誘電体層によるフォトレジストの「ポイズニング」は、微細な構造の形成のために有害である。 - 特許庁

The obtained correction time is obtained for each unit by an operation and pseudo-pattern data large enough to give an enough amount of accumulated scattering electrons for correcting a change of the line width caused by a loading effect are formed.例文帳に追加

補正時間は、各ユニットごとに演算により求められ、この求められた補正時間から、ローディング効果による線幅変化を補正するだけの蓄積散乱電子量を与える大きさの擬似パターンデータを作成する。 - 特許庁

To execute line width control where dot precision is highly enhanced without increasing a frequency of a transfer clock.例文帳に追加

従来の画像形成回路では、注目画素の分割数に応じた周波数の転送クロックで、ルックアップテーブルから線幅情報を読み出す必要があるため、高速化を諦めるか、分割数を減らして高精細化を抑えるかしかない。 - 特許庁

The cable 10 is formed in a shape having wider line width as it becomes closer to the measurement object 120 from the connectors 60 and 61, that is more apart from the bottom face 111 of the case 110.例文帳に追加

線路１０は、コネクタ６０，６１から測定対象物１２０に近づくに従って、すなわち、筐体１１０の底面１１１との間の距離が離れるほど、線路幅が広くなるように形成されている。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and a method for manufacturing a color filter, with which the dispersion in the line width of color pixels formed after exposure and development processes can be further reduced, without changing the environmental state, such as temperature and humidity in a clean room.例文帳に追加

クリーンルーム内の温度や湿度の環境状態を変えることなく、露光、現像処理後に形成される着色画素の線幅のバラツキを更に小さくする露光装置、カラーフィルタ製造方法をて提供する。 - 特許庁

To provide a writing instrument which can easily draw a drawn line of a constant width, irrespective of the holding manner of a barrel or a holding angle, and can widen the tilting angle range for bringing the writing instrument into a tight contact with the writing surface.例文帳に追加

軸筒の持ち方や保持角度に関わりなく、一定幅の描線を容易に描くことができるとともに、筆記部を筆記面に密着させられる傾斜角度範囲を広くすることができるようにする。 - 特許庁

A filter 20 is constituted as the carrier 1 of a columnar body 4 of rolling up or laminating its band body in a spiral shape, by molding a wire net in the corrugated plate-like band body 3 composed of a ridge line 7 and a groove 6 extending in the width direction.例文帳に追加

フィルタ２０は，金網を幅方向に延びる稜線７と溝６から成る波板状帯体３に成形し，それを螺旋状に巻き上げた又は積層した柱状体４の担体１に構成されている。 - 特許庁

Then a linear mark 2b having a predetermined width is placed on the non-image forming surface 2a of the recording paper 2 along the lateral center, so as to extend in the carrying direction, and the mark 2b placed on the recording paper 2 is detected by the line sensor 17.例文帳に追加

記録紙２の非画像形成面２ａにおける幅方向の中央に搬送方向に沿って所定幅の直線状マーク２ｂを設け、ラインセンサ１７により記録紙２に設けられたマーク２ｂを検出する。 - 特許庁

To provide a device for processing a resist pattern and a method of processing a resist pattern which are adapted that can realize uniform and high-precision thinning of the line width of a resist pattern arranged on a substrate, using a low cost and easy technique.例文帳に追加

基板上に配置されているレジストパターンの線幅の均一且つ高精度な細線化を、安価且つ容易な手法で実現することが可能なレジストパターン処理装置及びレジストパターン処理方法を提供する。 - 特許庁