「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

A stepped surface being the bottom surface of a flow channel of a separator is provided with protrudes of a plural number of rectangle bodies in the shape of lattice and ribs 96, 97 in the shape of a thin and long straight line to trisect the width on the stepped surface.例文帳に追加

セパレータの流路底面である段差面には、格子状に複数の直方体の凸部が形成されており、さらに、段差面上の幅を３等分するように本の直線状のリブ片９６，９７が配列されている。 - 特許庁

To provide a pattern projection aligner that can accurately prepare patterns with high throughput, even if a fine pattern, a pattern having thick line width, a pattern having painted large area, and the like are combined, and to provide a pattern preparation method.例文帳に追加

微細なパターンと線幅の太いパターンあるいは大面積の塗りつぶしパターン等が混在している場合においても、高精度、高スループットによってパターン作製が可能なパターン露光装置及びパターン作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter that prevents the occurrence of unevenness in line width and thickness between colored layers having different colors from each other and to provide an ink for the color filter being suitable for use in this method for manufacturing the color filter.例文帳に追加

互いに色が異なる着色層間での線幅や厚みのばらつきを抑制することのできるカラーフィルタの製造方法と、このカラーフィルタの製造方法での使用に適したカラーフィルタ用インキとを提供すること。 - 特許庁

To provide an overwrapping packaging machine and a method for setting a guide width of a transverse folding guide which can package beautifully even a product being longitudinally long in the up and down direction on a packaging line under a double-point end fold packaging form.例文帳に追加

包装ライン上にて上下方向に縦長の製品であっても、ダブルポイントエンドフォールドの包装形態で綺麗に包装することができる上包み包装機及びその横折りガイドのガイド幅設定方法を提供する。 - 特許庁

The image data in the print area is enlarged by specified printing magnification to conform the major side line of the small-size print with the width of a color paper based on the image data and the information designating small-size print, and each small-size print is exposured.例文帳に追加

画像データと小型サイズプリント指定情報に基づいて、小型サイズプリントの長辺がカラーペーパーの幅と一致するように、プリントエリア内の画像データが所定のプリント倍率で拡大され、各小型サイズプリントが焼付露光される。 - 特許庁

To obtain control characteristics independent of a polarization direction in an optical pulse controller for applying a time delay to a transmitted optical signal pulse in an optical pulse transmission line, compressing the width of the optical signal pulse and compensating dispersion.例文帳に追加

光パルス伝送路において、伝送光信号パルスに時間遅延を与えたり、光信号パルス幅を圧縮したり、分散補償を行う光パルス制御装置であって、偏波方向に依存しない制御特性が得られるようにする。 - 特許庁

To properly support the traveling of a traveling object for making it attainable for the traveling object to travel on a traveling face for a relatively long period, the traveling face being formed as a line as a whole, whose upper face has narrower width than the size of the traveling object.例文帳に追加

移動体のサイズに比べて上面の幅が狭く、全体としてライン状を成した移動面上において、移動体の移動を適度にサポートして、当該移動面上での移動を比較的長期間可能にすること。 - 特許庁

As an assist for parking a vehicle 1 in a parking position 40 by backward drive, guide lines 5b showing the vehicle width which are extended in parallel are displayed together, as shown in (a), together with an approach predicted curve line 5a over a backward image.例文帳に追加

（ａ）に示すように、車両１が後進して駐車位置４０に駐車する際の支援として、後方の映像に重ねて、進行予測曲線５ａとともに、車幅を平行に延長したガイドライン５ｂを表示する。 - 特許庁

A servo pattern is constituted of plural patterns arranged on both sides of a track central line while shifting in the track direction, and respective patterns A, B are constituted so that respectively two kinds of phase state patterns 11, 12, 13, 14 are arranged in the track width direction.例文帳に追加

サーボパターンをトラック中心線の両側にトラック方向にずらして配置した複数のパターンで構成し、各パターンＡ，Ｂはそれぞれ２種類の位相状態のパターン１１，１２；１３，１４をトラック幅方向に並べて構成する。 - 特許庁

The opening of the via-hole on the front side of the substrate 109 is formed to be rectangular, and the long side of the rectangular opening is selected nearly the same as the width of the transmission line 103 to be capable of effectively reducing the earthing inductance.例文帳に追加

基板１０９の表面におけるバイアホールの開口を長方形に形成し、この長方形の開口の長辺を、伝送線路１０３の幅と略同じ長さにすることにより、接地インダクタンスを効果的に低減できる。 - 特許庁

Rotating the wafer 180° and performing the next etching treatment can roughly offset the influence (the difference of etching rate within the chamber, or the difference in the line width by micro-loading effect) specific to the chamber being etched immediately prior.例文帳に追加

ウェハーを１８０°回転させて次のエッチング処理を行うと、直前にエッチング処理したチャンバーにおける固有の影響（チャンバー内におけるエッチング速度の違いや、マイクロローディング効果による線幅の差異）をほぼ相殺することができる。 - 特許庁

To improve the contllability of the line width of a resist pattern, to suppress occurrence of microbubbles on the interface between the resist and developer, and to decrease developing defects.例文帳に追加

レジストパターニングの線幅制御性が高く、かつ、レジストと現像液の界面におけるマイクロバブルの発生を抑制し、現像欠陥の低減が可能である露光塗布現像装置、およびこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an applicator capable of accurately and easily drawing the line of a fixed width on a nail regardless of a dominant hand especially in the case of french nails when enjoying a nail art, that is drawing pictures on the nails.例文帳に追加

ネイルアート、すなわち、爪に絵を画いて楽しむ際に、特にフレンチネイルの場合におけるように、爪に一定幅のラインを、正確に、かつ簡単に、しかも利き手か否かに関係なく、描ける塗布具を提供することを目的とする。 - 特許庁

If the groove 12 has a width two times as large as the thickness of the back electrode to be formed afterward, the position of the groove can be measured with a CCD camera after the back electrode is formed, thereby determining the dicing line.例文帳に追加

溝１２が後に形成する裏面側電極の厚みの二倍以上の幅を持っていると、裏面側電極形成後もＣＣＤカメラによる溝位置の計測が可能で、これをもとにダイシングラインを決定することができる。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having high image density (Dmax) and nearly free of the increase of line width in development at high temperature and high humidity as a heat developable photosensitive material particularly for a photoengraving and particularly for a scanner and an image setter.例文帳に追加

特に写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用熱現像感光材料において、高い画像濃度（Ｄｍａｘ）を有し、高温高湿下の現像時の線幅の太りが小さい熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

A titanium silicide layer 18 can increase margin to fine line effect by more than the actual wiring width by the increase amount of the surface area of a silicon region of a foundation, due to irregularities of the polysilicon surface 16a and the silicon surface 16b.例文帳に追加

ポリシリコン面１６ａ、及びシリコン面１６ｂの凹凸により下地のシリコン領域の表面積が増加した分だけ、チタンシリサイド層１８は、実際の配線幅よりも細線効果に対するマージンを増やすことができる。 - 特許庁

To provide a scanning electron microscope apparatus which enables to get always a high accuracy SEM image and line width measurement value without giving damage or the like to an object of measurement (observation) even under a high magnification, and a method of a length measurement with the microscope apparatus.例文帳に追加

高倍率下においても測定（観察）対象物にダメージ等を与えず、常に高精度なＳＥＭイメージと線幅測定値とを得ることができる走査型電子顕微鏡装置と該装置による測長方法を提供する。 - 特許庁

Once the image data correcting processing to be performed is determined, bit image data generated at S110 are divided into bit image data with specific line width based upon the processing coentents of the image data correcting processing (S130).例文帳に追加

これにより、ユーザは、フォトレタッチのようなアプリケーションによる画像データの修整に加えて、プリンタドライバのＲＧＢデータに対して画像データ修整処理を実施することが可能になり、より高速な修整処理を実現することが可能なる。 - 特許庁

A plate right end (indicated by a broken line) to be delivered by the width t same as the thickness t from a base end 50b is cut by pressing down a cutting unit 60 having a blade part 60a for shearing in the direction of an arrow (α).例文帳に追加

ベース端５０ｂから厚みｔと同じである幅ｔだけ繰り出されているプレート右端部（破線で示す）は、シェアリング（せん断）用の刃部６０ａを有する切断部６０を矢視（イ）の方向に押し下げることにより切断される。 - 特許庁

To provide a method of forming a relief pattern in which a relief pattern having a fine line width and a large film thickness is efficiently, easily and securely formed with high precision, and to provide a relief pattern stuck base.例文帳に追加

線幅が微細であるとともに、膜厚が大きなレリーフパターンを高い精度で効率よく、簡便かつ確実に形成することができるレリーフパターンの形成方法及びレリーフパターン付着基材を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for preventing an output of a pattern image which does not faithfully reproduce the width of a line composing the pattern image when the pattern image expressing information such as a bar code is outputted.例文帳に追加

バーコードなどの情報を表すパターン画像を出力する際に、該パターン画像を構成する線の幅を忠実に再現していないパターン画像の出力を未然に防止することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In the ranging method and the laser ranging apparatus of the invention, ranging is performed by a laser irradiation means which causes multi-longitudinal mode oscillation with a relatively wide spectrum line width, instead of a plurality of laser irradiation means having different wavelengths.例文帳に追加

本発明に係る測距方法及びレーザ測距装置は、波長の異なる複数のレーザ照射手段を用いるのではなく、スペクトル線幅が比較的広く多縦モード発振するレーザ照射手段を利用して測距を行う。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having an improving effect on a margin for exposure (particularly through isolated lines) in the production of a semiconductor device, that is, less liable to a change of the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The width of the first cell power supply line 104 is determined in accordance with the power consumption in the first standard cell 108 and the number of standard cells which can be arranged between the first power supply strap 101 and a third power supply strap 103.例文帳に追加

第１のセル電源線１０４の幅は、第１のスタンダードセル１０８の消費電力と、第１の電源ストラップ１０１と第３の電源ストラップ１０３の間に配置できるスタンダードセルの個数に応じて決定する。 - 特許庁

The conducting film pattern formed in the scribe line region is made smaller than a pad pitch of an external terminal pad and greater than a lead wire width, thereby making it possible to prevent the occurrence of the short circuit between lead wires, when the conducting film is rolled up by dicing.例文帳に追加

このスクライブライン領域に形成する導電膜パターンを、外部端子パッドのパッドピッチより小さく且つリード線幅より広くする事により導電膜がダイシングにより捲れ上がってもリード線間ショートの発生を防止できる。 - 特許庁

The width of the groove 3 is the value expressed by l×ΔT×η (l represents the length of the chip region, ΔT represents a temperature difference of the front surface and the rear surface of the substrate at the time of laser annealing, and η represents a line coefficient of thermal expansion of the substrate.).例文帳に追加

溝３の幅は、ｌ×ΔＴ×η（ｌは、チップ領域の長さを示し、ΔＴは、レーザーアニール時の基板表面と裏面の温度差を示し、ηは、基板の線熱膨張率を示す。）で表される値とする。 - 特許庁

The plurality of the holes 6a are arrayed on a substantially straight line along the tape width, and are disposed downward under the region in which the part of the copper layer 1 is eliminated by patterning at the copper wiring pattern layer forming time from the copper layer 1 or are disposed in the lower vicinity region.例文帳に追加

穴６ａは、テープ幅に沿った略直線上に複数配列し、銅層１からの銅配線パターン層形成時のパターンニングにより銅層１の一部が無くなった領域の下方又は下方近傍領域に配置する。 - 特許庁

An input signal, which is sent from the VINPUT of the input signal source in a character impedance, to the positive input terminal of an amplifier A1 in the range of the prescribed band width through the transmission line T1 and signal limiting diode bridges D1-D4.例文帳に追加

ある特性インピーダンスの入力信号源ＶINPUTからの入力信号を、伝送線Ｔ１、信号制限用ダイオード・ブリッジＤ１〜Ｄ４を介して、所定帯域幅範囲の増幅器Ａ１の正入力端に供給する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a gasket for a hard disc drive by which the gasket with a narrow line width and a large height can be formed on a cover, and a small gasket for the hard disc drive manufactured by this method.例文帳に追加

線幅が狭く、かつ高さが高いガスケットをカバー体上に形成することができるハードディスク装置用ガスケットの製造方法と、この製造方法により製造された小型のハードディスク装置用ガスケットを提供する。 - 特許庁

This method controls set pulse width by monitoring the status of a memory component with a method for comparing a bit line voltage with a reference voltage during a programming action and the method for comparing the cell resistance with the cell resistance of the set status.例文帳に追加

本発明は、プログラミング動作の間、ビットライン電圧を基準電圧と比較する方法や、セル抵抗をセット状態のセル抵抗と比較する方法によってメモリ素子の状態をモニタリングすることにより、セットパルス幅を制御する。 - 特許庁

To realize manufacturing method of a semiconductor device which can reduce nonuniformity in the line width of a thin film after patterning on the occasion, when the thin film formed on a semiconductor wafer is patterned into a prescribed shape.例文帳に追加

本発明は、半導体ウェーハ上に形成された薄膜を所定の形状にパターニングする際に、そのパターニング後の薄膜の線幅のばらつきを抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A continuously moving sample 1 is imaged by using the linear line sensor 4 of the extremely narrow width of an imaging range and the long length thereof, by which the imaging of the prescribed measuring region 11 can be rapidly performed.例文帳に追加

撮像範囲の幅が極めて狭く長さが長い直線状のラインセンサ４を使用して、連続的に移動する試料１を撮像することによって、所定の測定領域１１の撮像を迅速に行なうことができる。 - 特許庁

In the manufacturing of a semiconductor device, a groove 18 with prescribed width is formed from the lower surface 132 of a frame part 13 of a lead frame 11 sealed with seal resin 15 along a dicing line 16 by a dicing saw 17.例文帳に追加

半導体装置の製造において、ダイシングライン１６に沿って、封止樹脂１５によって封止されたリードフレーム１１のフレーム部１３に対し、フレーム部１３の下面１３２側から、ダイシングソー１７により所定幅の溝１８を形成する。 - 特許庁

In the high image quality mode, a recording width in at least one nozzle line is made to be an integral number of conveyance amount of a recording medium at a high-speed recording mode in which recording is performed by at least two times of scan to the same recording area.例文帳に追加

高画質記録モードにおける、少なくとも１つのノズル列での記録幅を、同じ記録領域に対して少なくとも２回の走査で記録を行う高速記録モードにおける、記録媒体の搬送量の整数倍とする。 - 特許庁

In the journaling portion 101, a notch 105 with a width N smaller than an outside diameter M of a pole swing shaft 12s is formed in the range of not crossing a straight line L1 connecting the fixing portion 103 and an axial center 104x of the through-hole 104.例文帳に追加

軸支部１０１には、固定部１０３と貫通穴１０４の軸心１０４ｘとを結ぶ直線Ｌ１と交差しない範囲においてポール揺動軸１２ｓの外径Ｍよりも狭い幅Ｎの切欠１０５が形成されている。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has good line width roughness (LWR) performance and forms a pattern with suppressed application defects, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能が良好であり、且つ塗布欠陥が抑制されたパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a severing method enabling breaking by a three-point bending moment without damaging an electronic circuited part even if the width of depressible buffer zone is 250 μm or less in the vicinity of each scribe line.例文帳に追加

各スクライブライン近傍で押圧可能な緩衝領域の幅が片側２５０μｍ以下であっても、電子回路形成部分に損傷を与えることなく、３点曲げモーメントによってブレイクすることのできる分断方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which improves LWR, development defects and DOF and is adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＬＷＲ、現像欠陥及びＤＯＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method and a resist film using the same, which form a pattern satisfying high sensitivity, high resolution and favorable line width roughness at the same time.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネスを同時に満足するパターンを形成することが可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法並びにレジスト膜の提供。 - 特許庁

To provide a coloring ink composition capable of achieving a visibility improving sheet excellent in contrast while maintaining a right and left viewing angle, as for the visibility improving sheet having a nearly rectangular cross-section and having a photoabsorption part with a narrow line width.例文帳に追加

略矩形断面を有するような、線幅の狭い光吸収部を備えた視認性向上シートにおいて、左右視野角を維持しつつコントラストにも優れる視認性向上シートを実現できる着色インキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in both of line width uniformity of a pattern and developing time-dependency of sensitivity, a chemically amplified resist composition and a resist film, for negative pattern formation with a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、パターンの線幅均一性及び感度の現像時間依存性のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

Center positions of the plurality of projective beads 44 are alternately arranged at both sides in the vehicle width direction of the edge 40A of the belt line reinforcement 40, and a part of the outer rim 44B of the adjacent projective beads 44 contacts with the other.例文帳に追加

複数の凸状ビード４４の中心位置は、ベルトラインリインフォース４０のエッジ部４０Ａの車両幅方向両側に交互にずれて配置されており、隣り合う凸状ビード４４の外縁部４４Ｂの一部が接触している。 - 特許庁

Also, a shape in a plan view of the front end edge 18B of an inner rear 18, which constitutes the rear end edge 30A of the opening 30, is a bow-shaped line form of which the central part in the vehicle width direction protrudes to the front side of the vehicle body.例文帳に追加

また、開口部３０の後端縁部３０Ａを構成するインナリヤ１８の前端縁部１８Ｂの平面視における形状は、車幅方向中央部が車体前方へ凸となった弓形線状となっている。 - 特許庁

The center peak of a diffracted beam pattern being detected is removed by a shield plate disposed in front of the line sensor or by applying an image processing thereto, thereby measuring the width to be measured of the micro tool based on the detected diffracted beam pattern.例文帳に追加

この検出される回折光パターンの中心ピークを、ラインセンサの前に設けた遮蔽板または画像処理によって取り除くことにより、検出された回折光パターンからマイクロ工具の被測定幅を測定する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer substrate on which conductor patterns causing no disconnection or short circuit, particularly, a portion for connecting end portions of respective conductor pattern layers, can be formed with a required thickness and line width and favorable location accuracy.例文帳に追加

断線やショ—トを生じることのない導電体パタ—ン、特に導電体パ夕—ン各層の端部接続部を所望の厚みおよび線幅にかつ位置精度よく形成することができる多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁