「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

When the image processing is performed, information indicative of the width of line patterns SML1-SML4 and information indicative of the interval are altered, degree of aptitude of alteration is calculated, and a mark position is determined using a degree of aptitude satisfying predetermined criterion.例文帳に追加

この画像処理を施す際に、ラインパターンＳＭＬ１〜ＳＭＬ４の幅を示す情報及び間隔を示す情報を変更するとともに、その変更の適性度を算出し、この適性度が所定基準を満たすものを用いてマーク位置を求める。 - 特許庁

The invention also includes the arrangement (1") for the transmission of a preferably pulse width modulated signal with: a control device (2') for the generation of the signal, the signal line for the transmission of the signal, and the electronic circuit module as described above.例文帳に追加

本発明はまた、好ましくはパルス幅変調信号を伝送するための装置（１”）であって、その信号を発生させるための制御装置（２’）と、その信号を伝送するための信号線と、上述の電子回路モジュールとを備える装置（１”）に関する。 - 特許庁

As a result, processing is switched by only middle-density areas, and areas having thick lines can be subjected to the same image processing independently of line width, and the image is prevented from looking unnatural in the switched boundary part due to switching of image processing.例文帳に追加

その結果、中濃度領域のみで処理を切り替えて、線の濃い領域は、線幅に関わらず同一の画像処理を行うことが可能となり、画像処理の切り換えによって切り換えた境界部分で画像が不自然に見えることがなくなる。 - 特許庁

For this apparatus, the surface of the substrate can be tested by comparing an image image formed by the secondary electron beam with the picture image stored beforehand, or by testing the pattern line width of the patterns on the surface of the substrate, based on the secondary electron beam.例文帳に追加

この装置では、２次電子線に基づき形成される画像を予め記憶した画像と比較したり、基板表面のパターンのパターン線幅を２次電子線に基づき検査することにより、基板表面の検査をすることができる。 - 特許庁

To provide a colored curable composition for a color filter capable of maintaining line width sensitivity and discrimination (alkali dissolution rate difference) between an exposure part and an un-exposure part and forming a fine pattern having high rectangularity in a pigment concentration heightened composition.例文帳に追加

顔料濃度を高めた組成において、線幅感度と露光部及び未露光部間のディスクリミネーション（アルカリ溶解速度差）を保ち、微細で矩形性の高いパターンを形成することができるカラーフィルタ用着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a color filter substrate which suppresses display unevenness by stabilizing the cell gap of a liquid crystal display even when reducing the line width of a black matrix to achieve a high aperture ratio, and a liquid crystal display including the same.例文帳に追加

高開口率を達成するためにブラックマトリクスの線幅を細くしても、安定した液晶表示装置のセルギャップを安定化させ、表示ムラを抑制することができるカラーフィルタ基板、及びそれを備える液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

The pure water supply source 30 supplies liquid to the inside of the outer tank 10 so that the flow of the liquid is symmetric with respect to the center line of the inner tank 20 in both the directions of the width and the depth, inside the outer tank 10.例文帳に追加

また、純水供給部３０は、外槽１０内における液体の流れが幅方向および奥行き方向の両方向において内槽２０の中心線に対して対称となるよう、外槽１０内に液体を供給する。 - 特許庁

The sector mold is split into a plurality of the sectional parts along a dividing line extending in a tire width direction, traversing a plurality of recessed parts surrounded by projecting strips formed in a mold face in order to form the tread pattern of an outer peripheral face of a tire.例文帳に追加

タイヤ外周面のトレッドパターンを形成するために金型面に形成された凸条によって囲まれた複数の凹部を横切るようにタイヤ幅方向に延在する分割線に沿ってセクター金型を複数の分割金型に分割する。 - 特許庁

Each of the circumferential fine grooves assumes a straight line shape or a circular arc shape extended in the circumferential direction at an angle θ of 0 to 25° with respect to the tire circumferential direction and is composed of a plurality of fine groove pieces each having a groove width smaller than the inner and outer circumferential main grooves.例文帳に追加

前記周方向細溝は、タイヤ周方向に対して０〜２５°の角度θで周方向にのびる直線状又は円弧状をなしかつ前記内外の周方向主溝よりも溝巾が小な複数の細溝片からなる。 - 特許庁

To provide an ink jet recording method which is free from a stain coming out even on various non-absorptive recording medium, high in image uniformity among various recording mediums and can control occurrence of non-uniformity of a line width, color unevenness or the like caused by mixing among liquid drops.例文帳に追加

多彩な非吸収性被記録媒体上でも滲みがなく、多彩な被記録媒体間での画像均一性が高く、また液滴間の混合に起因する線幅の不均一や色ムラ等の発生を抑制できるインクジェット記録方法の提供。 - 特許庁

At etching with the spiral coil 14, a dummy wiring pattern 16 having the same pitch width as an inner circumference is provided outside an outermost circumference 14a of the spiral coil 14, so that the thickness of a coil line at the outer circumference of the spiral coil 14 is prevented from decreasing.例文帳に追加

渦巻きコイル１４のエッチングに際して、渦巻きコイル１４の最外周部１４ａの更に外側に、内周と同じピッチ幅のダミーの配線パターン１６を設け、渦巻きコイル１４の外周のコイル線幅の減小を防止する。 - 特許庁

A pair of protecting parts provided on right and left ends of the gas supplying port 42 and the knee air bag 36 are arranged roughly on the same straight line along the vehicle width direction, and the first expanding part 36 makes both the protecting parts communicate with each other as a gas channel.例文帳に追加

このガス供給口４２とニーエアバッグ３６の左右端部に設けられた一対の保護部とが車両幅方向に沿って略同一直線上に配置され、第１膨張部３６がガス流路として両者を連通している。 - 特許庁

The road width is calculated in accordance with a picture obtained by photographing the road in the front of a vehicle, and a triangle formed by road end data at two points in the picture bottom part and a lost point on a prescribed lost line is obtained, and thus the direction of the road to the vehicle is detected.例文帳に追加

車両前方の道路を撮影した画像から道路幅を算出し、画像底部における２点の道路端データ及び所定の消失線上の消失点で作る三角形を求め、車両に対する道路の方向を検出する。 - 特許庁

A means 6 for detecting the shift in the panel width direction of the outermost side ends X and Y of the upper and lower metal skins 1a and 1b at the panel fitting recessed parts 2 or the panel fitting projected parts 3 is provided to the feed line of the heat insulating panel intermediate product P1.例文帳に追加

断熱パネル中間品Ｐ１の搬送ラインにパネル嵌合凹部２又はパネル嵌合凸部３における上下の金属外皮１ａ、１ｂの最外側端Ｘ、Ｙのパネル幅方向のずれを検知する手段６を備えている。 - 特許庁

Here, each groove 2 is formed so as to make the longitudinal direction of the groove 2 become practically in parallel with the longitudinal direction of each slider bar 3, and to make the contact surfaces between respective slider bars 3 become match practically with the center line of width direction of the groove 2.例文帳に追加

ここで、各溝２を、各スライダーバー３の長手方向が溝２の長手方向と実質的に平行となるように、また各スライダーバー３間の接触面が溝２の幅方向の中心線に実質的に一致するように形成した。 - 特許庁

To provide a pen point for a writing material useful for oily ink as well as white board, which is excellent in resistance to solvent as well as resistance to drain back and soft in the feeling of writing while capable of writing a line with a width in accordance with the size of the pen point.例文帳に追加

耐溶剤性、耐ドレインバック性ともに優れていて、しかも、筆感がソフトであって、ペン先の太さに応じた線幅に筆記可能であるところの油性インク用およびホワイトボード用として有用な筆記具用ペン先を提供すること。 - 特許庁

According to this, it can be judged whether the moving support member 4 and fixing support members 2 in contact with the one side surface A of the outer wall material 1 are located on a straight line of a fixed width or not by the sensor 5.例文帳に追加

センサー５によって外壁材素材１の一側面Ａに接触した移動支持部材４および複数の固定支持部材２が、一定幅の直線上に位置するか否かを判定することが可能な外壁材素材の曲がり検知装置による。 - 特許庁

Then, it is constituted so that the direction F1 of the force to restrain the mirror 16 and the direction F2 of the force received by the frame body 11 from the member 31 may be mutually aligned and opposed to each other on the center line in the width direction of the mirror 16.例文帳に追加

また、反射ミラー１６の短手方向の中心線において反射ミラー１６を抑える力の方向Ｆ１と枠体１１がミラー保持部材３１から受ける力の方向Ｆ２が一致して相対向するように構成されている。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive composition having excellent roughness characteristics such as LWR (line width roughness), DOF (depth of focus) for an isolated space pattern (trench pattern) and exposure latitude, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ＬＷＲ等のラフネス特性、孤立スペースパターン（トレンチパターン）のＤＯＦ、及び露光ラチチュードに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The modified region 7 to be a cut start point is formed on a GaAs substrate 12 along a planned cut line 5 by irradiating the processing object with a laser beam L, i.e., a pulsed laser beam with a pulse width of 31-54 ns and a pulse pitch of 7.5-10 μm.例文帳に追加

３１ｎｓ〜５４ｎｓのパルス幅で且つ７．５μｍ〜１０μｍのパルスピッチで、パルスレーザ光であるレーザ光Ｌを照射することにより、切断の起点となる改質領域７を切断予定ライン５に沿ってＧａＡｓ基板１２に形成する。 - 特許庁

A belt-like material 4 is configured so that many steel cords 2 laid in line transversely are passed between rolls 33 of a calendar device, covered with rubber 3 rigidly, and embedded in the condition that they are laid at a certain spacing in the width direction.例文帳に追加

横一列に並ぶ多数のスチールコード２をカレンダ装置のロール３３間に通過させて当該スチールコード２にゴム３を一体に被覆し、当該スチールコード２が幅方向に所定間隔おきに並んだ状態で埋設された帯状素材４を得る。 - 特許庁

Cushion rubber 52 is arranged above the spot welding 44B of the lower part in the rear of a line L of connecting a position of the spot welding 44B and 44C of the upper part and the lower part of the impact beam 28 on the inside in the vehicle width direction of the door inner panel 42.例文帳に追加

ドアインナパネル４２の車両幅方向内側には、インパクトビーム２８の上部と下部のスポット溶接４４Ｂ、４４Ｃの位置を結んだ線Ｌの後方であって、下部のスポット溶接４４Ｂより上方にクッションゴム５２が設けられている。 - 特許庁

Cutouts lining generally central part in a width direction W perpendicular to the lining direction L and extending along in the line direction L are formed or cutting accelerating machining (hereinafter both of them are referred to as "cutouts or others 12") are carried out in the adhesive label 10.例文帳に追加

粘着ラベル１０が、並び方向Ｌに直交する幅方向Ｗのほぼ中央部に並び方向Ｌにほぼ沿って切り込みを形成し又は切断促進加工（以下、これら双方を「切り込み等１２」という。）を施されている。 - 特許庁

Loading effect and/or fogging effect for changing a CD are calculated, mask CD data are corrected in advance by the calculation, and exposure is made by correction pattern data, thus correcting line width in a pattern, without generating process loss due to additional exposures.例文帳に追加

ＣＤを変化させるローディング効果及び／またはフォギング効果を計算し、これによりマスクＣＤデータをあらかじめ補正し、補正されたパターンデータにより露光することにより、追加露光による工程損失の発生なしにパターンの線幅を補正できる。 - 特許庁

The surface antenna element 14 is formed of copper foil in a meander line shape having a width W (e.g. 0.5 mm) and a size L1 (e.g. 100 mm)×L2 (e.g. 20 mm), and connected to a feeder through the feed portion 16.例文帳に追加

表面アンテナ素子１４は、銅箔により幅がＷ（例えば０．５ｍｍ）、かつサイズがＬ１（例えば１００ｍｍ）×Ｌ２（例えば２０ｍｍ）のメアンダライン形状に形成されており、給電部１６を介して給電線に接続されている。 - 特許庁

The CPU 300 includes a line-width definition section 323, a control section 304 which gives a focus condition multiplied an amount of focus deviation by the focus scaling to the simulator 325, a correction section 305 adding the correcting dimension bias value to the result calculated by the simulator 325, and a lithography equipment controlling section 326.例文帳に追加

さらにCPU300は、線幅定義部323、焦点ズレ量にフォーカススケーリングを乗じた焦点条件をシミュレータ325に与える制御部304、シミュレータ325の算出結果に補正用寸法バイアス値を加える補正部305及びリソグラフィー装置制御部326を備える。 - 特許庁

The supporting shaft 3 is offset on one side face side of the seat board to the width center line of the seat board, and the seat board and the latch 11 are turned relatively at approximately 180° and the engaging plate 21 for the latch 11 is positioned in the cross direction of the seat board 2.例文帳に追加

前記支持軸３を座板の幅中心線に対して座板の一側面側にオフセットし、座板と掛け金具１１を相対的にほぼ１８０°回転させて掛け金具１１の係合板２１を座板２の幅方向に位置調整する。 - 特許庁

The center of an open surface of each dimple is located on the outer side in the tire axial direction from a pinch cut area Qb between the positions separate by 8 mm and by 13 mm, respectively, outward of the tire axial direction from the tire radial line passing through the rim width position.例文帳に追加

リム巾位置を通るタイヤ半径方向線からタイヤ軸方向外側に８ｍｍ隔たる位置と１３ｍｍ隔たる位置との間のピンチカット領域Ｑｂよりもタイヤ軸方向外側に、前記ディンプルの開口面の中心が位置する。 - 特許庁

To provide a multi-scanning type exposure device capable of carrying out satisfactory projection exposure using a plurality of projection optical units while suppressing difference in the line width of a pattern image formed in a superposed exposure region via two projection optical units adjacent to each other.例文帳に追加

互いに隣接する２つの投影光学ユニットを介して重複露光領域に形成されるパターン像の線幅差を小さく抑え、複数の投影光学ユニットを用いて良好な投影露光を行うことのできるマルチ走査型の露光装置。 - 特許庁

A carcass line of a portion 5a of the carcass layer 5 positioned in a region K corresponding to an edge 8e of the belt layer 8 having the maximum belt width BW among the plurality of belt layers 8, 9 is formed into such a shape as to be recessed to the tire outside at a tire meridian cross section.例文帳に追加

複数のベルト層８，９の内、最大ベルト幅ＢＷを有するベルト層８のエッジ８ｅに対応する領域Ｋに位置するカーカス層５の部分５ａのカーカスラインが、タイヤ子午線断面でタイヤ外側に窪む形状になっている。 - 特許庁

An in-plane trend component that can be improved by setting the temperature correction value is extracted from a plurality of calculated in-plane trend components Zn and are added to calculate an improvable in-plane trend Za in the measured line width (S3).例文帳に追加

次に，その算出された複数の面内傾向成分Ｚｎから，温度補正値の設定により改善可能な面内傾向成分を抜き出し，それらを足し合わせて，測定線幅における改善可能な面内傾向Ｚａを算出するＳ３。 - 特許庁

This manufacturing device of foursquare line 1 comprises a cutting device 4 adapted to cut thin-film sheet material 2 having a fixed thickness and front/back sides in parallel with each other in a feeding direction of the sheet material 2 by a fixed width orthogonally with the front/back sides.例文帳に追加

所定の厚みを有し表裏面が互いに平行な薄板状のシート材２を、そのシート材２の送り方向に所定幅で且つ表裏面に直交して切断する切断装置４を備えて真四角線の製造装置１を構成する。 - 特許庁

To make the number of DFB-lasers (or DBR-lasers) capable of selecting wavelength not less than 10, and its optical output strength of the device not less than 20 mW, and the optical output spectral line width not more than 10 MHz, in a wavelength variable laser device.例文帳に追加

波長選択型の波長可変レーザ装置に含まれるＤＦＢレーザ（又はＤＢＲレーザ）の個数を１０以上、装置の光出力強度を２０ｍＷ以上にし、且つ、出力光のスペクトル線幅を１０ＭＨｚ以下に抑える。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which realizes both of desired high sensitivity and high resolution, which can form a rectangular profile and which decreases changes in the line width during post exposure after irradiation of ionization radiation under reduced pressure.例文帳に追加

所望の高感度及び高解像度の両立を達成することのでき、矩形プロファイルが得られ且つ減圧条件下における電離放射線照射後引き置き時の線幅変化が低減されたネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To expose a high-quality image of high picture quality which is less in fluctuation of areas of rectangles caused by fluctuation of line width upon forming an image of repeated rectangular patterns in image drawing by digital scanning exposure using a spatial modulation element such as a DMD (Digital Micromirror Device).例文帳に追加

ＤＭＤなどの空間変調素子を用いたデジタルの走査露光による描画において、長方形パターンを繰り返す画像を形成する際に、線幅の変動に起因する長方形の面積変動の少ない高画質な画像を露光する。 - 特許庁

The wire rack is formed by connecting two wire pipes 2 composed in a C shape for supporting the depth direction on both right and left bottom sides of the deck pan, and straight line wire pipes 3 for supporting the width direction of the deck pan, in a square shape.例文帳に追加

前記デッキパンの左右両底辺の奥行方向を支持するコ字状に構成した２本の前記ワイヤパイプ２と、前記デッキパンの幅方向支持する直線状の前記ワイヤパイプ３とを方形状に連結してワイヤラックを構成した。 - 特許庁

The connection lines S3a, S3b are formed smoothly so as to have no angle while gradually increasing the line width and, by using such connection lines S3a, S3b, the characteristic impedances between the signal transmission lines P3a, P3b and the loads are smoothly reduced.例文帳に追加

接続線路Ｓ３ａ，Ｓ３ｂは、線路幅を漸次増加させつつ角を持たないように滑らかに形成され、この接続線路Ｓ３ａ，Ｓ３ｂにより信号伝送線路Ｐ３ａ，Ｐ３ｂと負荷の間の特性インピーダンスが滑らかに減少する。 - 特許庁

To provide a compound machine tool, reduced in tool width to achieve size reduction, so that the whole installation space is reduced in the case of application to a production machining line in which a single-spindle machine tool and a compound machine tool are intermingled.例文帳に追加

機械幅を小さくして小型化を図ることができ、単軸工作機械及び複合工作機械が混在する生産加工ラインに適用した場合に全体の設置スペースを縮小することができる複合工作機械を提供する。 - 特許庁

In a two dimensional coordinate system including the work area M, intersection points c of a work line group including work lines Lvtc extended along the set work angle θ and set for each work width W respectively, and an outer periphery of the work area M are detected.例文帳に追加

作業エリアＭを含む二次元座標系において、設定された作業角度θ方向に延在する作業ラインＬvtcが作業幅Ｗ毎に設定された作業ライン群と、作業エリアＭの外周との交点ｃが検出される。 - 特許庁

To easily perform marking or the like for a cutting surface lowered from a finishing surface by a prescribed width in a ruler externally fitted to a raising pipe to be used when providing a cutting line in the pipe to provide a manhole.例文帳に追加

マンホールを設けるために嵩上げパイプに切断線を設ける際に使用するパイプに外嵌する定規において、仕上げ面から所定幅下がった切断面に容易に罫書き等のマーキングをすることができるようにすることを課題とする。 - 特許庁

Owing to in-wafer hardened parts 10b corresponding to the cutting lines 1b in the wafer, the line width of the wafer-outside hardened parts 10c corresponding to the extensions of the cutting lines 1b is increased to cope with the deviation of cuts of the dicing blade, if any.例文帳に追加

ウエハ内の切断ライン１ｂに対応して硬化されるウエハ内硬化部１０ｂより、切断ライン１ｂの延長部に対応するウエハ外硬化部１０ｃのライン幅を大きくすることで、ダイシングブレードの切り込みがずれた場合に対処する。 - 特許庁

Thus, stress from squeeze of a seal plate is mitigated, the physical torsion of a mesh constituting the seal plate is reduced as much as possible and the dispersion of the printing accuracy, especially the line width, of the main seal pattern 2 inside the liquid crystal panel is suppressed to be extremely small.例文帳に追加

これにより、シール版のスキージからの応力を緩和でき、シール版を構成するメッシュの物理的なねじれが極力少なくなり、液晶パネル内の本シールパターン２の印刷精度、特に線幅のばらつきが非常に小さく抑えられる。 - 特許庁

The set temperature of a heater 62 being built in a heating plate 61 is adjusted from the correlation between the previously found step and the final line width of a pattern consisting of a coating film on the substrate in after continuous treatments on the substrate so that the step is confined within the prescribed extent.例文帳に追加

予め求められている前記段差と一連の基板処理後の最終線幅との相関関係から，前記段差が所定の範囲内に納まるように，熱板６１に内蔵されているヒータ６２の設定温度を調節する。 - 特許庁

After a working work (A01) in each process, intermediate product quality management items (for example, the line width, film thickness, and brightness level of each circuit element) are measured (A02), and the measured result is transmitted through a network LAN (A03) to a production management system (A04).例文帳に追加

各工程の加工作業（Ａ０１）後に、中間製品の品質管理項目（例えば、各回路素子の線幅、膜厚、光沢度等）の測定を行い（Ａ０２）、測定結果がネットワークＬＡＮ（Ａ０３）を通じて生産管理システム（Ａ０４）へ送られる。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which produces an effect of improving a margin for exposure (in particular, a margin for the exposure of isolated lines) in the production of a semiconductor device, that is, ensures a small change in the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁