「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

The shape of a siping 5 formed in the tire width direction of a block 4 is formed by combining straight cut parts 5a extended from a block surface 4a in the normal line direction, and trapezoidal cut parts 5b.例文帳に追加

ブロック４のタイヤ幅方向に形成するサイプ５の形状を、ブロック表面４ａからブロックの法線方向に延長する直線状切り込み部分５ａと台形状切り込み部分５ｂとの組み合わせにより構成する。 - 特許庁

A photosensitive film pattern 24 is formed on a semiconductor substrate 21 on which a prescribed electrically conductive layer 22 has been formed and the line width of the pattern 24 is reduced using oxygen radicals generated by the thermal decomposition reaction of gaseous ozone.例文帳に追加

所定の電導層２２が形成された半導体基板２１上に感光膜パターン２４を形成し、オゾンガスの熱分解反応により発生される酸素ラジカル成分を用いて上記感光膜パターン２４の線幅を微細化させる。 - 特許庁

This fishing sinker comprises an elastic substance having an elasticity in curing and tungsten powder and is obtained by compounding the substance with the tungsten powder before curing, then curing and molding and forming a slit narrower than the width of a fishing line.例文帳に追加

硬化時に弾力性を有する弾性物質と、タングステン粉末とからなり、硬化前の物質にタングステン粉末を混合した後に硬化成形するとともに、釣り糸の径よりも幅狭状のスリットを形成した釣り用錘。 - 特許庁

The insert members 21, 22 are positioned across a center line L of a cylinder and on both sides in a width direction (a crosswise direction in the figure) of the cylinder block main body 12, and are extended in a cylinder arrangement direction (a direction orthogonal to a sheet of paper in the figure).例文帳に追加

両インサート部材２１，２２は、シリンダの中心線Ｌを挟んでシリンダブロック本体１２の幅方向（図１の左右方向）両側に位置し、シリンダの配列方向（図１において紙面と直交する方向）に延びる。 - 特許庁

The direction of the rotating axial line is set to descend rightward in a plan view seen from the upper direction of the vehicle body 11 and to ascend rightward in a front view seen from the rear direction of the vehicle body 11, with respect to the vehicle width direction of the vehicle body 11.例文帳に追加

そして、回動軸線の方向を、車体１１の車幅方向に対し、車体上方から平面視したときに右下がりで、かつ、車体後方から正面視したときに右上がりとなるように設定する。 - 特許庁

A hole to which the pin 5 is fitted is formed in the attachment part 6a of the driver blade 6 toward a driving-in direction from an outer circumference of the pin 5 to form in a longitudinal hole 7, and curve line parts that form an arc 8 are formed at both ends in a width direction.例文帳に追加

ドライバブレード６の取付部６ａには、ピン５が嵌合する穴をピン５の外周から打込み方向に向って、長穴７になるように形成すると共に、幅方向の両端に円弧８となる曲線部を形成する。 - 特許庁

A mask pattern having a line width below a stipulated value is selected from mask patterns each projecting from an element region, the distance from the selected mask pattern to an adjacent pattern is calculated and the mask pattern is corrected corresponding to the distance.例文帳に追加

素子領域から突き出すマスクパターンのうち規定値以下になる線幅を有するマスクパターンが選択された後、このマスクパターンに隣り合うパターンまでの距離が算出され、この距離に応じてマスクパターンに補正が施される。 - 特許庁

In particular, since a line width at the tip part 25a of the heating part 25 is set larger than that at the base end part 25b, a resistance value at the tip part 25a of the heating part 25 is set smaller than that at the base end part 25b.例文帳に追加

特に、発熱部２５の先端部２５ａの線幅が基端部２５ｂの線幅より大きくなる様に設定されることによって、発熱部２５の先端部２５ａの抵抗値が基端部２５ｂの抵抗値より小さく設定されている。 - 特許庁

To provide a heat-shrinkable polyester film which has high shrinkability in the longitudinal direction as the main shrinkage direction, has a high mechanical strength in a width direction, moreover, hardly has wrinkles in a produced film roll and has good perforated line openability.例文帳に追加

主収縮方向である長手方向への収縮性が高く、幅方向における機械的強度が高い上、製造されたフィルムロールにシワが入りにくく、ミシン目開封性が良好な熱収縮性ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The housing of the male connector is furnished with a regular lock projection (23) to lock a housing lock 47 of a lock arm 46 and a provisional lock projection 41 having a smaller locking force for the housing lock 47 than the projection (23) in such an arrangement that they (23) and 41 are in line in the housing width direction.例文帳に追加

雄コネクタのハウジングには、ロックアーム46のハウジングロック47を係止する本係止突起23と、該本係止突起23よりハウジングロック47に対する係止力が小さい仮係止突起41とがハウジング幅方向に併設される。 - 特許庁

In a monitor device 20, a signal identifying part 23 detects the difference detecting signal based on the prescribed characteristic value (a pulse width, for example) of each kind of signal which is received from the transmission line 30 and counts its number considering a code.例文帳に追加

監視装置２０においては、信号識別部２３が、伝送路３０から受け取る各種信号の所定の特性値（例えば、パルス幅）に基づいて差分検出信号を検出し、その数を、符号も考慮してカウントする。 - 特許庁

To achieve an adjustment of a highly precise joint by changing the width of a toner image line and uniquely relating a signal of a detecting means to a light beam when a position or a gap is detected by dividing the light beam and using it for scanning to form an image.例文帳に追加

光ビームを分割走査して画像を形成する際位置又は間隔を検知するにあたりトナー像ラインの幅を変えて、検知手段の信号とビームを一義的に対応づけて、高精度の繋ぎ目調整を達成すること。 - 特許庁

The fuel flow control device for an oil combustor burner using the return type pressure spray nozzle has in a return line a flow regulating valve driven by valve opening time control based on a duty ratio for varying a pulse width.例文帳に追加

戻り式圧力噴霧ノズルを用いた石油燃焼器用バーナの燃料流量制御装置にあって、戻し路には、パルス巾を可変するデューティ比による開弁時間制御にて駆動される流量調整弁を設けたことにある。 - 特許庁

Namely, the edge position of the device pattern 1 is changed so as to eliminate the step 1a, and the line width of the assist pattern 2 is changed so as to adjust a change in transfer shape resulting from the elimination of the step 1a from the device pattern 1.例文帳に追加

デバイスパターン１は、段差１ａを消失させるように、そのエッジ位置を移動させ、アシストパターン２は、デバイスパターン１から段差１ａを消失させたことによるその転写形状の変化を調整するように、線幅を変化させる。 - 特許庁

Printing is made on a recording sheet by using a print head 50 in which a plurality of nozzles to discharge ink are arranged according to an entire width of a printing medium along a main scanning direction, and a thus printed image is read by a line sensor 120.例文帳に追加

インクを吐出する複数のノズルが主走査方向に沿う印字媒体の全幅に対応して配列された印字ヘッド５０を用いて記録紙に印字を行い、その印字された画像をラインセンサ１２０によって読み取る。 - 特許庁

When the output signal difference is smaller than the predetermined value in the entire area, a boundary line in which the output signal difference (light intensity difference) from the information of the document area at the first detection is the threshold or less is determined so as to determine the width size of the document.例文帳に追加

出力信号差が全領域に亘って所定値よりも小さい場合は、第１検知の原稿領域情報から出力信号差（光量差）が閾値以下の境界ラインを判定し、原稿の幅サイズを決定する。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material which is hardly affected by a change in the line width of a mask pattern and ensures good smoothness of the edges of a formed pattern when an original pattern is formed with a photo-plotter using laser light or light of a light emitting diode.例文帳に追加

レーザー光または発光ダイオード光を用いたフォトプロッターで原画パターンを描画する際に、マスクパターンの線巾変動を受けにく、描画パターンエッジのスムースネスが良いハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。 - 特許庁

Through-holes 1a are installed formed in a line in the length and width directions in an insulation sheet 1 serving as a base material for the electrical connector 10, and a through-hole electrode 1b, on which a gold plated layer 4 is formed, is formed on the surface the inside which a conductive paste 3 is filled.例文帳に追加

電気コネクタ１０の基材としての絶縁シート１には、スルーホール１ａ縦横に整列して形成され、導電ペースト３を充填し表面に金メッキ層４を施したスルーホール電極１ｂが形成されている。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition capable of achieving both desired high sensitivity and high resolution, giving rectangular profile and ensuring a reduced change of line width when allowed to stand after irradiation with ionizing radiation under reduced pressure.例文帳に追加

所望の高感度及び高解像度の両立を達成することのでき、矩形プロファイルが得られ且つ減圧条件下における電離放射線照射後引き置き時の線幅変化が低減されたネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Then candidates having an enough width D for the dimension measurement are selected from the candidates [1] to [5], and further, a candidate closest as possible to the dimension measurement part (center line) designated in the pattern before the OPC process is selected.例文帳に追加

次いで、候補［１］〜［５］の中から寸法測定を行うのに十分な幅Ｄを備えた候補を選別し、更にＯＰＣ処理前のパターンで指定した寸法測定箇所（中心線）からなるべく近い位置の候補を選別する。 - 特許庁

With this, since the effective light-emitting region of the light source 26 exists only at one side of a vehicle width direction Ay to a back side focal point F, a region of the other side from a vertical line of the vehicle front center is not irradiated.例文帳に追加

これにより、光源２６の有効な発光領域が後側焦点Ｆに対して車幅方向Ａｙの片側にしか存在しないため、車両前方中央の鉛直線より片側の領域が照射されないことになる。 - 特許庁

In this feeder wherein one side part in an orthogonal direction to a document conveying direction is set as the reference line S for the alignment of a document D, a pickup roller 26 is arranged in the minimum document width out of a plurality of conveyable document sizes.例文帳に追加

原稿搬送方向と直交する方向の一側部を原稿Ｄの位置合わせの基準線Ｓとする給紙装置において、ピックアップローラ２６を、搬送可能な複数の原稿サイズのうちの最小原稿幅内に配置した。 - 特許庁

To bring an image reading speed to a high speed by switching the resolution into a low resolution for pixel intervals at the outside of an original in one line when a close image sensor reads the original whose width is narrower than that of an original with a maximum readable size.例文帳に追加

密着型イメージセンサで最大読取可能サイズの原稿より幅狭の原稿を読み取る際に、１ライン中の原稿外画素区間において解像度を低解像度に切り替えることにより画像読取を高速化する。 - 特許庁

A handle 10 which extends and contracts to the front in the longitudinal direction, or the direction to transfer the main body 2, and rotate around an axial line extending in the width direction of the main body 2 at the extended position is provided on the main body 2.例文帳に追加

ケース本体２には、ケース本体２の搬送方向となる長手方向前方に対して伸縮可能とされ、かつ、伸びた位置でケース本体２の幅方向に延びる軸線回りに回動可能な取っ手１０が配されている。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for forming an electrophotographic image which has no jitter caused by vibration of a photoreceptor drum, etc., and the ruled line of which has not the width and density unevenly fluctuated and to provide a process cartridge and an electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

感光体ドラムや画像形成装置内の振動等によるジッターがなく、罫線幅の変動や濃度変動といったムラのない画像形成装置、画像形成方法、プロセスカートリッジ及び感光体を提供すること。 - 特許庁

The third conductive pattern has a small line width that can be removed by etching, and can be disposed in a region where the conductive pattern is not formed, and thereby, the third conductive pattern can prevent dielectric breakdown caused by discharge between figure patterns when the mask pattern is charged.例文帳に追加

第３導電性パターンはエッチングで除去可能な細い線幅を有し、導体パターンが形成されない領域に配置できるため、マスクパターンの帯電時に図形パターン間の放電による静電破壊を防止可能となる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for a resist film, which can suppress generation of bridge defects and scum, has an excellent LWR (line width roughness) performance and allows formation of a favorable fine pattern, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつＬＷＲ性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

It is supposed that the width of a glass substrate G is 2200 mm, the size of a polishing tool 14 is ϕ1290 mm, a revolution radius is 75 mm, and the center of revolution is located right and left 600 mm from the moving center line L in the orthogonal direction.例文帳に追加

ガラス基板Ｇの幅を２２００ｍｍ、研磨具１４のサイズをφ１２９０ｍｍ、公転半径を７５ｍｍ、公転中心は、移動中心線Ｌから直交方向に左右に６００ｍｍ離れた位置とする。 - 特許庁

To provide a projection aligner capable of selecting an optimum illumination system by the direction and line width, etc., of a pattern shape, and performing the projection alignment of a high resolution and suitable for manufacturing a semiconductor element, and to provide a method for manufacturing the semiconductor element.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

The length of the index part is gradually different so that the overlap width of the indicating part 11a and index part is almost constant regardless of the rotating position of the pointer 11, and an imaginary line connecting the outside of a virtual image of the index part is approximately a circular arc.例文帳に追加

指示部１１ａと指標部の重なり幅は指針１１の回動位置に因らず略一定であるように、指標部の長さは漸次異なり、指標部の虚像２８の外側を結んだ仮想線は略円弧になる。 - 特許庁

In the exposure method, the pattern of a mask (M) disposed on the object surface of a projection optical system (PL) is exposed on the photosensitive substrate (W) disposed on the image surface of the projection optical system to form the pattern of a desired line width on the photosensitive substrate.例文帳に追加

投影光学系（ＰＬ）の物体面に設置されたマスク（Ｍ）のパターンを、投影光学系の像面に設置された感光性基板（Ｗ）上に露光して、感光性基板上に所望線幅のパターンを形成する露光方法。 - 特許庁

In non-image formation, test electrostatic images 1s in a main scanning directional line of the four-pixel width in which VL exposing quantity and less-than-VL exposing quantity are combined is written to the photosensitive drum 1, and the potential distribution thereof is measured by the potential sensor 30.例文帳に追加

非画像形成時にＶＬ露光量とＶＬ未満露光量とを組み合わせた４画素幅の主走査方向ラインの試験静電像１ｓを感光ドラム１に書き込んで電位センサ３０により電位分布を測定する。 - 特許庁

When photographing the overall width of the hot-rolled metallic band 8 by using the near infrared ray camera 25A which is installed on the inlet side of a coiler 24 of a hot-rolling line 100, a shutter speed is adjusted in accordance with the temperature of the hot-rolled metallic band 8.例文帳に追加

熱間圧延ライン１００のコイラー２４入側に設置した近赤外線カメラ２５Ａを用いて熱延金属帯８の全幅を撮影するに際し、熱延金属帯８の温度に応じて、シャッタースピードを調整する。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material capable of forming an image in which jamming of image line width is little and occurrence of density unevenness is few, which has high contrast and which has high maximum density by heat developing processing under high humidity.例文帳に追加

高湿度環境下での熱現像処理によって、画像線幅の詰まりが少なく、かつ濃度ムラの発生が少なく硬調で、かつ最高濃度が高い画像を形成可能な熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

The control system also can be operated so as to measure width of the liquid spray pattern and deviation of the liquid spray pattern from a nozzle center line of the liquid distribution system and when measured value is not within a tolerance range, alarm is given.例文帳に追加

制御システムは、また、液体スプレーパターンの幅と、液体分配システムのノズル中心線に対しての液体スプレーパターンの偏りとを測定すべく作動可能であり、それらの測定値が許容範囲外にあるならば、警告を与える。 - 特許庁

In this toilet paper roll 1 with the perforated line, the sheet 1a, in which the perforated lines 1b from one end to the other in a width direction are formed at longitudinal appropriate intervals, is taken up in a roll shape; and the percentage of longitudinal extension of the sheet is 20-35%.例文帳に追加

幅方向に亘るミシン目１ｂが長手方向の適宜間隔おきに形成されたシート１ａを、ロール状に巻き取ってなるミシン目付きトイレットペーパーロール１であって、該シートの長手方向の伸び率が２０〜３５％である。 - 特許庁

Stress from a squeegee of a seal plate is relaxed and physical twisting of meshes constituting the seal plate becomes extremely small to suppress the variation in print precision, especially the line width of the seal pattern 2, in the liquid crystal panel to an extremely small value.例文帳に追加

シール版のスキージからの応力を緩和でき、シール版を構成するメッシュの物理的なねじれが極力少なくなり、液晶パネル内のシールパターン２の印刷精度、特に線幅のばらつきが非常に小さく抑えられる。 - 特許庁

To prevent empty bobbins from falling in a bobbin holder even if the continuous movement amount of peg tray is increased equal to or more than the number of bobbins corresponding to the limit width of a space behind an empty bobbin line in a bobbin holder in which empty bobbin falls occur.例文帳に追加

ペッグトレイの連続した移動量を空ボビンの倒れが発生するボビンホルダ内の空ボビン列の後方の空間の限界広さに相当するボビン本数以上に増大させても、ボビンホルダ内における空ボビンの倒れを防止する。 - 特許庁

Projecting parts 13 are formed at regular intervals along a reference line A passing the center O of the cutter body 12, extending outward, and the width of each projecting part 13 becomes narrower toward the front in the radial direction of the cutter body 12.例文帳に追加

突出部１３の各々は、カッタ本体１２の中心Ｏを通る基準線Ａに沿い等間隔で外方に延在して形成され、カッタ本体１２の径方向の前方に向かうに従い次第に幅が拡がるように形成される。 - 特許庁

Projecting parts 13 are formed at regular intervals along a reference line A passing the center O of the cutter body 12, extending outward, and the width of each projecting part 13 becomes narrower toward the front in the radial direction of the cutter body 12.例文帳に追加

突出部１３の各々は、カッタ本体１２の中心Ｏを通る基準線Ａに沿い等間隔で外方に延在して形成され、カッタ本体１２の径方向の前方に向かうに従い次第に幅が狭まるように形成される。 - 特許庁

In a case where a blur exists, a gray level picture obtained by contracting the line width by filter processing part 5 is given to a contrast processing part 7 as it is but in a case where a blur does not exist, gray level data of the part 3 is given to the part 7 as it is.例文帳に追加

ぼけがある場合には、フィルタ処理部５で線幅を収縮されて得られた濃淡画像イメージが、ぼけのない場合には、画像分割部３の濃淡画素データがそのままコントラスト処理部７へ与えられる。 - 特許庁

In the target for magnetron sputtering, both the end parts of the short side in the target 11 are provided with magnetic materials 12 for reducing magnetic force, which is rectangular, wherein the short side length of the target is the width, and the range from the short side edge to the straight line position of erosion is almost the length.例文帳に追加

ターゲット１１の短辺両端部に、巾をターゲットの短辺長とし、長さを短辺端からエロージョンの直線となる位置までを略その長さとする矩形状の、磁力低減用の磁性材１２を設けたこと。 - 特許庁

This electron beam transfer and exposure method is a method wherein the worst value of the beam edge resolution 61 of an electron optical system for projecting a pattern on a reticle on a responsive substrate is 0.9 to 1.0 times wider than the narrowest line width of an electron beam in the pattern.例文帳に追加

本発明の電子ビーム転写露光方法は、レチクル上のパターンを感応基板上に投影する電子光学系のビームエッジ分解能６１の最悪値がパターン中の最小線幅の０．９〜１．０倍である。 - 特許庁

A line object 01 having a prescribed width is moved on a pattern on a special pattern display device 6 in a special pattern game while hiding a part of a displaying pattern 02(a), and is renewed to a new pattern 02(b).例文帳に追加

特図ゲームにおける特別図柄表示装置６上の図柄の上に、所定の幅を有するラインオブジェクト０１を、表示されている図柄０２（ａ）の一部を隠しつつ移動させることにより、新たな図柄０２（ｂ）への更新を行う。 - 特許庁

The invention concerns an electronic circuit module for a motor vehicle, in particular a fan regulator (4") with a control input (S) for a signal, in particular with a pulse width modulated signal, transmitted via a signal line (3).例文帳に追加

本発明は、自動車両用の電子回路モジュールであって、特にファンレギュレータ（４”）であり、信号線（３）を通じて伝送される信号、特にパルス幅変調信号のための制御入力（Ｓ）を有する電子回路モジュールに関する。 - 特許庁