「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

The width of the meander lines of the fold-back dipole antennas 11, 12 is stepwise narrowed in the vicinity of the feeding ends 13, 14 and the feeding ends 15, 16 to configure the meander line so as not to be overlapped on lead conductors connected to the feeding ends 13, 14 and the feeding ends 15, 16.例文帳に追加

給電端１３、１４および１５、１６の近傍で折り返しダイポールアンテナ１１と１２のメアンダラインの幅を段階的に狭くして、給電端１３、１４と給電端１５、１６に接続する引き出し導体と重ならない構成にする。 - 特許庁

To provide an OPC(optical proximity correction) mask producing method by which the dispersion of line width of a pattern practically formed on a wafer is suppressed by performing simulation faithfully reflecting the influence of space dependency, an OPC mask and a chip.例文帳に追加

スペース依存性の影響を忠実に反映したシュミレーションを行なうことにより、実際にウェハ上に形成されるパターンの線幅のばらつきを抑制することができるＯＰＣマスクの製作方法およびＯＰＣマスクならびにチップを提供する。 - 特許庁

To provide a conductive resin composition for electromagnetic wave shielding material for plasma display panel which can form a pattern of fine line width with high accuracy, and can reveal excellent electromagnetic wave shielding performance even if the particle size of conductive fine particles is small.例文帳に追加

微細な線幅のパターンを高精度で容易に形成することができ、かつ、導電性微粒子の粒径が小さくとも優れた電磁波シールド性を発現し得るプラズマディスプレイパネル用電磁波シールド材用導電性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for inspecting patterns which is capable of inspecting wiring patterns different in line width, shape and size, permits an allowance to be set every wiring, and inspecting at a high precision.例文帳に追加

本発明は、線幅や形状や大きさの異なる配線パターンそれぞれについてパターン検査を行うことができ、配線毎に許容値を設定でき、精度の高い検査が可能となるパターン検査方法及びその装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method and system of exposure where the character deterioration and the reduction of an yield are prevented by setting an optimal exposure corresponding to a resist film thickness in a specific area which requires more precision of a line width than in the other areas.例文帳に追加

他の領域に比して線幅精度が要求される特定領域のレジスト膜厚に合わせて最適な露光量を設定することにより、特性劣化や歩留りの低減を防止することができる露光方法および露光システムを提供する。 - 特許庁

When a trouble ocurrs in the VEL mechanism, a relay circuit interposed in a power supply line to a drive circuit for the DC servo motor is turned off, and a pulse width modulation signal PWM controlling the current of the DC servo motor is set to zero.例文帳に追加

そして、ＶＥＬ機構の故障発生時には、前記ＤＣサーボモータの駆動回路に対する電源供給ラインに介装されるリレー回路をオフし、更に、ＤＣサーボモータの電流を制御するパルス幅変調信号ＰＷＭを０にする。 - 特許庁

In the display controller 103, on the basis of the illuminance information, a control table 105 is referred to in which illuminance and a spatial frequency are correlated, a spatial frequency is selected suitable for the display in the present display installation environment, and a line width is determined.例文帳に追加

表示制御部１０３では、照度情報に基づいて、照度と空間周波数とを関連づけた管理テーブル１０５を参照して、現在のディスプレイ設置環境において表示に適した空間周波数を選択し、線幅を決定する。 - 特許庁

In an inner side face of the flange part, an annular protruding part 27 protrudes from the inner side face like a wire of a predetermined width, and it is formed as one waveform line by repetition of a multiplicity of sinusoidal waveforms extending along the whole circumference.例文帳に追加

フランジ部の内側面には、環状突出部２７が、内側面から所定幅の線状に突出すると共に、周方向全周に沿って延びる略正弦波形状の多数の波形の繰り返しによる１本の波形線として形成されている。 - 特許庁

Then, the stent 1 indicates the superelastic characteristics both before and after insertion into a living body, also each line width of the linear part of the stent 1 is 100 to 170 μm, and the thickness of the linear part is 180 to 230 μm.例文帳に追加

そして、ステント１は、生体内挿入前および生体内挿入後のいずれにおいても超弾性特性を示すものであり、かつ、ステント１の線状部の各線幅は、１００〜１７０μｍであり、線状部の厚さは、１８０〜２３０μｍである。 - 特許庁

For measurement, the first side 33 of the tape base 31 is disposed to be aligned with the distant eye point line of the examination spectacle lens 12, and the tape base 31 with a width whose second side 34 agrees with the near eye point is selected.例文帳に追加

測定は、テープ基材３１の第１辺３３を検査用眼鏡レンズ１２の遠用アイポイントラインと一致するように配置し、第２辺３４が近用アイポイントラインと一致する幅を有するテープ基材３１を選択することによって行われる。 - 特許庁

In the nib side 20 constituted with the core bodies 11 and 12 and the blocking member 14 integrated, the peripheral shape thereof is formed into a spherical surface or a curved surface, whereby a width when a line or the like is drawn by the core bodies 11 and 12 remains constant.例文帳に追加

芯体１１、１２と遮断部材１４を一体化して構成されるペン先側２０は、その外周形状が球面若しくは湾曲面に設けられ、これにより、芯体１１、１２で線等を引くときの幅が一定となるようになっている。 - 特許庁

To provide a semiconductor element and a method of forming the element, in which an area for an active region in a semiconductor substrate is easily assured, a resistance of a stored electrode contact is reduced, and a line width of the semiconductor element is also efficiently reduced.例文帳に追加

半導体基板で活性領域の面積の確保が容易であり、格納電極コンタクトの抵抗を減少させることができ、半導体素子の線幅を効果的に減少させることができる半導体素子及びその形成方法の提供。 - 特許庁

A second lag groove 6 is arranged in each of the shoulder sections 1B to form a block line 7 connecting front and rear blocks 7A through narrow width land sections 7x wherein the interval m between the inner end 6a of the second lag groove 6 and the peripheral direction groove 3 is 1 to 8mm.例文帳に追加

ショルダー部１Ｂに第２ラグ溝６を配置し、その第２ラグ溝６の内端６ａと周方向溝３との間隔ｍを１〜８ｍｍにした狭幅陸部７ｘで前後のブロック７Ａを連結したブロック列７を形成する。 - 特許庁

To provide a method and a device for adjusting a drawing condition to reliably decrease changes in the line width of an image pattern when the image pattern is drawn on an image recording medium by using a plurality of two-dimensionally arranged drawing elements.例文帳に追加

二次元状に配列された複数の描画要素を用いて画像記録媒体に画像パターンを描画する際、画像パターンに生じる線幅変動を確実に低減させることのできる描画状態調整方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wavelength selective type variable wavelength laser device, wherein the number of DFB laser elements (or DBR laser elements) is not fewer than 10, the intensity of the optical output is not lower than 20 mW, and the spectral line width is suppressed to be not wider than 10 MHz.例文帳に追加

波長選択型の波長可変レーザ装置に含まれるＤＦＢレーザ（又はＤＢＲレーザ）の個数を１０以上、装置の光出力強度を２０ｍＷ以上にし、且つ、出力光のスペクトル線幅を１０ＭＨｚ以下に抑える。 - 特許庁

Since curvature (11) of a width of a saw blade is an arcuated shape forming the same bend as that of each circumference of a circle according to the diameter, an object is cut along a line wherein each circle according to the diameter is drawn with the arcuated saw blade (1).例文帳に追加

鋸刃の幅の曲り（１１）が、直径に応じた各々の円周と同じ曲りをしている弧形であるので、この弧形の鋸刃（１）で、直径に応じた各々の円を描いた線に沿って物体が切られて行く事を特徴とする。 - 特許庁

To provide an organic developing process method and an organic developing process device capable of stabilizing a fine line width in a circuit pattern and improving throughput without using a rinsing liquid and without being influenced by a time difference in an organic developing process.例文帳に追加

リンス液を用いずに、かつ有機現像処理の時間差の影響を受けずに回路パターンの微細線幅の安定化及びスループットの向上を図れるようにした有機現像処理方法及び有機現像処理装置を提供すること。 - 特許庁

To accurately calculate a coordinate position of each line and a pixel position of a liquid crystal panel even when an uneven width occurs between frames in shrinkage, expansion, or the like of a picked-up image (a signal image) obtained from frame sampling of a display pattern.例文帳に追加

表示パターンのフレームサンプリングから得られた撮像画像（シグナルイメージ）の収縮、膨張等のフレーム間の幅に不均等な部分が生じた場合であっても、各ラインの座標位置を正確に算出し、液晶パネルのピクセル位置を正確に算出する。 - 特許庁

At least one thin-film resistor exhibiting zigzag patterns 100 is formed by folding, a plurality of times, straight line patterns each having a prescribed pattern width, on the surface of the wavelength conversion element 10 in a way as not to overlap one another.例文帳に追加

波長変換素子１０の表面に、所定のパターン幅を有する直線パターンを、互に重ならないように複数回折り曲げた葛折状のパターン１００を呈する薄膜抵抗が少なくとも１つ形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

At least one of the length and width of the lead-out wire 121DL is adjusted along the longitudinal direction of the power supply line 105DSL so that each driving transistor 121 has the same drain potential in the same emission luminance condition.例文帳に追加

同一発光輝度条件下では、各駆動トランジスタ１２１のドレイン電位が同一となるように、引出し配線１２１DLの長さおよび幅の少なくとも一方を電源供給線１０５DSL の長手方向に沿って調整されたレイアウトにする。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method and a substrate treatment device in which the line width or the like of a resist pattern really formed in a photo-lithography process can be precisely measured and a desired circuit pattern can be finally formed after etching.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程で実際に形成されたレジストパターンの線幅等を精密に測定でき、エッチング処理後において最終的に所望の回路パターンを形成することができる基板処理方法及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring board which minimizes the variation of the conductor wiring layer line width, has a high adhesion strength to an insulation resin layer enough to avoid locally stripping the conductor wiring layer and has a high heat resistance and a high reliability.例文帳に追加

導体配線層線幅のばらつきを最小限にし、かつ、絶縁樹脂層との高い接着強度を有し、局所的に導体配線層の剥離の起こらず、かつ、耐熱性が高く、信頼性の高い多層配線基板を提供する。 - 特許庁

The electrode fingers of the comb-line electrodes constituting the IDTs (11-13 or 21-23) are arranged with the width and interval of about 1/4 wavelength of surface acoustic waves excited by the IDTs (11-13 or 21-23).例文帳に追加

これらのＩＤＴ（１１〜１３または２１〜２３）を構成する前記櫛歯状電極の電極指は、前記ＩＤＴ（１１〜１３または２１〜２３）により励振される弾性表面波のほぼ１／４波長の幅と間隔で配置されている。 - 特許庁

To provide a positive-radiation-sensitive resin composition containing an anthracene-based carboxylic acid component and capable of effectively controlling line width variation in resist patterns due to fluctuation in the resist film thickness on a highly reflective substrate as a composition for deep ultraviolet rays.例文帳に追加

アントラセン系カルボン酸成分を含有し、遠紫外線用として、高反射基板上でのレジスト被膜の膜厚変動によるレジストパターンの線幅変化を有効に抑えることが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

One of edges of the A electrode 2 and B electrode 3 is linear and the other is in a mountain shape such that the electrode width smoothly varies according to a curve or straight line, a fixed spacing being provided between the A electrode 2 and B electrode 3.例文帳に追加

Ａ電極２及びＢ電極３の縁部の一方は直線状、他方は曲線又は直線により電極幅が滑らかに変化するような山形の形状とし、Ａ電極２とＢ電極３との間には一定の間隔を設ける。 - 特許庁

This rolling pitch control method controls a rolling pitch of a hot rolling line for extracting the slab more quickly all the time than the maximum value of a neck pitch of each facility of a heating furnace 1, a width press-down device 2, a rough rolling machine 3 and the finishing rolling machine 4, when heating and rolling the slab by the respective facilities.例文帳に追加

加熱炉１、幅圧下装置２、粗圧延機３、仕上圧延機４、の各設備によりスラブの加熱および圧延をする際に、各設備のネックピッチの最大値よりも常に早くスラブを抽出する熱間圧延ラインの圧延ピッチ制御。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has improved DOF (Depth Of Focus), storage stability, resolution and pattern features and suitable even for a liquid immersion process for a line width of not more than 45 nm, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ＤＯＦ、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image reading apparatus which can read a document having a width larger than a size of a document which is read on a flat bed document platen without increasing a space for placing a read line sensor, and to provide an image forming apparatus employing the image reading apparatus.例文帳に追加

読取ラインセンサの設置スペースを大きくすることなく、フラットベットの原稿置き部で読み取る原稿サイズよりも幅の大きな原稿を読み取り可能な画像読取装置及びその画像読取装置を用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a repair method for a paste pattern in which the line width of the paste pattern is kept constant in a repair section of the paste pattern where a defect occurs by applying paste by a dot coating system by an amount corresponding to the repair section.例文帳に追加

ペーストパターンの欠陥が発生したリペア区間に対して、リペア区間に対応する量のペーストを点形塗布方式により塗布することで、リペア区間でペーストパターンの線幅を一定に維持し得るペーストパターンのリペア方法を提供すること。 - 特許庁

Then, each printing dot line 11 of print data created on condition that the recording paper 3 passes through the reference passage area is printed by cutting an end opposite to the protrusion direction D by an amount corresponding to a length identical to the protrusion width E.例文帳に追加

そして、記録紙３が基準通過領域Ｃを通過することを前提として生成された印刷データの各印刷ドット列１１を、はみ出し方向Ｄとは逆側の端部をはみ出し幅Ｅと同一長さ分だけカットして印刷する。 - 特許庁

In order to control the operation of the motor 10, one of the paired terminals at the other diagonal positions of the bridge circuit 31 is connected to a power line and the other terminal is grounded, and then the switching elements SW1-SW4 are controlled for pulse width modulation.例文帳に追加

ブリッジ回路３１の他の対角位置の一対の端子のうちの一方の端子は電源ラインに接続され、他方の端子は接地されていて、スイッチング素子SW1〜SW4をパルス幅変調制御することにより、直流モータ１０は作動制御される。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition for a UV ray laser, the composition capable of forming a pattern having high sensitivity of line width and excellent linearity and heat resistance, and to provide a pattern forming method, a method for manufacturing a color filter, a color filter and a display device.例文帳に追加

線幅感度が高く、直線性、および耐熱性に優れるパターンを形成しうる紫外光レーザー用着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a chemically amplified negative resist composition exhibiting a large depth of focus (DOF) and small line width roughness (LWR) and being capable of forming a pattern having a superior pattern shape and reduced bridge defects.例文帳に追加

フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、パターン形状に優れ、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法及び化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供することを課題としている。 - 特許庁

To provide a multichannel exposure method and a multichannel exposure apparatus which can suppress variance in the recording line width or dot size even when a beam diameter fluctuates on an image plane upon exposure with an approximately equal light quantity to that of reference exposure light.例文帳に追加

基準露光量と同程度の光量で露光したときに像面でのビーム径にばらつきが生じる場合でも、記録線幅やドットサイズのばらつきを抑えることのできるマルチチャンネル露光方法及びマルチチャンネル露光装置を提供する。 - 特許庁

A mesh pattern of resin composition having an average line width of 50 μm or less is formed on a transparent base material by gravure printing method, and a metal layer is provided on that pattern thus producing a transparent electromagnetic wave shielding material imparted with conductivity.例文帳に追加

透明基材上にグラビア印刷法により樹脂組成物からなる平均線幅５０μm 以下の網状パターンが形成され、そのパターン上に金属層が設けられ、導電性が付与されている透明電磁波遮蔽材料が提供される。 - 特許庁

To provide a magnesium oxide powder having good crystallinity in which the half width of the peak of a specific surface in the powder X-ray diffractometry using Cu-Kα line is 0.20 degree or less, respectively, and the crystallite diameter is not less than 700 Å.例文帳に追加

Ｃｕ−Ｋα線を用いた粉末Ｘ線回折法における特定の面のピークの半価幅がそれぞれ０．２０度以下であり、かつ結晶子径が７００Å以上である結晶性が良好な酸化マグネシウム粉末を提供する。 - 特許庁

The shutter plates 23 of the cups 3 on both sides of the surface body 2 are connected to a cross bar 31 extended in the width direction of the surface body 2 crossing the center line of the surface body 2 on the outer side of the surface body 2 through a slide bar 24 provided on the shutter plate 23.例文帳に追加

面体２の両側におけるカップ３のシャッタープレート２３どうしは、シャッタープレート２３に設けられたスライドバー２４を介して、面体２の外側で面体２の中心線を横切って面体２の幅方向へ延びるクロスバー３１につながる。 - 特許庁

A light shielding body 119 blocks illumination light made incident within a range of a numerical aperture of approximately less than 2λ/w of the objective 116, where λ is a wavelength of the illumination light and (w) is a line width of an alignment mark of the solar battery panel 102.例文帳に追加

遮光体１１９は、照明光の波長をλ、太陽電池パネル１０２のアライメントマークの線幅をｗとした場合、対物レンズ１１６の略２λ／ｗ未満の開口数の範囲内に入射する照明光を遮断する。 - 特許庁

To provide a resist pattern formation apparatus using an ink jet method which can easily manage the width of a resist line and can respond to fine pattern formation and can prevent the generation of a satellite (mist) and makes double-sided image formation possible.例文帳に追加

本発明は、レジストラインの幅を管理しやすく、パターンのファイン化に対応でき、また、サテライト(mist)の発生を防止でき、かつ、両面画像形成を可能にするインクジェット方式によるレジストパターンの形成装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

Upon combining alternately various sizes of rolling bodies 2 and 3 by means of connecting metal fixtures 4, both edges of a rolling body 3 are passed through a groove which is arranged on an inner part of the bearing and also whose width includes the loci of central points of the rolling bodies 2 and 3 on its center line.例文帳に追加

違う大きさの回転体２と３を、連結金具４によって交互に連結してベアリング内側面に設けられた、回転体２と３の中心点の軌跡を中心線にもつ幅の溝に、回転体３の両端が通るようにする。 - 特許庁

The plate width around the cylinder's hole 10a in the inside portion 10A is made narrow in a portion close to a line connecting the center O of the cylinder's hole 10a with the center of each bolt hole 10c, and is made wide in a portion as it is parted from the portion in the circumferential direction.例文帳に追加

この内側部分１０Ａのシリンダ用孔１０ａ周りの板幅を、シリンダ用孔１０ａの中心Ｏとボルト孔１０ｃの中心とを結ぶ直線に近い部分では狭く、そこから周方向に離れるに従って広くする。 - 特許庁

In a front-side introduction passage 31 of the front-side rotary valve 35, a virtual line dividing an opening width W of the front-side introduction passage 31 into two sections of a leading side in a rotational direction and a trailing side in the rotational direction of the rotational shaft 21 is a bisector N.例文帳に追加

フロント側ロータリバルブ３５のフロント側導入通路３１において回転軸２１の回転方向先行側と回転方向後行側とにフロント側導入通路３１の開口幅Ｗを二等分する仮想線を二等分線Ｎとする。 - 特許庁

A shell type outer ring 11 has a shape of generating line in the direction of width in which a roller 12 on a rolling face rolls having straightness of 0.008 or less and parallelism of 0.015 or less by using an inside diameter face of a reference ring in which the outer ring 11 is press-fitted as reference.例文帳に追加

シェル型の外輪１１は、外輪１１が圧入される基準リングの内径面を基準として、転走面におけるころ１２が転動する幅方向の母線形状を、真直度：０．００８以下で、平行度：０．０１５以下とする。 - 特許庁

This method of the present invention determines a line-directional width of a table defined using a tag <table> in a content, according to a prescribed criterion, and selects and executes proper table layout processing out of the plurality of table layout processing, according to a determination result therein.例文帳に追加

コンテンツ内の、タグ<table>を用いて定義されたテーブルの行方向の幅に関し所定の判定基準にしたがって判定を行い、該判定の結果にしたがって、複数のテーブルレイアウト処理の中から適切なテーブルレイアウト処理を選択して実行する。 - 特許庁

To provide a line head achieving exposure processing of high accuracy while having a narrow width and reducing the size and cost of an image forming apparatus, and also to provide the small-size and inexpensive image forming apparatus providing high-definition images.例文帳に追加

幅が狭く、画像形成装置を小型で安価なものとしつつ、高精度な露光処理を実現することができるラインヘッドを提供すること、また、高品位な画像を得ることができる小型で安価な画像形成装置を提供すること。 - 特許庁