「MLA」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The pitch of an interference pattern in a lit surface is fined by modulating a phase from an element lens of an MLA.例文帳に追加

ＭＬＡの素子レンズからの位相を変調して被照明面での干渉縞のピッチを細かくする。 - 特許庁

A junction layer 47 is provided between the MLA substrate 31 and counter substrate 32.例文帳に追加

ＭＬＡ基板３１と対向基板３２の間には接合層４７が設けられている。 - 特許庁

Regular hexagonal microlenses 13 are mutually closely formed in an MLA arrangement area 11 of a phase matching MLA element 10 constituting the optical homogenizer.例文帳に追加

オプチカル・ホモジナイザーを構成する位相整合ＭＬＡ素子１０のＭＬＡ配置領域１１に正六角形形状のマイクロレンズ１３が稠密に形成されている。 - 特許庁

The microlens unit 43 comprises MLA 60 having a plurality of the microlenses 60a two-dimentionally arranged, and a support base 80 supporting the MLA 60.例文帳に追加

マイクロレンズユニット４３は、複数のマイクロレンズ６０ａが二次元的に配列されてなるＭＬＡ６０と、このＭＬＡ６０を支持する支持台８０とからなる。 - 特許庁

An MLA 12 is placed in a pupil plane or an imaging plane of the objective lens 11, and an imaging element 13 is placed behind the MLA 12 and images the testing object formed by the objective lens 11.例文帳に追加

MLA１２は、対物レンズ１１の瞳面又は結像面に配置され、撮像素子１３は、MLA１２の背後に設置され、対物レンズ１１による被検物像を撮像する。 - 特許庁

The respective micrometer heads 86 make the MLA 60 bend downward by protruding a spindle 88 in accordance with rotation of a thimble 87 and applying a load to the MLA 60 in accordance with the protruding amount.例文帳に追加

各マイクロメータヘッド８６は、シンブル８７の回転に応じてスピンドル８８を突出させ、その突出量に応じてＭＬＡ６０に荷重を加えることにより、ＭＬＡ６０を下方に撓ませる。 - 特許庁

The reflection directions of the reflected beams R1, R2 reflected from the upper face 3f of the microlens array (MLA) 3 are detected, and the position of MLA 3 is corrected so as to control the laser beams L1, L2 to be orthogonal to the upper face 3f.例文帳に追加

マイクロレンズアレイ（ＭＬＡ）３の上面３ｆから反射される反射光Ｒ１，Ｒ２の反射方向を検出して、上面３ｆに対してレーザ光Ｌ１，Ｌ２が直交するようにＭＬＡ３の位置を補正する。 - 特許庁

An MLA (microlens array) 12 having a plurality of MLs (microlenses) is arranged on the back of an objective lens 11, and an imaging element 13 is installed on the back of the MLA 12, and images a specimen image by the objective lens 11.例文帳に追加

複数のＭＬを有するMLA１２は、対物レンズ１１の背後に配置され、撮像素子１３は、MLA１２の背後に設置され、対物レンズ１１による被検物像を撮像する。 - 特許庁

The MLA arrangement are 11 is so designed that an area of incident laser light 12 is divided to ≤1/10 and an MLA block 14 wherein longitudinally 6 by laterally 2, i.e., 12 microlenses 13 in total are arranged is regarded as one unit.例文帳に追加

ＭＬＡ配置領域１１は、入射するレーザー光１２の領域を１０分の１以下に分割して、マイクロレンズ１３が縦横に６個（縦）×２個（横）＝１２個配置されたＭＬＡブロック１４を１単位として設計されている。 - 特許庁

In each MLA block 14, microlenses 13 are so formed that the optical phase of transmitted light is inverted by the same quantity as compared with adjacent MLA blocks 14 in terms of the absolute value.例文帳に追加

各ＭＬＡブロック１４では、隣り合うＭＬＡブロック１４間で、絶対値で同じ量だけ透過光の光学的位相が反転するように、マイクロレンズ１３が形成されている。 - 特許庁

In pixel grid imaging, a large number of small optical spots are imaged onto a substrate surface by using a micro-lens array (MLA).例文帳に追加

画素格子結像では、多数の小さな光学スポットがマイクロレンズアレイ（ＭＬＡ）を使用して基板表面上に結像される。 - 特許庁

A sampling value, mlaRtx is obtained by sampling the measurement signals, mla of the charge amount sensors 14 and 15 based on a sampling rate (f).例文帳に追加

サンプリングレートｆにより充填量センサ１４，１５の測定信号ｍｌａをサンプリングしてサンプリング値ｍｌａ_Ｒｔｘ を求る。 - 特許庁

Just focus exposure is carried out with a stepper device using a gradient density mask reticle for producing minute MLA for a liquid crystal.例文帳に追加

次いで、液晶用微小寸法ＭＬＡ製作の濃度分布マスクレチクルを用い、ステッパー装置でジャストフォーカス露光を行なった。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes an array MLA of individually controllable elements to impart a projection beam PB with a pattern in its cross-section.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、その断面にパターンを有する投影ビームＰＢを付与する個別に制御可能な要素のアレイＭＬＡを有する。 - 特許庁

A microlens MLA condenses incident light toward between the pixel electrode PE and the common electrode CE.例文帳に追加

マイクロレンズＭＬＡは、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥの間に向けて入射光を集光する。 - 特許庁

The CMP 14 outputs MLA arithmetic results in an ascending order or a descending order according to the counted result and cycle signals.例文帳に追加

ＣＭＰ１４は、計数結果およびサイクル信号に従って、ＭＬＡ演算結果を昇順または降順に出力する。 - 特許庁

S3: A distance with the pitch error information of the light emitting elements in the MLA of S2 added thereto is used when a distance between dots is obtained by screening.例文帳に追加

Ｓ３：スクリーン処理にてドット間距離を求める際に、Ｓ２のＭＬＡ内の発光素子のピッチ誤差情報を加算した距離を使用する。 - 特許庁

To enhance display quality of an LCD (liquid crystal display) by eliminating luminance unevenness occurring in the horizontal direction, which is peculiar to an MLA (multi-line addressing) driving system.例文帳に追加

ＭＬＡ駆動方式に特有な、横方向に生じる輝度むらを解消し、ＬＣＤの表示品質を向上させる。 - 特許庁

An MLA method is used for high-Duty driving for displaying the whole screen and an SA method is used for low-Duty driving for partial display.例文帳に追加

全画面を表示する高Ｄｕｔｙ駆動ではＭＬＡ法を用い、部分表示をする低Ｄｕｔｙ駆動ではＳＡ法を用いる。 - 特許庁

To prevent a stripe from occurring even when the liquid crystal display is drived by an MLA method so that the scanning direction of scanning electrodes is parallel with the horizontal direction of a display image.例文帳に追加

走査電極の走査方向と表示画像の水平方向が平行であり、ＭＬＡ法で駆動しても筋を発生させない。 - 特許庁

A lithography equipment comprises an array MLA of elements, capable of being individually controlled, which provides a projection beam having a pattern in its crosssection.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、その断面にパターンを有する投影ビームを付与する個別に制御可能な要素のアレイＭＬＡを有する。 - 特許庁

The SA method and a three-line selection MLA+dummy method use the same voltage constitution, so driving is enabled without changing the constitution of the driver IC.例文帳に追加

ＳＡ法と３本選択ＭＬＡ＋ダミー法では使用される電圧構成が同じであることから、ドライバーＩＣの構成を変えずに駆動できる。 - 特許庁

To suppress the increase in current consumption and cross talk when a PWM method is applied for an MLA method.例文帳に追加

ＭＬＡ法に対してＰＷＭ法を適用した場合に、消費電流の増大とクロストークの増大を抑制する。 - 特許庁

An MLA 12 is two-dimensionally arranged on the pupil surface of a lens 11, and an image sensor 13 includes a plurality of two-dimensionally arranged pixels having a photoelectric conversion function, each of which is arranged at a position being on the rear side of each ML of the MLA 12, and conjugate with an object to be inspected.例文帳に追加

MLA１２は、レンズ１１の瞳面に２次元状に配置され、撮像素子１３は、２次元状に配置された光電変換機能を有する複数の画素からなり、MLA１２の各ＭＬの各々の後側であって、被検物と共役となる位置に配置される。 - 特許庁

The MLA 150 is constructed that a plurality of micro lens elements are one dimensionally arranged in a direction intersectionally to its scanning direction and the light receiving enclosure 137 and the detecting enclosure 138 are individually mounted on a second wafer stage WS2 and a first wafer stage WS1 and then the whole of the pupil surface PS is scanned with the MLA 150.例文帳に追加

前記ＭＬＡ１５０は、複数のマイクロレンズエレメントをその走査方向と交差する方向に一次元的に配列して構成し、受光及び検出筐体１３７，１３８を、それぞれ第２、第１ウエハステージＷＳ２，ＷＳ１に載置し、前記瞳面ＰＳ全体を前記ＭＬＡ１５０で走査する。 - 特許庁

To light a circular arc region at high illuminance with less illuminance irregularities by fining the pitch of an interference pattern in a lighting device using a circular arc MLA.例文帳に追加

円弧ＭＬＡを用いた照明装置において干渉縞のピッチを細かくして、円弧領域の照明を高照度かつ照度むら少なく照明する。 - 特許庁

The microlens unit 43 makes the MLA 60 bend in accordance with variation of the focal distance of the microlenses 60a, and thereby, the variation of the focal distances can be corrected.例文帳に追加

マイクロレンズユニット４３は、各マイクロレンズ６０ａの焦点距離のバラツキに応じてＭＬＡ６０を撓ませることにより、焦点距離のバラツキを補正する。 - 特許庁

A 1st MLA 131 constituting an integrator optical system 13 is integrally arranged so as to make the light emitting part 123 of a reflection condensing mirror 12 have a function as a surface plate.例文帳に追加

インテグレータ光学系１３を構成する第１のＭＬＡ１３１を、反射集光鏡１２の光出射部１２３に表面プレートとしての機能をも持つように一体的に配置する。 - 特許庁

After hardening the resist, the substrate is dry-etched with a TCP dry etching device using the resulting resist pattern as a mask to transfer the resist pattern to the substrate and to obtain the objective MLA.例文帳に追加

レジストのハードニングを行なった後、レジストパターンをマスクとしてＴＣＰドライエッチング装置にて基板をドライエッチングしてレジストパターンを基板に転写し、ＭＬＡを得た。 - 特許庁

To suppress the increase of current consumption and the increase of a crosstalk in the case of applying a PWM method to an MLA method and to suppress the increase of the circuit scale of a driving circuit further.例文帳に追加

ＭＬＡ法に対してＰＷＭ法を適用した場合に、消費電流の増大とクロストークの増大を抑制し、さらに駆動回路の回路規模の増大を抑制する。 - 特許庁

When the sound pressure f3 is 1/n time as high as the sound pressure d1 at the peak frequency f1, the mask level in a band including the peak frequency f3 is corrected from the mask level MLa to 0.例文帳に追加

ピーク周波数ｆ１のｎ倍の周波数ｆ３の音圧が、ピーク周波数ｆ１の音圧ｄ１の１／ｎの場合には、ピーク周波数ｆ３を含む帯域でのマスクレベルを、マスクレベルＭＬａから０に補正する。 - 特許庁

The transmission type screen includes a liquid crystal MLA 32 having a 1st substrate 41, a 2nd substrate 42 and a liquid crystal 43 held between the 1st substrate 41 and the 2nd substrate 42.例文帳に追加

第１の基板４１と、第２の基板４２と、第１の基板４１と第２の基板４２とによって挟持された液晶４３とを有する液晶ＭＬＡ３２を備える。 - 特許庁

A block B activation control circuit 207 stops retrieval operation in the memory array B in accordance with voltage of the match line MLA after the retrieval of the memory array A.例文帳に追加

ブロックＢ活性化制御回路２０７は、メモリアレイＡの検索後のマッチラインＭＬＡの電圧に応じて、メモリアレイＢでの検索動作を中止させる。 - 特許庁

A match amplifier A determines matching between data stored in an associative memory in an entry of a memory array A and retrieved data, in accordance with voltage of a match line MLA.例文帳に追加

マッチアンプＡは、マッチラインＭＬＡの電圧に応じて、メモリアレイＡのエントリ内の連想メモリに記憶されたデータと検索データとの一致または不一致を判定する。 - 特許庁

The writing address operation section 27 executes each process of a registration compensation position calculation, an inclination compensating value position calculation, a curve compensation value position calculation, and an MLA compensation value position calculation.例文帳に追加

書き込みアドレス演算部２７は、レジスト補正位置算出、斜行補正値位置算出、湾曲補正値位置算出、ＭＬＡ補正値位置算出、の各処理を実行する。 - 特許庁

Further, the driving voltage V_d when the maximum value of the on/off ratio is obtained is the lowest as compared with the case of driving by IAPT or an MLA method wherein the number of simultaneously selected lines is 2.例文帳に追加

また、ＩＡＰＴまたは同時選択ライン数を２としてＭＬＡ法で駆動する場合に比べて、オン／オフ比の最大値が得られるときの駆動電圧Ｖ_ｄは最も低い。 - 特許庁

The z position of the MLA is adjustable in order to focus the spots on the substrate surface and/or to compensate differences in the height of the substrate surface.例文帳に追加

ＭＬＡのｚ位置は、基板表面上にスポットの焦点を結ばせるため、かつ／又は基板表面の高さの差を補償するために調整可能である。 - 特許庁

Further, a mechanism controller 22 is provided with a resist skewing correction information storage part 28, a curved MLA (microlens array) correction information storage part 30, and a UART communication part.例文帳に追加

また、メカコントローラ２２には、レジスト・斜行補正情報記憶部２８、湾曲・ＭＬＡ（マイクロレンズアレイ）補正情報記憶部３０、ＵＡＲＴ通信部が設けられている。 - 特許庁

Used voltage ranges of the respective driving methods are characterized in that when the Duty is equal, the scanning-side voltage of the MLA method is low and the scanning-side voltage of the SA method is high.例文帳に追加

各駆動方法における使用電圧範囲の特徴は、同一Ｄｕｔｙで比較するとＭＬＡ法では走査側の電圧が低く、ＳＡ法では高い。 - 特許庁

The CMP 14 outputs the MLA computation results in accordance with the counted result and cycle signals in the order of increasing or in the order of decreasing in accordance with the instructions of a PINV 17.例文帳に追加

ＣＭＰ１４は、計数結果およびサイクル信号に従って、ＭＬＡ演算結果を、ＰＩＮＶ１７の指示に応じて昇順または降順に出力する。 - 特許庁

S2: A memory which stores the pitch error information of the light emitting elements in the MLA is prepared in a module which processes the image or in a module of a precedent stage to the module, and the information from S1 is received and stored in the memory.例文帳に追加

Ｓ２：画像処理を行うモジュール、または、それよりも前段階のモジュールにＭＬＡ内の発光素子のピッチ誤差情報を格納するメモリを持ち、Ｓ１からの情報を受信して、メモリ内に保存する。 - 特許庁

A micro lens array (MLA) 150 dividing the light EL for the exposure to a plurality of a luminous fluxes at its pupil surface PS and an image pickup device 153 detecting a light condensing position FP of each split flux are housed in a detecting enclosure 138.例文帳に追加

検出筐体１３８内に、露光光ＥＬをその瞳面ＰＳで複数の光束に分割するマイクロレンズアレイ（ＭＬＡ）１５０と、分割された光束毎の集光点ＦＰを検出する撮像素子１５３とを収容する。 - 特許庁

The notation in z location of the MLA can be adjusted to converge the focusing point of the spots on the surface of the substrate, and/or compensate a difference in height of the surface of the substrate.例文帳に追加

ＭＬＡのｚ位置は、基板表面上にスポットの焦点を結ばせるため、かつ／又は基板表面の高さの差を補償するために調整可能である。 - 特許庁

The particulate layers 51 operate as antireflection bodies preventing interface reflection due to refractive index differences on the interface between the MLA substrate 31 and junction surface 47 and the interface between the junction layer 47 and counter substrate 32 to prevent a decrease in contrast caused by stray light.例文帳に追加

微粒子層５１は、ＭＬＡ基板３１と接合層４７の界面、接合層４７と対向基板３２の界面における屈折率差に起因した界面反射を防止する反射防止体として作用し、迷光によるコントラスト低下を防止する。 - 特許庁

To provide a reflection sheet having scratch preventing function for a backlight of a liquid crystal display(LCD) device, which prevents peaks of embossed projecting parts of a light transmission plate with an embossed surface, worked with an MLA(microlens array) technique, from being scratched and from crushing, and to provide an LCD device using the same.例文帳に追加

ＭＬＡ技術でエンボス加工した表面を有する導光板のエンボス凸部の先端が傷ついて潰れるのを防ぐことができる液晶表示装置バックライト用傷防止機能付き反射シート及びそれを用いた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁