「Masks」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

In this invention, by using a halftone mask, a color filter film thickness difference between the transmission region and the reflection region can be increased though the number of masks is same as before.例文帳に追加

本発明は、ハーフトーンマスクを用いることにより、従来と同じマスク数にも関らず、透過領域と反射領域のカラーフィルタ膜厚差を大きくとることを可能にしている。 - 特許庁

To provide an image processor where the number of times of occurrence of commands for loading new reference masks block to a register decreases, accordingly which can perform motion estimation more quickly.例文帳に追加

新しいリファレンスマクロブロックをレジスタにロードするための命令語の発生回数が減り、従って動き推定をより速く行えるイメージプロセッシング装置及び動き推定方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a projection aligner and a position detecting method, capable of detecting the position of a projection image quickly and accurately, without changing masks at measuring, even if the exposure conditions change.例文帳に追加

露光条件が変わっても、計測時にマスク変更することなく、迅速かつ正確に投影像の像位置を検出可能な投影露光装置及び位置検出方法を提供する。 - 特許庁

One of the masks is used to form a via or a contact opening in the insulating layer, and the other mask is used to form a concave for mutually connecting the insulating layers.例文帳に追加

マスクのうちの１個は、絶縁体層にビアあるいはコンタクト開口を形成するのに用いられ、第２のマスクは絶縁体層の相互接続のための凹部を形成するのに用いられる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a gas-sensing semiconductor device which can be monolithically integrated with drive, control and transducing circuits at a low cost, without requiring extra masks nor processes.例文帳に追加

低コストで、処理回路と制御回路と変換回路とを一体的に集積することができ、余計なマスクや工程を必要としないガス検知半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce burning of a liquid crystal and the degradation of a characteristic, without having to add the number of masks, for a semiconductor device in which a pixel electrode and a gate interconnection are formed on the same interlayer film.例文帳に追加

同一の層間膜上に画素電極と、ゲート配線を形成した半導体装置において、マスク枚数を追加することなく、液晶の焼きつきや特性劣化を低減する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the same whereby a distance between an emitter layer and an external base electrode is shortened to lower a base resistance and reduce the number of masks and the number of steps.例文帳に追加

エミッタ層と外部ベース電極の距離を縮小してベース抵抗の低減と、マスク枚数と工程数の削減が可能な半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The central controller 148 masks peripheral devices which can not execute the task, determines one peripheral device which can execute the task, and sends a service command signal for task execution to this device.例文帳に追加

中央コントローラは、タスク実行不可能な周辺機器をマスクし、そして、タスク実行可能な周辺機器の１つを決定して、該機器にタスク実行のためのサービス・コマンド信号を送信する。 - 特許庁

To provide a method for reducing the number of masks and the number of masking steps in fabricating a semiconductor device with a self-aligned contact and a local interconnect.例文帳に追加

自己整合接点とローカル相互接続の両方を有する半導体デバイスを形成する際に必要とされるマスクの数及びマスキングのステップ数を減らす方法を提供すること。 - 特許庁

To prevent the generation of a false color in the boundary between left and right black masks and an image signal, when displaying a black picture at left and right portions, in a wide liquid crystal image display device having an aspect ratio of 16:9 to display an image with an aspect ratio of 4:3.例文帳に追加

１６：９ワイド液晶の左右に黒画を表示して４：３画像を表示させるとき、左右の黒マスクと画像信号の境目に偽色が発生することを防ぐ。 - 特許庁

To provide a conductive ball mounting method for mounting conductive balls on connecting pads of a substrate through masks, capable of surely mounting one conductive ball on each connecting pad of the substrate.例文帳に追加

基板の接続パッドにマスクを介して導電性ボールを搭載する方法において、基板の各接続パッドに一つの導電性ボールを信頼性よく搭載できる方法を提供する。 - 特許庁

The Agaricus-containing sugarless cookie masks the bitterness of Agaricus and has improved sweetness feeling of sugarless cookie by comprising margarine, reducing maltose and/or erythritol, wheat flour, egg, a taste component and Agaricus.例文帳に追加

マーガリン、還元麦芽糖及び／又はエリストール、小麦粉及び卵と、味の成分及びアガリクスとを含有させることによって、アガリクスの苦味をマスクし、無砂糖クッキーの甘味感を向上させた。 - 特許庁

Then an antireflective film and a photoresist pattern are formed on the silicon oxide film 30 and the photoresist pattern and antireflective film are used as masks to etch the silicon oxide film 30.例文帳に追加

それから、酸化シリコン膜３０上に反射防止膜およびフォトレジストパターンを形成し、フォトレジストパターンおよび反射防止膜をエッチングマスクとして用いて酸化シリコン膜３０をエッチングする。 - 特許庁

A light intensity reflection drawing part 5c makes the calculated value of the light intensity reflect on the surface of the model, and masks a pixel part of the model of a part having the value smaller than a prescribed threshold value.例文帳に追加

光量反映描画部５ｃは、算出した光量の値をモデルの面に反映させ、その値が所定のしきい値より小さい部分のモデルの画素部分にマスクをかける。 - 特許庁

Protective film layers having the discriminated zone groups of different compositions are first sputtered on a disk surface by using discriminated masks under different sputtering conditions.例文帳に追加

、異なる組成の区別されたゾーン群を有する保護膜層が、異なるスパッタリング条件下において区別されたマスクを用いることによって、ディスク表面上に最初にスパッタリングされる。 - 特許庁

Then a resist film having another pattern is formed on the hard mask film, and the workpiece film is selectively dry-etched with the hard mask film and the resist film as masks (S110 and S112).例文帳に追加

その後、ハードマスク膜上に別のパターンを有するレジスト膜を形成して、ハードマスク膜とレジスト膜とをマスクとして被加工膜を選択的にドライエッチングする（Ｓ１１０およびＳ１１２）。 - 特許庁

After completing the alignment, the top face and the back face of the belt-like work W are simultaneously exposed by irradiating with exposure light from irradiation parts 41, 42 via the masks M1, M2 and projection lenses 31, 32.例文帳に追加

位置合せ終了後、光照射部４１，４２からマスクＭ１，Ｍ２、投影レンズ３１，３２を介して、露光光が照射され、帯状ワークＷの表面と裏面が同時に露光される。 - 特許庁

The ohmic contact layer forming film 25 and the semiconductor film forming film 21 are subjected to plasma etching for patterning, using resist patterns 26 and 26 and the second channel protective film 6 as masks.例文帳に追加

そして、レジストパターン２６、２６および第２のチャネル保護膜６をマスクとしたプラズマエッチングにより、オーミックコンタクト層形成用膜２５および半導体膜形成用膜２１をパターニングする。 - 特許庁

To provide a display device and a manufacturing method for the same, that achieve higher image quality by removing a semiconductor pattern from between electrodes of a storage capacitor without increasing the number of masks.例文帳に追加

マスクの枚数を増やすことなく、ストレージキャパシタの電極間から半導体パターンを除去して高画質化を実現させる表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A mask holder 6 is used in an ion implanter which implants ions into a substrate through an opening 5 formed by superimposing a plurality of masks.例文帳に追加

マスクホルダー６は、複数枚のマスクの重ね合わせにより形成される開口部５を介して、基板へのイオン注入を実施するイオン注入装置に用いられるマスクホルダー６である。 - 特許庁

To provide a cotton sheet which can have stretchability and a practical strength capable of being applied to face masks in the cotton sheet using cotton fibers as constituting fibers without using thermoplastic synthetic fibers.例文帳に追加

熱可塑性合成繊維を用いることなく、木綿繊維を構成繊維とする木綿シートにおいてフェイスマスクに適用し得る伸長性と実用強度を具備できるシートを提供する。 - 特許庁

To simply set a subnet for communicating between subnets when different subnet masks are set between a plurality of subnets of a game house.例文帳に追加

遊技場の複数のサブネット間において、異なるサブネットマスクが設定されている場合に、これらのサブネット間で通信を行うためのサブネットマスクの設定を簡易的に行うことを可能とする。 - 特許庁

A substrate holder 2 for retaining the substrate 3 to be deposited is oppositely arranged to two or more deposition masks 7 having pixel opening parts 7a corresponding to deposition patterns.例文帳に追加

蒸着パターンに対応した画素開口部７ａを有する複数の蒸着マスク７に対して、蒸着対象となる基板３を保持するための基板ホルダー２を対向配置する。 - 特許庁

First masks 6 having lattice type regular patterns in first opening sections (holes) 61 are manufactured by using a double patterning technique for forming the contacts 3 for the sub-lithographic.例文帳に追加

サブリソグラフィックのコンタクト３を形成するために、第１の開口部（ホール）６１の格子型の規則正しいパターンを有する第１のマスク６をダブルパターニング技術を用いて製造する。 - 特許庁

Next, trench mask patterns and filler insulating film patterns are formed for defining slit type openings crossing and exposing the active regions by patterning the trench masks and filler insulating films.例文帳に追加

次に、トレンチマスク及び埋め立て絶縁膜をパターニングして活性領域を横切り、露出させるスリット型開口部を定義するトレンチマスクパターン及び埋め立て絶縁膜パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for scales for photoelectric encoders capable of adapting to the diversification of the widths and intervals of a plurality of line patterns constituting optical gratings without having to create new masks.例文帳に追加

新たなマスクを作製することなく、光学格子を構成する複数のラインパターンの幅や間隔の多様化に対応できる光電式エンコーダ用スケールの製造方法を提供する。 - 特許庁

On the day of the performance, an altar is set up in Kagami no ma (literally, the "mirror room" behind Agemaku, or the curtain separating it and the stage, in which the fully-dressed performers don their masks and gaze into a large mirror to concentrate on their roles while they wait to enter the stage), and each actor purifies himself through Sakazuki-goto (the drinking of Omiki, or sacred sake) and with Kiribi (sacred sparks produced by rubbing together two pieces of wood, generally Hinoki, which is chamaecyparis obtusa, or by striking a flint against iron) before going on the stage. 例文帳に追加

当日は鏡の間に祭壇をしつらえ、舞台に上がる前に各役が盃事と切火で身を清める。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Additionally, the head family ended up in court for a conflict over apportionment of the property left by the previous headman, and they were sentenced to sell inherited costumes and masks and apportion the proceeds of the sale among the family members of the deceased at the first and the second trials. 例文帳に追加

また宗家は先代の遺産分割を巡って訴訟が発生し、1審、2審では装束や面などを売却してその代金を遺族で分割するとの判決が出た。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Broadly-speaking, there are various types of wood carving and dry lacquer (technique involving laying lacquer onto a mold and drying it to make the base), while the wood-carved masks in the Asuka period were basically made from camphor, and the ones in the Nara period from paulownia. 例文帳に追加

大きくわけて木彫と乾漆（型にうるしを塗り固め素地をつくったもの）があり、木彫は飛鳥時代のものがおおむねクスノキ、奈良時代がキリをつかって作られている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a mask or the like for forming an organic EL element excelling in practicability achieving a frameless structure in covering the surface of a large-sized substrate using a plurality of masks.例文帳に追加

複数のマスクを用いて大型基板の表面を覆う際にフレームレス構造を実現可能とする極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子形成用のマスク等を提供する。 - 特許庁

The interference fringes emitted from the projection device 1 are made to enter the object S, and an interference fringe image obtained by transmitting it through the object S is passed through the phase masks 3.例文帳に追加

干渉縞投影装置１から発せされた干渉縞を物体Ｓに入射させ、これが物体Ｓを透過することによって得た干渉縞画像を位相マスク３中を貫通させる。 - 特許庁

One of the masks is used for forming a via or a contact opening in the insulator layer, and the second mask is used for forming a recess for interconnection in the integrated circuit.例文帳に追加

マスクのうちの１個は、絶縁体層のビアあるいはコンタクト開口を形成するのに用いられ、第ニのマスクは集積回路に相互接続のための凹部を形成するのに用いられる。 - 特許庁

The mask assembly includes: a frame mask 100 comprising an opening 120 and a frame 110 surrounding the opening; the pattern masks 200 comprising the pattern parts with the formed one or more of patterns and the joint parts joined (welded, soldered or brazed) while being stretched to the frame; and the supports 300 joined (welded, soldered or brazed) to the pattern masks crossing the opening.例文帳に追加

開口部１２０及び開口部を囲んだフレーム１１０を含むフレームマスク１００と；一つまたは複数のパターンが形成されるパターン部及び引張されてフレームと接合（溶接、半田付け、ロウ付け等）される接合部を含むパターンマスク２００；及び開口部を横切って、パターンマスクと接合（溶接、半田付け、ロウ付け等）される支持台３００を含むマスク組立体に関する。 - 特許庁

A method for producing a probe test head for testing a semiconductor integrated circuit includes a step in which a plurality of probes 81 are defined for one or a plurality of masks, a step in which a plurality of probes are produced by using the masks, and a step in which a plurality of probes 81 are arranged by inserting them into the corresponding holes of a first die 42 and a second die 44.例文帳に追加

半導体集積回路をテストするためのプローブ・テスト・ヘッドを製造する方法は、１つ又は複数のマスクとして、複数のプローブ８１の形状を画成するステップと、該マスクを使用して、複数のプローブを製造するためのステップと、第１のダイ４２と第２のダイ４４内の対応するホールを通して複数のプローブ８１を配置するステップとを含んでいる。 - 特許庁

Concerning cases in which workers engaged in the above emergency tasks at the TEPCO's Fukushima No.1 Nuclear Power Plant forgot to put radiation filters on their masks or smoked by taking off their masks, an instruction card was issued to relevant companies under the name of the Chief of the Tomioka Labour Standards Inspection Office against TEPCO to fully enforce measures against reoccurrence of such problems. (June 22, 2011)例文帳に追加

上記の東電福島第一原発で緊急作業に従事する労働者がマスクにフィルターを付け忘れていた件やマスクを外して喫煙していた件に関し、東京電力に対し、再びこのような問題を生じさせないよう、関係事業者に徹底すること等について、富岡労働基準監督署長名で指導票を交付（平成23年6月22日） - 厚生労働省

The solar cell module includes a translucent substrate 7, a translucent resin 8 formed on the translucent substrate 7, masks 2a and 2b provided on the translucent resin 8, a plurality of solar cell elements 3 provided on the translucent resin 8, and the wiring connected to the solar cell elements 3 and bonded to the masks 2a and 2b with a hot-melt adhesive 21.例文帳に追加

透光性基板７と透光性基板７上に設けられた透光性樹脂８と、透光性樹脂８上に設けられたマスク２ａ、２ｂと、透光性樹脂８上に設けられた複数の太陽電池素子３と、この太陽電池素子３と接続されており、ホットメルト接着剤２１によりマスク２ａ、２ｂと接着された配線とを有する太陽電池モジュール。 - 特許庁

To provide a proximity-scanning exposure device and a proximity-scanning exposure method for preventing the occurrence of connection unevenness in adjacent exposed regions, when using a plurality of masks to be exposed in proximity.例文帳に追加

複数のマスクを使用して近接露光する際に、隣り合う被露光領域での繋ぎムラの発生を防止することができる近接スキャン露光装置及び近接スキャン露光方法を提供する。 - 特許庁

Next, optical intensities of first and second masks 30 whose dimensions are previously measured are simulated (step S12), and the difference between the optical intensities is calculated from this optical intensity distribution simulation (step S13).例文帳に追加

次に、予め寸法測定されている第１及び第２のマスク３０の光強度シュミュレーションを行ない（ステップＳ１２）、この光強度分布シュミュレーションから光強度の差を計算する（ステップＳ１３）。 - 特許庁

A mask register 5 masks specific low-order bit data of the current A/D converted value stored in an AD conversion register 3 and the last A/D converted value stored in an AD comparison register 4.例文帳に追加

マスクレジスタ５は、ＡＤ変換レジスタ３に格納された今回のＡ／Ｄ変換値とＡＤコンペアレジスタ４に格納された前回のＡ／Ｄ変換値に対して所定の下位ビットデータをマスクする。 - 特許庁

A mobile station for transmission can switch two or at least three long code masks for generating one or at least two pseudo noise (PN) codes for spreading data for transmission.例文帳に追加

送信する移動局は送信のためのデータを拡散するための１あるいは２以上の擬似雑音（ＰＮ）符号を生成するための２あるいは３以上の長符号マスクを切り換えることができる。 - 特許庁

On a mask M, an identification code 13 is formed which includes a 1st unique code 15 corresponding to a pattern 11 and a 2nd code 16 for discriminating a plurality of masks M where the same pattern 11 is formed is formed.例文帳に追加

マスクＭ上に、パターン１１に対応した固有の第１コード１５と、同一のパターン１１が形成された複数のマスクＭを識別するための第２コード１６とを含む識別コード１３を形成する。 - 特許庁

A mask circuit 8 masks an SRF signal 5 being a binary output from a comparator with a mask width narrower than a minimum width of the SRF signal 5 so as to control a width of a drive signal of a constant current source 6.例文帳に追加

マスク回路８によりコンパレータの２値化出力であるＳＲＦ信号５の最小幅よりも短いマスク幅で、このＳＲＦ信号５をマスクし、定電流源６の駆動信号幅を制御する。 - 特許庁

To provide a multilayer circuit board having a curing composition for solder masks with improved low-dielectric characteristics, heat-resistance properties, moisture-resistance properties, and insulating resistance properties, and a solder mask obtained by curing the curing composition.例文帳に追加

低誘電特性、耐熱性、耐湿性及び絶縁抵抗性に優れるソルダーマスク用硬化性組成物、及び該硬化性組成物を硬化してなるソルダーマスクを有する多層回路基板を提供する。 - 特許庁

The mask processing section 14 masks the unwanted part in the supervised image on the basis of the positional information, inserts character information to the masked area and outputs the result to an image encoder 16.例文帳に追加

マスク処理部１４は、上記位置情報に基づいて、監視画像中の不都合な部分をマスクすると共に、そのマスク領域に文字情報を挿入して画像符号化装置１６へ出力する。 - 特許庁

With the tin plating 2 as a mask, the copper foil 1 is etched to make it into separated protuberant bodies 10, and the nickel plating 3 is etched together with the nickel plating 2 with the protuberant bodies 10 as masks.例文帳に追加

ニッケルめっき２をマスクとして銅箔１をエッチングして離散的な凸状体１０となし、ニッケルめっき２をエッチングしつつ凸状体１０をマスクとしてニッケルめっき３をエッチングする。 - 特許庁