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該当件数 : 1005



例文

The wafer for LED is obtained by forming an Au plating surface layer of Au or an Au alloy on both surfaces vertically symmetrically around a thin film core material consisting of Mo, and then forming composite underlying layer consisting at least of a Cu plating layer between the core material and the Au plating surface layer, so as to complement and maintain the core material and the Au plating surface layer.例文帳に追加

Moからなる薄板状のコア材を中心として上下対称となるように、両面にAuまたはAu合金のAuメッキ表面層を形成し、コア材とAuメッキ表面層との間にそれを補完・維持する少なくともCuメッキ層からなる複合下地層を形成してなることを特徴とする。 - 特許庁

A catalyst containing one or two or more kinds of metal components selected from a group comprising Cr, Mo, W, Fe, Ni, Co and platinum-group elements is disposed in an engine intake air duct, and the steam and carbon dioxide gas contained in the intake air are partially dissociated by the catalyst to reduce the thermal dissociation load in an engine.例文帳に追加

Cr,Mo,W,Fe,Ni,Coおよび白金族元素よりなる群から選択される1種または2種以上の金属成分を含有する触媒を、エンジン吸気ダクトに配置し、吸気中に含まれる水蒸気および炭酸ガスを前記触媒によって部分的に解離することによって、エンジン内での熱解離負荷を軽減する様にした。 - 特許庁

Since a diffusion layer 13 formed during film formation between the Si layer 11 and the Mo layer 12 has a property reducing a reflectivity of the multilayered film mirror 10, a film thickness distribution is provided in the in-plane direction of the diffusion layer 13 to correspond to a mirror peripheral part and a center part having each different incident angle of a soft X-ray R1.例文帳に追加

Si層11とMo層12の間に成膜中に形成される拡散層13は、多層膜ミラー10の反射率を低下させる性質があるため、軟X線R1の入射角度が異なるミラー周辺部分と中央部に対応するように、拡散層13の面内方向に膜厚分布を設ける。 - 特許庁

When the height positions of the heddle frames 151-154 are within a specific height range memorized in a memory 31 and the angle of rotation of the loom is in the specific range of the angle of rotation memorized in the memory circuit 31 corresponding to the height positions of the rapier heads 27, 28, the control circuit 32 inhibits actions of the opening drive motor 24 and loom drive motor Mo.例文帳に追加

綜絖枠151〜154の高さ位置が記憶回路31に記憶された特定高さ位置範囲にあり、かつレピアヘッド27,28の位置に対応する織機回転角度が記憶回路31に記憶された特定回転角度範囲にあるとき、制御回路32は開口駆動モータ24及び織機駆動モータMoの作動を禁止する。 - 特許庁

例文

The casting belt 95 is formed from austenite stainless containing at least one of Mn of 1.35 wt.% or more and 2 wt.% or less, Ni of 11 wt.% or more and 14 wt.% or less, Cr of 16 wt.% or more and 17 wt.% or less, and Mo of 2 wt.% or more and 2.07 wt.% or less.例文帳に追加

流延バンド95を、1.35重量%以上2重量%以下のMnと、11重量%以上14重量%以下のNiと、16重量%以上17重量%以下のCrと、2重量%以上2.07重量%以のMoと、のうち少なくとも1つを含むオーステナイト系ステンレスから形成する。 - 特許庁


例文

In the MO-PA type optical amplifier, where the oscillator and an amplifier are coupled having a fiber for optical amplification; a fiber for converting a reflection light wavelength for converting the wavelength of reflection light toward the side of the oscillator by stimulated Raman scattering, and a filter for removing light that is subjected to wavelength conversion, are provided between the oscillator and the amplifier.例文帳に追加

発振器と、光増幅用ファイバを有する増幅器とを結合してなるMO−PA方式の光増幅器において、発振器と増幅器の間に、誘導ラマン散乱によって発振器側に向かう反射光の波長変換を行う反射光波長変換用ファイバと、波長変換された光を取り除くフィルタとが設けられたことを特徴とする光増幅器、この光増幅器を有するファイバレーザ。 - 特許庁

The hydrogen purification apparatus is composed of a reformed gas supply part for supplying the reformed gas containing hydrogen and carbon monoxide and a shifting part having a catalytic body 1 for removing CO from the gas supplied from the reformed gas supply part and the catalyst contains Pt and at least one of a metal selected from a group composed of W, Mo and Sn.例文帳に追加

水素および一酸化炭素を含有する改質ガスを供給する改質ガス供給部と、前記改質ガス供給部より供給されたガスからのCOを除去する触媒体1を有する変成部からなり、前記触媒が、W、Mo、Snからなる群より選択される少なくとも一種の金属とPtとを含む。 - 特許庁

In the welding method using an argon gas containing 15-40% of carbon dioxide as a shielding gas, a vertical upward welding is carried out in a heat input condition while using a consumable electrode containing 0.5-1.0 mass % of silicon, 0.15-0.30 mass % of titanium, and 0.0010-0.0025 mass % of boron.例文帳に追加

シールドガスとして、15〜40%のCO_2を含むArガスを用いて行う溶接方法において、消耗電極として、 C:0.005〜0.06mass%、 Si:0.5〜1.0mass%、 Mn:1.5〜2.5mass%、 Ti:0.15〜0.30mass%、 Mo:0.12〜0.25mass%、 B:0.0010〜0.0025mass%、 を含む溶接ワイヤを使用し、自動溶接にて開先内でウイービングしながら、溶接入熱が7kJ/mm以上になる大入熱条件下で立向き上進溶接を実施する。 - 特許庁

The lithographic projection apparatus is characterized by the mirror 300 having a mirroring surface formed with a blazed grating comprising one or more protrusions 100 comprising a material selected from among at least one of Be, B, C, P, S, K, Ca, Sc, Br, Rb, Sr, Y, Zr, Nb, Mo, Ba, La, Ce, Pr, Pa and U.例文帳に追加

Be、B、C、P、S、K、Ca、Sc、Br、Rb、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Ba、La、Ce、Pr、Pa及びUのうちの少なくとも1つから選択された材料からなる1つ又は複数の突起100によるブレーズド格子を形成した鏡映表面を有するミラー300を特徴とするリソグラフィック投影装置。 - 特許庁

例文

Disclosed is a high-strength thick steel plate having a chemical composition comprising 0.01 to 0.12% C, ≤0.50% Si, 0.4 to 2% Mn, ≤0.05% P, ≤0.008% S, 0.002 to 0.05% Al, ≤0.01%例文帳に追加

C:0.01〜0.12%、Si≦0.50%、Mn:0.4〜2%、P≦0.05%、S≦0.008%、Al:0.002〜0.05%、N≦0.01%、Nb:0.003〜0.1%、残部はFeと不純物からなる化学組成で、〔C+(Mn/6)+(Cu/15)+(Ni/15)+(Cr/5)+(Mo/5)+(V/5)〕:0.32〜0.40%、板厚中心部において、フェライト組織分率≧80%、有効結晶粒径≦25μmで、しかも、板厚1/4位置における45゜方向の(321)面、(211)面及び(110)面のX線強度比の和と板厚中心部における45゜方向の(321)面、(211)面及び(110)面のX線強度比の和との算術平均値が3.3以下である高強度厚肉鋼板。 - 特許庁

例文

Even when the auxiliary capacitor upper electrode 81b is exposed to the PE atmosphere during the process, the presence of the Mo layer 18b_2 on the surface of the auxiliary capacitor upper electrode 18b prevents damages on the auxiliary capacitor upper electrode 18b, which reduces short circuits between the auxiliary capacitor upper electrode 18b and the auxiliary capacitor electrode 18a.例文帳に追加

途中で補助容量上電極18bが露出してPE雰囲気に曝されても、補助容量上電極18bの表面にはMo層18b_2が存在しているために補助容量上電極18bはダメージを受けず、補助容量上電極18bと補助容量電極18aとの間の短絡が少なくなる。 - 特許庁

For the multilayer film mirror 2 which repeatedly piling layers (Mo layers 3 and Si layers 4) consisting of different materials with large difference in refractive index in soft X-ray range and refractive index in vacuum, the material of at least either layer of different materials is constituted of a material with a lighter mass of a natural isotope.例文帳に追加

軟X線領域での屈折率と真空の屈折率との差が大きい互に異なる材料からなる層(Mo層3、Si層4)を、交互に繰り返し積層した多層膜反射鏡2において、前記互に異なる材料からなる層の少なくともいずれかの層の材料が、自然同位体質量よりも軽い材料によって構成されていることを特徴としている。 - 特許庁

The single crystal of lead tungstate produced from tungsten trioxide and lead oxide or lead tungstate as main raw materials, contains at least two kinds of elements selected from Cd, Zn, Mo, Nb, Sb, La, Y and Gd in an amount of 0.01 to 20 mol % wherein a combination of Y and Nb is excepted.例文帳に追加

三酸化タングステン及び酸化鉛、又はタングステン酸鉛を主原料として使用し製造されるタングステン酸鉛単結晶に、添加剤としてCd、Zn、Mo、Nb、Sb、La、Y、Gdの内、Y−Nb系を除く2種類以上の元素を合計で0.01モル%以上20モル%以下含有させる。 - 特許庁

The second catalyst is a catalyst which contains at least one kind of Ti oxide and Ti-Si double oxide, or a catalyst which contains at least one kind of Ti oxide and Ti-Si double oxide as A component and contains at least one kind of W, Mn, Mo, Ce, Co, Nb, Ni, Zn, Zr, Sn, Ta and La as B component.例文帳に追加

第2触媒:Ti酸化物およびTi−Si複合酸化物の少なくとも1種を含む触媒、または、A成分としてTi酸化物およびTi−Si複合酸化物の少なくとも1種を含み、B成分としてW、Mn、Mo、Ce、Co、Nb、Ni、Zn、Zr、Sn、Ta、Laの少なくとも1種を含む触媒。 - 特許庁

The optical information recording medium is characterized by preparing a barrier layer made of the materials composed of mixture of carbonized materials and oxide including at least one metal chosen from Ti, Zr, V, Nb, Ta, Cr, Mo and W at a side contacting the reflective layer of the second dielectric layer.例文帳に追加

透明な基板上に第一誘電体層、記録層、第二誘電体層、反射層を順次有する光情報記録媒体であって、第二誘電体層の反射層に接触する側にTi、Zr、V、Nb、Ta、Cr、MoおよびWから選ばれる少なくとも一つの金属を含む炭化物と酸化物の混合物により構成された材料で形成されているバリア層を設けることを特徴とする光情報記録媒体。 - 特許庁

The transparent conductive film is formed by using a sputtering target comprising: indium oxide as an essential component; at least one metal chosen from a first metal group M1 consisting of W, Mo, Nb, Ni, Pt and Pd, or an oxide of the metal; and an oxide of at least one metal chosen from a second metal group M2 consisting of lanthanoid metals.例文帳に追加

酸化インジウムを主成分とし、W、Mo、Nb、Ni、Pt、Pdからなる第1金属群M1から選ばれた1種又は2種以上の金属又はその金属の酸化物と、ランタノイド系金属からなる第2金属群M2から選ばれた1種又は2種以上の金属の酸化物と、を含むスパッタリングターゲットを利用して、透明導電膜を作製する。 - 特許庁

The braking material having both the sliding property and the abrasion resistance under a heavy load condition is obtained from a cobalt sintered compact comprising a cobalt alloy as an essential element, and at least one inorganic substance among carbide, nitride, oxide, or boride, of at least one metal selected among Si, W, Mo, Ta, Cr, Ti, Zr, Hf, V, and Nb.例文帳に追加

コバルト基合金を必須成分とし、Si、W、Mo、Ta、Cr、Ti、Zr、Hf、V、Nbの少なくとも1種から選ばれる金属の炭化物、窒化物、酸化物、硼化物の少なくとも1種からなる無機物からなるコバルト基焼結体によって、高荷重負荷条件下での摺動性および耐摩耗性を併せ持つ制動材が得られた。 - 特許庁

The aromatic hydrocarbon, having at least one hydrogen directly bound to a benzene ring, and a methylenation agent such as formalin are made to react in a specified range of temperature, thus obtaining a reaction mixture in the presence of the heteropoly acid, which is produced through condensation between at least one oxide selected from among Mo, W, Nb and V and an oxygen acid of P, Si, As or Ge.例文帳に追加

ベンゼン環に直接結合した水素を少なくとも1個有する芳香族炭化水素とホルマリン等のメチレン化剤を、Mo、W、NbおよびVから選ばれた少なくとも1種の酸化物と、P、Si、AsまたはGeの酸素酸の縮合した酸であるヘテロポリ酸の存在下に特定の温度範囲で反応させ、反応混合物を得る。 - 特許庁

In the epitaxial growth process of the compound semiconductor crystal carried out, by introducing a raw material gas and a plurality of organic metal raw materials, the number of the pits generated in the growing process of the compound semiconductor crystal is suppressed, by decreasing the ratio of the total supplied amount of the MO raw materials to the supplied mount of the raw material gas (V/III ratio).例文帳に追加

原料ガスと複数の有機金属原料を導入することにより行われる化合物半導体結晶のエピタキシャル成長工程において、前記原料ガスの供給量に対する前記MO原料の全供給量の比(V/III比)を低減させることにより、前記化合物半導体結晶の成長過程において生じる結晶中のピット数を抑制する。 - 特許庁

In this laminated ceramic capacitor, which is formed by integrally laminating a plurality of dielectric layers composed of a dielectric ceramic composition and a plurality of internal electrodes upon another, the porcelain composition contains one kind or two or more kinds of impurity elements, selected from among Mn, V, Cr, Mo, Fe, Ni, Cu, and Co at a ratio of 0.01-1.0 mol%.例文帳に追加

複数の誘電体層と複数の内部電極とを一体的に積層してなり、該誘電体層は誘電体磁器組成物からなる積層セラミックコンデンサにおいて、該誘電体磁器組成物にMn,V,Cr,Mo,Fe,Ni,Cu及びCoから選択された1種又は2種以上の不純物元素を0.01〜1.0モル%の範囲で含ませた。 - 特許庁

A part which is to be a wring circuit for a printed wiring board 1 comprising a metal coated with plastic or insulating material comprises, as a base material layer, a Cu foil or Cu plated layer 2, over which an Ni plated layer 3, Mo-containing Pd plated layer 4, and Au plated layer 5 are sequentially provided.例文帳に追加

プラスチック、絶縁材で被覆した金属などのプリント配線基板1の配線の回路となる部分に下地層としてCu泊またはCuめっき層2を有し、その上にNiめっき層3、Mo含有Pdめっき層4およびAuめっき層5を順次設けたことを特徴とする半田接合用パッド部を有するボンディング用プリント配線板。 - 特許庁

In the magnetic recording medium provided with a non-magnetic substrate, a seed forming layer formed directly or indirectly on the non-magnetic substrate, a metal base layer and a ferromagnetic metal layer for recording magnetic information, the seed forming layer is constituted of an alloy containing Nb or an alloy containing at least one element selected from V, Mo and W.例文帳に追加

非磁性基板と、該非磁性基板上に直接または間接的に形成された核生成層と、金属下地層と、磁気情報を記録するための強磁性金属層とを備える磁気記録媒体において、前記核生成層が、少なくともNbを含む合金、あるいはV、Mo、Wから選ばれる少なくとも1種以上元素を含む合金からなる構成とした。 - 特許庁

The film-electrode assembly is composed of a solid polymer electrolyte film and electrodes joined to both surfaces of the solid polymer electrolyte film, and the solid polymer electrolyte film and/or the electrode contains one or more of ionized metallic element chosen from RU, W, Sn, Mo, Nb, Ta, Pt, Zr, Hf, Ti, and/or metal compound thereof.例文帳に追加

固体高分子電解質膜と、該固体高分子電解質膜の両面に接合された電極とを備え、前記固体高分子電解質膜及び/又は前記電極に、Ru、W、Sn、Mo、Nb、Ta、Pt、Zr、Hf及びTiから選ばれる1以上の金属元素のイオン及び/又はその金属化合物を含む膜電極接合体。 - 特許庁

In the method for producing an optical product where an optical thin film is formed on a substrate using two targets by sputtering, the two targets for the sputtering are each composed of Si, and a mixed solid solution composed of at least one transition metal selected from Ti, Nb, Ta, Zr, Hf and Mo, and Si.例文帳に追加

スパッタリングにより2つのターゲットを用いて基板上に光学薄膜を形成する光学製品の製造方法であって、前記スパッタリング用の2つのターゲットが、Siおよび、Ti、Nb、Ta、Zr、HfおよびMoから選ばれた少なくとも一種の遷移金属とSiからなる混合固溶体である。 - 特許庁

This nitride layer is formed on an austenitic iron-based metal and, as precipitates, contains chromium carbonitride, the main phase of the nitride layer preferably has a face-centered cubic structure, and the nitride has a compositional ratio of Me4N (Me: metallic elements such as Fe, Cr, Ni and Mo).例文帳に追加

オーステナイト系鉄基金属上に生じた窒化物層で、析出物として、炭窒化クロムを含有することを特徴とする窒化物層であり、好ましくはその窒化物層の主相が、面心立方構造であり、Me_4N(Me:Fe、Cr、Ni、Moなどの金属元素)の組成比のものであることを特徴とする窒化物である。 - 特許庁

The electrode material of the nonaqueous secondary battery has oxide particles of at least one element selected from the group comprising Ti, Zr, V, Nb, Cr, Mo, and W and a covering layer for covering the particles and containing a carbon material having conductivity, and the covering layer is contained in a ratio to the total weight of 5 wt% or less.例文帳に追加

本発明の非水二次電池の電極材料は、Ti、Zr、V、Nb、Cr、Mo、およびWからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を含む酸化物の粒子と、前記粒子を覆い導電性を有する炭素材料を含む被覆層とを備え、前記被覆層が、全重量に対して5wt%以下の割合で含まれていることを特徴とする。 - 特許庁

For especially forming these pads 11a at the same time as forming scanning lines 11 and gate electrodes 11a of TFTs 7, the bottom Mo layer 12 is set to a thickness of 20 nm or less, thereby preventing the scanning lines 11, etc., from being in overhanging or precipitous shapes to avoid short-circuiting between layers or breaking signal lines 31.例文帳に追加

特には、外部接続パッド11bを走査線11、及びTFT7のゲート電極11aと同時に形成するにあたり、ボトムMo層12の厚さを20nm以下とすることにより走査線11等の端面がオーバーハング状ないし断崖状になるのを防ぎ、層間ショートや信号線31の断線を防止することができる。 - 特許庁

A ferrite group material containing at least 68% by weight of iron Fe and general impurities, 22 to 32% by weight of chromium ingredient, 1 to 10% by weight of Mo and 0.01 to 1.5% by weight of Y and/or rare earth group metals and/or its oxides is used as the current collector material for the SOFC high temperature fuel cell.例文帳に追加

68重量%以上の鉄Feと通常の不純物の他に、22〜32重量%のクロム配合分を含み、かつ1〜10重量%のMo及び0.01〜1.5重量%のY及び/又は希土類金属及び/又はそれらの酸化物を含むフェライト系材料をSOFC高温燃料電池の集電体材料として使用する。 - 特許庁

To prevent in the method of manufacturing a semiconductor device that ions are deeply implanted due to channeling by employing a very simplified means on the occasion of forming, with the ion implantation, a source region and a drain region of a MOSFET (Metal-Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) where a gate electrode is formed of a columnar crystal metal such as Mo, Al, and W.例文帳に追加

半導体装置の製造方法に関し、Mo、Al、Wなど柱状結晶のメタルをゲート電極とするMOSFETのソース領域及びドレイン領域をイオン注入で形成する際、極めて簡単な手段を採ることでイオンがチャネリングに依って深く打ち込まれることを防止できるようにする。 - 特許庁

The flexible laminated plate includes a base film 1, the intermediate layer 2 laminated on the base film 1 and a conductive layer 3 laminated on the intermediate layer 2, wherein the intermediate layer 2 is composed of a nickel-based alloy containing not less than 55 wt.% of Ni, 12 to 45 wt.% of Mo, and 0 to 33 wt.% of Cr.例文帳に追加

ベースフィルム1と、このベースフィルム1上に積層された中間層2と、この中間層2上に積層された導電層3と、を備えたフレキシブル積層板において、中間層2は、ニッケル基合金によって構成されており、このニッケル基合金は、Ni;55重量%以上、Mo;12〜45重量%、Cr;0〜33重量%、を含有することを特徴とする。 - 特許庁

An analytical treatment block 42 forms analytical data 33b from each frame data 33a of insertion shape data of the inserting part, and forms insertion auxiliary information 33c about no movement of the tip end side of the inserting part and updates sequentially when the movement amount Mo of the most tip end is less than 0.1 to the movement amount Mn by the source coil.例文帳に追加

挿入部の挿入形状データの各フレームデータ33aから解析処理ブロック42は解析データ33bを生成し、かつソースコイルの手元側の移動量Mnに対して最先端の移動量Moが0.1以下の場合には、挿入部の先端側が移動していないという挿入補助情報33cを生成して順次更新する。 - 特許庁

The composite material is manufactured by preparing a lamina formed by using an iron-base alloy powder consisting of Fe, C, Cr, Mo, W, Co and one or more elements among V, Nb, Ti, Ta, Zr and Hf, alternately laminating the above lamina and oxide- or nitride-ceramics long fiber and long fiber yarn, and subjecting the resultant laminated materials to pressure sintering.例文帳に追加

Fe、C、Cr、Mo、W、CoおよびV、Nb、Ti、Ta、Zr、Hfの1種または2種以上からなる鉄基合金粉末より作成した薄シートと酸化物或いは窒化物セラミック長繊維および長繊維ヤーンを交互に積層したものを加圧焼結成形した複合材料より構成される。 - 特許庁

An FRP molding composition contains urethane acrylate as a matrix resin and a glass fiber as a reinforcing material wherein the glass fiber is based on SiO2-Al2O3-MO and has a glass composition containing 1-10 mol% of ZnO, 5 mol% or less (including 0 mol%) of B2O3 and 0.5-5 mol% of TiO2 as the MO component.例文帳に追加

FRP成形用組成物は、マトリクス樹脂としてウレタンアクリレートを含み、補強材であるガラス繊維が、SiO_2 −Al_2 O_3 −MO系の組成において、前記MO成分としてZnOを1〜10モル%含み、かつ、B_2 O__3 を5モル%以下(0モル%を含む)とするとともに、TiO_2 を0.5〜5モル%含むガラス組成であることを特徴とする。 - 特許庁

In the EB vapor deposition device, a shielding plate 12 made of a metal having a high melting point such as hafnium(Hf), ruthenium(Ru), iridium(Ir), niobium(Nb), molybdenum(Mo), tantalum (Ta), rhenium(Re) and tungsten(W) is disposed along the inner wall of a magnesia(MgO) crucible 4 so as to prevent direct contact between the cobalt(Co) 13 and the crucible 4.例文帳に追加

このEB蒸着装置においては、マグネシア(MgO)製ルツボ4の内壁に沿ってハフニウム(Hf),ルテニウム(Ru),イリジウム(Ir),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),タンタル(Ta),レニウム(Re),タングステン(W)等の高融点金属からなる遮蔽板12を配置し、コバルト(Co)13と、ルツボ4とが直接接触しないようにしている。 - 特許庁

A crystal raw material consisting of a composition containing a terminal component more than a stoichiometrical composition represented by chemical formula XB_2 (wherein X contains at least one kind selected from Zr, Hf, Ti, W, Mo, and Cr) is heat-melted in a sealed crucible made of a weldable metal having a melting point of ≥2,000°C, and cooled to be crystallized and grown.例文帳に追加

融点が2000℃以上の溶接可能な金属製の密閉坩堝の中で化学式XB_2(但し、XはZr、Hf、Ti、W、Mo、Crの少なくとも一種を含む)で表わされる化学量論組成よりも端成分に富む組成からなる結晶原料を加熱融解し冷却することによって結晶化して育成する。 - 特許庁

The slitter blade is composed of matrix high speed steel having a composition containing, by mass, Fe as a principal component, 0.7 to 0.9% C, 0.15 to 0.35% Si, ≤2% Mn, 5 to 6% Cr, 2.5 to 3.5% Mo and 1.8 to 2.3% V.例文帳に追加

本発明のスリッタ刃は、主成分としてのFeと、0.7質量%以上0.9質量%以下のCと、0.15質量%以上0.35質量%以下のSiと、2質量%以下のMnと、5質量%以上6質量%以下のCrと、2.5質量%以上3.5質量%以下のMoと、1.8質量%以上2.3質量%以下のVと、を含有するマトリックスハイス鋼からなることを特徴とする。 - 特許庁

When the digital data are retrieved on the basis of the management information of a plurality of magnetooptical disks recorded on the HDD 119, the management information of the magnetooptical disk on which target digital data are recorded is displayed on a television monitor 126, and when a user loads a corresponding magnetooptical disk on the MO drive 130, the digital data are reproduced.例文帳に追加

さらに、HDD119に記録された複数の光磁気ディスクの管理情報に基づいてデジタルデータの検索を行うと、目的とするデジタルデータが記録された光磁気ディスクの管理情報をテレビジョンモニタ126に表示し、該表示に基づいてユーザが該当する光磁気ディスクをMOドライブ130に装着すると、デジタルデータの再生が行われる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel and a method of manufacturing the same, securing moisture resistance of a top gate type TFT while using an insulating film much thinner than the conventional protective insulating film as an insulating film covering the surface of metal wiring, the surface of which is formed of Mo.例文帳に追加

表面がMoで形成された金属配線の表面を被覆する絶縁膜として従来の保護絶縁膜よりも極めて薄い絶縁膜を使用しながらも、トップゲート型TFTの耐湿性を確保し、更に、層間樹脂膜の浮きや剥がれを抑制することができる液晶表示パネル及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The ferrite composition includes 60-90 mol% of Fe_2O_3 and 10-40 mol% of MO (where M is at least one selected from Ni, Mg, Cu and Zn) and has a spinel structure.例文帳に追加

Fe_2O_3:60〜90モル%およびMO(ただし、Mは、Ni、Mg、CuおよびZnから選ばれる少なくとも1つ):10〜40モル%、を含み、スピネル構造を有するフェライト組成物であって、前記スピネル構造中に存在するFe^2+イオンの存在割合を、FeO量として換算した場合に、下記の式を満足することを特徴とするフェライト組成物。 - 特許庁

The oxidation reaction catalyst represented by the formula: MO_1V_aX_bNb_cZ_dO_n is manufactured by the use of a catalyst raw material liquid containing a precursor of Mo, a precursor of V, a precursor of Sb and/or Te, a precursor of Nb and at least two kinds of elements among elements constituting the catalyst.例文帳に追加

Moのプレカーサー、Vのプレカーサー、Sbおよび/またはTeのプレカーサー、Nbのプレカーサー、および触媒を構成する元素の少なくとも二種の元素を含む複合酸化物を含む触媒原料液を用いて化学式(1)で示される触媒を製造し、この触媒を用いて不飽和ニトリルまたは不飽和カルボン 酸を製造する。 - 特許庁

The thickness of a ceramic case 56 is adjusted with taking into account the allowable dielectric strength and components of a semiconductor element 10, i.e., an anode electrode 11, cathode electrode 12 and Mo discs 52a, 52b are each made as thin as possible where thermal resistance in the semiconductor element 10 can be reduced.例文帳に追加

許容絶縁耐圧を考慮してセラミックケース56の厚さを調整すると共に、半導体素子10の機械的強度(剛性)を考慮して半導体素子10の構成部材であるアノード電極11,カソード電極12,モリブデンディスク52a,52bの厚さをそれぞれ可能な限り薄くしたことにより、前記半導体素子10内の熱抵抗を低減することができる。 - 特許庁

In the method for producing low alloy steel containing alloy elements such as Ni, Cr and Mo individually or in combination, in the final stage of dissolution refining, 0.01 to 0.1% Al and 0.05 to 0.20% Zr are simultaneously added, and the steel is forcedly subjected to deoxidation and denitrification to improve its hardenability.例文帳に追加

Ni、Cr、Mo等の合金元素を単独で、または組合せて含む低合金鋼の製造において、溶解精練の最終段階で0.01〜0.1%のAlと共に0.05〜0.20%のZrを同時に添加し強制的に脱酸・脱窒して焼入性を向上したことによって前記の課題を解決した。 - 特許庁

The cold fluorescent lamp of this invention, as a cold cathode multi-element electrode of an assembly arranged in a matrix wherein one side is formed with triangular pyramids and square pyramids on a molybdenum (Mo) metal disc related to back light for a color liquid crystal panel, enhances electron density for improving electric characteristics effect, light emitting efficiency and service life characteristic.例文帳に追加

本発明はカラー液晶パネル用バックライトに関係するモリブデン(Mo)金属円板に一辺が三角錐、四角錐で形成するマトリックス状配列した、集合体の冷陰極多素子電極として、電子密度を高め、電特性効果、発光効率、寿命特性を向上することを特徴とする冷極蛍光灯。 - 特許庁

On the premise of addition of Ti, the liquid metal embrittlement resistant characteristics can be improved, even in the high strength steel sheet having ≥590 MPa by adding fine quantity of B and one or more elements among Nb, Mo and Cr and further, since the martensitic structure can easily be obtained by adding Cu and Ni, the strength of ≥590 MPa is stably obtained.例文帳に追加

Ti添加を前提として、微量のBやNb,Mo,Crの一種または2種以上を添加することにより、590MPa以上の高強度鋼板においても耐溶融金属脆化特性が改善でき、更に、Cu,Niを添加することにより容易にマルテンサイト組織が得られるようになるため、安定して590MPa以上の強度が得られる。 - 特許庁

The steel doped with Nb in combination with Mo is provided, wherein after bend forming such that the bend radius (R) at plate external surface becomes 2 to 5 times the thickness of the plate, the difference between the Vickers hardness at the center of the plate thickness and the maximum value of Vickers hardness within 0.5 mm from the surface ranges from 50 to 150 points.例文帳に追加

本発明の自動車足回り部品用鋼材は、Nb、Moが複合添加された鋼材であり、板外面の曲げRが板厚の2〜5倍となる曲げ成形を行った後の板厚中心のビッカース硬さと、表面から0.5mm以内のビッカース硬さの最高値との差が、50〜150ポイントである。 - 特許庁

A styrene derivative is reacted with carbon monoxide in the presence of a palladium compound catalyst and a catalyst comprising a heteropoly acid or an oxoacid containing an element of P or Si and an element selected from V, Mo and W, to obtain the 1(4H)-naphthalenone derivative represented by formula (2) (wherein, R^1 to R^5 indicate each hydrogen or a group containing a nonmetal element).例文帳に追加

パラジウム化合物触媒と、ヘテロポリ酸若しくはP又はSiの元素と、V、Mo及びWから選択された元素とを含むオキソ酸からなる触媒の存在下、スチレン誘導体を一酸化炭素と反応させて、式(2)(R^1〜R^5は水素又は非金属原子含有基を示す)で表される1(4H)−ナフタレノン誘導体を得る。 - 特許庁

In the special ferritic stainless steel containing Mo, furthermore, by performing a step for applying shot blasting to the surface of the above slab between a secondary scale removing step and finish rolling step, the secondary scale having the iron oxide layer of ≥1 μm thick is generated on the surface of the stainless steel strip after the finish rolling.例文帳に追加

Moを含む特殊フェライト系ステンレス鋼では、さらに、2次スケール除去工程と仕上げ圧延工程との間に、前記スラブの表面にショットブラスト処理を施す工程を行うことで、仕上げ圧延後のステンレス鋼帯の表面に、1μm以上の厚さの鉄酸化物層を有する2次スケールを生成する。 - 特許庁

This metallized polyimide film has the polyimide film 1, an intermediate layer 2 wherein at least one kind of an element selected from Mo, Cr, Ni and Si is injected in the surface layer region of 20 nm or below from the surface of the polyimide film 1 and the conductive layer 4 comprising copper or a copper alloy formed on the intermediate layer 2.例文帳に追加

この金属化ポリイミドフィルムは、ポリイミドフィルム1と、このポリイミドフィルム1の表面から20nm以内の表層領域にMo,Cr,NiおよびSiから選択される1種又は2種以上の元素を注入した中間層2と、この中間層2上に形成された銅又は銅合金からなる導電層4とを有する。 - 特許庁

This high strength spring steel excellent in hydrogen fatigue resistance has a hydrogen trap site in which activation energy for hydrogen elimination is 25 to 50 kJ/mol, also, hydrogen trap capacity is ≥0.2 wt.ppm and composed of at least one kind among oxides, carbides and nitrides containing one or more kinds selected from V, Mo, Ti, Nb and Zr and composite precipitates of two or more kinds thereamong.例文帳に追加

水素脱離のための活性化エネルギーが25〜50kJ/molであり、かつ水素トラップ容量が0.2wt.ppm以上である、V、Mo、Ti、Nb及びZrのいずれか1種又は2種以上を含有する酸化物、炭化物及び窒化物、並びにこれらのいずれか2種以上の複合析出物の少なくとも1種からなる水素トラップサイトを有することを特徴とする、耐水素疲労特性に優れた高強度ばね用鋼。 - 特許庁

例文

In a copper clad flexible circuit board in which a thermosetting polyimide film 1 is a base film together with its manufacturing method, a thermoelastic polyimide layer 2, a 10 to 200 nm thick metal layer 3 and composed of at least one type of metal selected from a group containing Ni, Cr, Co and Mo, and a copper layer 4 are formed in this order on the thermosetting polyimide film 1.例文帳に追加

熱硬化型ポリイミドフィルム1をベースフィルムとするフレキシブル銅張回路基板において、熱硬化型ポリイミドフィルム1上に、熱可塑型ポリイミド層2、Ni、Cr、Co、及びMoからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属からなる厚み10〜200nmの金属層3、及び銅層4がこの順に形成されていることを特徴とするフレキシブル銅張回路基板、並びにその製造方法。 - 特許庁

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