「STRESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(75ページ目) - Weblio英語例文検索

In the surface of the outer layer in the middle part in the axial direction of the roll, compressive residual stress is imparted as the residual stress in the direction parallel to the roll surface.例文帳に追加

また、ロール軸方向中央部の外層表面において、ロール表面と平行な方向の残留応力として圧縮残留応力が付与されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern free from a flaw such as a crack by controlling the release direction of a mold with respect to the pattern to reduce stress in a releasing step of a nanoimprint process, to reduce stress.例文帳に追加

ナノインプリントの剥離工程において、パターンに対してモールドの剥離方向を制御することにより、応力を低減し、欠けなどの欠陥のないパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Methods for prevention or treatment of stress-related disorders by administering a therapeutically effective amount of a dual serotonin/norepinephrine reuptake inhibitor to an individual under stress are described.例文帳に追加

ストレス下にある個体に、治療有効量の二重セロトニン／ノルエピネフリン再取り込みインヒビターを投与することによる、ストレス関連障害の予防または処置のための方法が、記載される。 - 特許庁

To provide a stress holding device and an X-ray diffraction device having a low device height, allowing incidence of X-rays of wide angles and holding optional stress.例文帳に追加

本発明は、装置の高さが低く、広角度のＸ線が入射でき、かつ、任意の応力が保持できる応力保持装置およびＸ線回折装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor chip in which external stress can be relaxed and a semiconductor device in which external stress being applied to an incorporated semiconductor chip can be relaxed.例文帳に追加

外部から加えられる応力を緩和することができる半導体チップを提供し、かつ組み込まれた半導体チップに加わる応力を緩和することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

As two different information items, two examples, displaying the same parameter in two data of an identical patient at different times (stress, before and after the treatment) and displaying parameters different in the same data, are good examples.例文帳に追加

異なる二つの情報としては、時間が異なる同一患者の２データで同じパラメータを表示（stress、治療前後）．同じデータで異なる二つのパラメータを表示の二例が好適である。 - 特許庁

The method for reducing the package stress includes a step, where matched components(A, B) of the operational amplifier are substantially located in a region having minimum stress gradient of die.例文帳に追加

パッケージ応力を減少させる方法は、演算増幅器の整合した構成部品（Ａ、Ｂ）を、実質的に、ダイの最小応力勾配を有する領域内に配置するステップを含む。 - 特許庁

To identify a gene encoding a transcription factor specific to a stress- resistance gene from a monocotyledon such as rice and provide a new plant resistant to environmental stress by using the gene.例文帳に追加

イネ等の単子葉植物よりストレス耐性遺伝子に特異的な転写因子をコードする遺伝子を同定し、該遺伝子を用いて新たな環境ストレス耐性植物を提供すること。 - 特許庁

To provide a two-component developer which is capable of forming images of stable and high image quality strong to the thermal stress and mechanical stress to toners and an image forming method using the same.例文帳に追加

トナーへの熱ストレス、機械ストレスに強く、安定した高画質の画像を形成することができる二成分系現像剤及びそれを用いる画像形成方法を提供する。 - 特許庁

The vibrations are transmitted directly into the diaphragm 1 to which stress is applied and then the diaphragm 1 producing shear waves having power corresponding to the applied stress.例文帳に追加

ストレスが加えられた振動板１に対して、振動板内部に直接振動を伝達することにより、振動板１は、与えられたストレスに相当する出力の横波を発生する。 - 特許庁

In the EL element 1, film stress is lessened by reducing the thickness of the adhesive layer 6, and the sealing performance is high since mechanical stress is relieved by considerably reducing a warp of the EL element 1.例文帳に追加

ＥＬ素子１は、接着層６の厚みを減らすことで膜応力が小さくなり、ＥＬ素子１の反りを大幅に低減して機械的ストレスを緩和させるので封止性能が高い。 - 特許庁

The nickel silicide film 13 is a material that is subjected to compressive stress from the silicon substrate 1, while the polycrystalline silicon film 12 is a material that is subjected to tensile stress from the silicon substrate 1.例文帳に追加

ニッケルシリサイド膜１３は、シリコン基板１から圧縮応力を受ける材料であり、多結晶のシリコン膜１２は、シリコン基板１から引張応力を受ける材料である。 - 特許庁

To improve stress corrosion cracking resistance by reducing the tensile residual stress of a flange 12 on the inside of bending in a member made of a roll-bent aluminum alloy extruded shape.例文帳に追加

ロール曲げ加工したアルミニウム合金押出形材製部材において、曲げ内側フランジ１２の引張残留応力を小さくすることで耐応力腐食割れ性を改善する。 - 特許庁

Thereby the visible defect in the panel 13 is improved owing to stress relaxation at a caret part 15 and vacuum stress dispersion at the suction hole 14 resulting from a cushion effect of the buffering means 12.例文帳に追加

これにより、緩衝手段１２のクッション効果によるカレット部１５の応力緩和と、吸着孔１４の真空応力分散によるパネル１３表示不良を改善することができる。 - 特許庁

To provide a surface-mounted inductor which is a short type, and has high inductance, superior DC superposition characteristics, and superior mechanical strength against external stress and internal stress.例文帳に追加

低背型、高インダクタンスで、かつ直流重畳特性が優れ、更に外部応力や内部応力に対する機械的強度の優れた面実装インダクタの提供を目的とする。 - 特許庁

The stress receiving layer includes silicon (Si), the stress inducing layer includes silicon-germanium (SiGe), and the material includes carbon given by doping both layers during the period of the formation of the device.例文帳に追加

応力受容層はシリコン（Ｓｉ）であり、応力誘発層はシリコン・ゲルマニウム（ＳｉＧｅ）であり、材料は、デバイスを形成する間に両層をドープすることによって与えられるカーボンである。 - 特許庁

The transgenic animal has the carbonyl stress-resistant ability, and is useful for elucidating the biologically adaptable mechanism to the carbonyl stress and for examining a medicine-creating design on the basis of the elucidation.例文帳に追加

本発明のトランスジェニック動物は、カルボニルストレス耐性能を有しており、カルボニルストレスに対する生体適応機構の解明やそれに基づく創薬デザインの検討に有用である。 - 特許庁

To provide a highly reliable ceramic multilayer substrate equipped with a surface electrode having high tolerance to a stress receiving from a solder when it is soldered or a stress receiving when it falls.例文帳に追加

はんだ接合した場合にはんだから受ける応力や、落下時に受ける応力への耐性の高い表面電極を備えた、信頼性の高いセラミック多層基板を提供する。 - 特許庁

In the device, the stress applied to the cleaning blade in an actual state of operation is observed with precision by a photoelastic method using double refraction generated when the stress is applied to the cleaning blade.例文帳に追加

クリーニングブレードに応力を印加したときに発生する複屈折を利用した光弾性法により、実際の動作状態におけるクリーニングブレードにかかる応力を精密に観察する。 - 特許庁

The two-dimensional electrophoretic images of before and after stress load are compared, using any one of proteins such as apolipoprotein H, fetuin β, actin β, or enolase β after stress load as a marker.例文帳に追加

ストレス負荷前後の二次元電気泳動の泳動像を比較し、ストレス負荷後のアポリポタンパク質Ｈ、フェチュインβ、アクチンβ、エノラーゼβのいずれかのタンパク質をマーカーとして使用する。 - 特許庁

To provide a structure for high temperature service in which creep deformation in a medium-temperature low-stress region (temperature range of about 450 to 550°C, stress range of about 10 kg/mm^2 or below) is decreased.例文帳に追加

中温低応力域（温度範囲：約４５０〜５５０℃、応力範囲：約１０kg／mm^２以下）におけるクリープ変形が低減された高温用構造体を提供することを目的とする。 - 特許庁

Thereby, if the block side bearing formation part presses the outer wall (a force F3), the stress is reduced by the stress-reducing groove, so as to restrain deformation of the wall forming the cylinder bore.例文帳に追加

これによりブロック側軸受形成部が外壁面を押しても（力Ｆ３）応力低減用溝部により応力が低減されるので、シリンダボアを形成する壁面の変形を抑制できる。 - 特許庁

The bottom of the fixed part is fixed to the substrate with adhesive bond and the actual stress to be transmitted to the region where the diaphragm 10 is formed is absorbed by the stress mitigating groove 11a.例文帳に追加

固定部の底部は接着剤で基板に固定され、ダイヤフラム１０が形成された領域へ伝達されようとする実装応力は応力緩和溝１１ａによって吸収される。 - 特許庁

In other words, stress impedance effect elements 1, 2 are fixed to an elastic overhang beam having the inertial mass part 3 at its tip, and the stress of the beam is measured to detect vibration.例文帳に追加

すなわち、先端に慣性質量部３をもつ弾性片持ち梁に応力インピーダンス効果素子 、 を固定し、梁部の応力を測定することにより振動を検出することができる。 - 特許庁

Simulation is made for the stress generated in different modes (strong open, over-opening, etc.) in this mounting structure designed, and it is confirmed that the generated stress lies within the allowable range.例文帳に追加

設計された取り付け構造における各種のモード（強閉、過開き等）における発生応力のシミュレーションを行い、発生応力が許容応力内であることを確認する。 - 特許庁

In the other form, the tensile stress layer is formed to cover the first portion of the device, and the compressive stress layer is formed to cover the second portion of the device.例文帳に追加

他の形態において、伸張性の応力層は、上記装置の第１部分を覆うよう形成され、圧縮性の応力層は、上記装置の第２部分を覆うよう形成される。 - 特許庁

Even if a bending force or a tension stress acts on the core wires at the repaired part, by having the spiral metal conductor extend and contract in the hollow region, stress is absorbed.例文帳に追加

補修箇所の芯線に屈曲力や張力が作用しても、スパイラル状の金属導体が中空域の内部で伸縮することによって応力を吸収することができる。 - 特許庁

To easily set the direction of residual compressive stress given to steel to be the same as that of the stress exerted in the steel, and to improve the dimensional accuracy by suppressing the distortion.例文帳に追加

付与される圧縮残留応力の方向が使用時に作用する応力と同一方向となるように容易にでき、かつ歪みの発生を抑制して寸法精度を高める。 - 特許庁

When peeling stress is applied to the circuit board 10 from the molding resin 40, the electrically-conductive adhesive 50 and the adhesion improving member 60 receive the peeling stress to be deformed.例文帳に追加

そして、回路基板１０がモールド樹脂４０から剥離応力を受けたときには、導電性接着剤５０および密着補強材６０が剥離応力を受けて変形する。 - 特許庁

To provide an axial fan capable of reducing concentration of stress to a connection between a rib provided in a hub section and a rotary shaft so as to remarkably improve in terms of damage by the stress.例文帳に追加

ハブ部に設けられたリブと回転軸部の接続部への応力集中を減少させ、応力による破損を著しく改善することができる軸流ファンを提供する。 - 特許庁

Next, the distribution of residual stress or the like is calculated from the temperature distribution of the steel plate 8 with a deformation predicting computer 18 or the like and a prescribed parameter is calculated from the distribution of residual stress or the like.例文帳に追加

次に、変形予測コンピュータ１８等により鋼板８の温度分布から残留応力分布等を演算し、残留応力分布等から所定のパラメータを演算する。 - 特許庁

To provide a test substrate and a stress measuring method capable of measuring accurately a stress caused by drop impact applied to a joint between an electronic component and a substrate.例文帳に追加

電子部品と基板との接合部に加わる落下衝撃による応力を、精度良く測定することができるテスト基板並びに接合部の応力測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for improving a fatigue strength of metal by transforming a tensile strength as the residual stress existing in the inner part of the metal and a welded part in the metal into a compressed stress.例文帳に追加

金属内部及び金属の溶接部に存在する残留応力である引張応力を圧縮応力に転換させて金属の疲労強度を向上させる方法を提供する。 - 特許庁

To release a package from a mold under the condition that a stress, which develops at the releasing of the package from the cavity of the mold, and a stress developing during a process, in which ejector pins are separated from the package, are eliminated.例文帳に追加

パッケージを金型のキャビティから離型させる際に生じるストレスと、パッケージからエジェクターピンを引き剥がす工程でのストレスとを排除して、パッケージを金型から離型する。 - 特許庁

The concentration of the stress between the insulating board 1 and the high conduction member 5 is eliminated, the stress is dispersed by the through holes 8 and can be efficiently attenuated.例文帳に追加

絶縁基板１と高熱伝導部材５との間の応力の集中箇所を無くすとともに貫通孔８により応力を分散させて効率良く減衰することができる。 - 特許庁

The value of the stress applied to the part of the semiconductor substrate 1 in the neighborhood of the bottom surface 2a of the trench 2 and the value of the stress applied to the part of the semiconductor substrate 1 in the neighborhood of the side surface 2b of the trench 2 are different from each other.例文帳に追加

半導体基板１のうちトレンチ２の底面２ａの近傍の部分と、トレンチ２の側面２ｂの近傍の部分とでは、印加される応力の大きさが異なる。 - 特許庁

The generator using the piezoelectric element 1 comprises a stress imparting means 2 for imparting a periodical stress to the elements 1, and a power source unit 3 for storing a power generated from the element 1 by the means 2.例文帳に追加

圧電素子１に周期的な応力を付与する応力付与手段２と、応力付与手段２によって圧電素子１から発生する電力を蓄える電源部３と、を備える。 - 特許庁

To provide a method for improving the surface stress in a high frequency-induction hardened article by which the improvement of the surf stress at the hardening-boundary part can simply and effectively be performed and the occupancy space can be saed.例文帳に追加

焼き境部の表面応力改善を簡単に段取り良く行うことができると共に省スペースで実現できる高周波焼入れ品の表面応力改善方法。 - 特許庁

The frame 3 has a stress mitigation beam 11 elongated along the stress separation groove, whose one end in the longitudinal direction is bonded to the inner frame 9, and whose other end is bonded to the outer frame 10.例文帳に追加

フレーム体３は、応力分離溝に沿って延長され長手方向の一端部が内フレーム９に結合され他端部が外フレーム１０に結合された応力緩和梁１１を有する。 - 特許庁

When the head offset quantity of a compound magnetic head 2 is measured in a head offset measurement part 5, a stress pattern is written in a track being adjacent to a measurement pattern written by a measurement pattern writing part 51 by a stress pattern writing part 52, and magnetic stress is given to the measurement pattern.例文帳に追加

ヘッドオフセット計測部５において、複合型磁気ヘッド２のヘッドオフセット量を計測するときに、計測パターン書込み部５１で書込まれた計測パターンに隣接するトラックへ、ストレスパターン書込み部５２によりストレスパターンを書込み、計測パターンに磁気ストレスを与える。 - 特許庁

In the method of manufacturing the diaphragm, a first thin film is formed by deposition, a second thin film whose internal stress differs from the internal stress of the first thin film is formed, and the internal stress of diaphragm composed of multiple films having the first and the second thin films is adjusted.例文帳に追加

第一の薄膜を堆積により形成し、前記第一の薄膜と内部応力が異なる第二の薄膜を形成することにより前記第一の薄膜と前記第二の薄膜とを有する複層膜からなるダイヤフラムの内部応力を調整する、ことを含むダイヤフラムの製造方法。 - 特許庁

The device for compression and volume reduction is provided with a stress detecting means 120 for detecting the stress acting on a first mold 113, 114 and is constituted so that a second mold is stopped from entering when a value obtained by the stress detecting means 120 exceeds a prescribed value.例文帳に追加

第一の金型１１３，１１４に作用する応力を検出するための応力検出手段１２０が設けられており、該応力検出手段１２０により得られた値が所定値を超える場合、第二の金型の進入が停止されるように構成されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a residual stress measuring device and a method therefor capable of determining a residual stress of a film from an extremely simple balance condition of moment by measuring the swelling amount of an exfoliated film and by determining a residual stress in the film from the shape by computing.例文帳に追加

剥離した膜の盛り上がり量を計測し、その形状から膜内に残留している応力を演算により求めることにより、極めて簡単なモーメントのつりあい条件から膜の残留応力を求めることができる残留応力測定装置とその方法を提供する。 - 特許庁

In a ground anchor screwing a nut 8 pushing a structure through an anchor plate 7 in the upper end of a tendon 5 anchoring the lower end side to the ground 3, after stress acting on the anchor plate 7 is measured, tensile stress acting on the tendon 5 is diagnosed based on the measured stress.例文帳に追加

下端側が地盤３に定着されたテンドン５の上端部に、アンカープレート７を介して構造物２を押圧するナット８を螺着したグランドアンカー１において、前記アンカープレート７に作用する応力を測定した後、該測定応力に基づいてテンドン５に作用する引張応力を診断する。 - 特許庁

The crack (a) is formed on the surface of the brittle material W by cooling a stress inflection point or its neighborhood, where a compressive stress of the brittle material W generated by an expansion due to the heating on the cutting line of the brittle material W, changes to a tensile stress.例文帳に追加

脆性材料Ｗの切断線上であって加熱による膨張により生ずる脆性材料Ｗの圧縮応力が引張応力へと変化する応力変曲点乃至その近傍を冷却し、脆性材料Ｗの表面に亀裂ａを生じさせる。 - 特許庁