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developed widthの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 89件
To provide a comparator with hysteresis which has a fine hysteresis width in a newly-developed constitution.例文帳に追加
新規な構成による微小なヒステリシス幅を有するヒステリシス付コンパレータを提供する。 - 特許庁
The block B includes a plurality of crown blocks 13 in which a centroid Gb of a tread surface 11 is located in a crown region Cr having a developed width of 1/3 of a developed tread width TWe with a tire equator C as a center.例文帳に追加
ブロックBは、踏面11の図心Gbが、タイヤ赤道Cを中心とするトレッド展開幅TWeの1/3の展開幅を有するクラウン領域Crに位置する複数のクラウンブロック13を含む。 - 特許庁
The soft rubber part 22 has a developed width W from a tread end T set within a range of 5-14% of a tread developed width L, and lower Shore-A hardness than that of a center rubber part 26 located adjacently to the side of a tire center.例文帳に追加
この軟質ゴム部22は、トレッド端Tからの展開幅Wがトレッド展開幅Lの5〜14%の範囲内とされ、タイヤセンター側に隣接するセンター側ゴム部26に比べてショアA硬度が低くされている。 - 特許庁
In this way, the pattern of a desired line width is formed for each wafer, and each wafer is developed in an optimum time length.例文帳に追加
かかる場合,各ウェハに対し所望の線幅のパターンが形成され,各ウェハが最適時間で現像される。 - 特許庁
Most of the section of this road has been re-developed by expansion construction for the road width, replacing or reducing the atmosphere of the old-days road and the roadside scenery. 例文帳に追加
ほとんどの区間が道路拡張工事などで整備され、旧街道の面影はほとんど残っていない。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Since the first to fifth lateral cylindrical cells are horizontally expanded and developed, the airbag 12 is securely expanded and developed to outside in the vehicle width direction and the protection performance for the occupants is improved.例文帳に追加
第1〜第5の横円筒状セルは水平方向に膨張展開されるので、エアバッグ12が車幅方向外側に確実に膨張展開され、乗員の保護性能が向上する。 - 特許庁
The high-loss tangent rubber part 22 has a developed width W from a tread end T set within a range of 5-14% of a tread developed width L and a loss tangent tanδ higher than that of a center rubber part 26 located adjacently to the side of a tire center.例文帳に追加
この高損失正接ゴム部22は、トレッド端Tからの展開幅Wがトレッド展開幅Lの5〜14%の範囲内とされ、タイヤセンター側に隣接するセンター側ゴム部26に比べて損失正接tanδが高くされている。 - 特許庁
To obtain a substrate processing device and method capable of enhancing line width uniformity in a resist film after being developed.例文帳に追加
現像処理後のレジスト膜における線巾均一性を向上することができる基板処理装置および方法を提供する。 - 特許庁
Thus, such the liquid crystal material that the developed temperature of the blue phase is ranged in a temperature width of ≥60°C nipping room temperature can be obtained.例文帳に追加
青色相の発現温度幅が室温を挟む60℃以上にわたっているような液晶材料を得ることができる。 - 特許庁
For the first radiation element 17, its developed length is set at λ_0/4 to λ_0/2, and its lateral width on an upper part is set at not less than λ_0/4.例文帳に追加
第1の放射素子17は、展開長をλ_0/4〜λ_0/2、上部の横幅をλ_0/4以上に設定する。 - 特許庁
To thicken the line width of horizontal lines in a subscanning direction without losing the shape of picture data developed like a bit map and to uniform a line width ratio of vertical lines to horizontal lines.例文帳に追加
ビットマップ状に展開した画像データの形状を損なわずに水平線分の副走査方向の線幅を太線化し、垂直線分と水平線分の線幅比率を均一化する。 - 特許庁
A 3-D CAD program is developed to quickly generate a shape of the jig from data of the position and the dimensions of length, width and height of the electronic parts.例文帳に追加
また形状は、電気部品の位置、縦、横、高さのデーターからすばやく形状を作成する3DCADのプログラムを開発した。 - 特許庁
The resist film is subjected to exposure processing according to a conventional method and then developed to form a resist pattern 18 of a specified line width.例文帳に追加
次いで、従来の方法に従ってレジスト膜に露光処理を施し、現像して、所定線幅のレジストパターン18を形成する。 - 特許庁
A track width regulation part 14 having a track width Tw smaller than the resolution of a wavelength used when a resist is exposed and developed, is formed between lower and upper core layers 10 and 6.例文帳に追加
下部コア層10と上部コア層16との間に、レジストを露光現像する際に使用される波長の解像度よりも小さいトラック幅Twを有するトラック幅規制部14が形成されている。 - 特許庁
On the other hand, measurement of line width, measurement of overlap and inspection of macro defect are carried out after the substrate is developed and heat-treated and before being returned back to an indexer ID.例文帳に追加
一方、線幅測定、重ね合わせ測定およびマクロ欠陥検査については現像後熱処理の後、インデクサIDに戻される前に行われる。 - 特許庁
When a curtain airbag 36 is developed and interfered with a sun visor body 22, an upper end of the stay 21 is guided by the long hole 28, and rocked inwardly in the vehicle width direction.例文帳に追加
カーテンエアバッグ36が展開してサンバイザ本体22と干渉すると、ステー21の上端部が長孔28に案内されて車幅方向内方側へ揺動する。 - 特許庁
To provide an occupant protection device capable of moving an occupant toward a central portion in width direction with sure by the force developed by an airbag.例文帳に追加
エアバッグの展開する力によって確実に乗員を車幅方向中央部側に移動させることのできる乗員保護装置を提供する。 - 特許庁
Then the resin layer 3 is exposed through a photomask 4 having slits with a specified width, heated, and developed to form a mirror precursor 6.例文帳に追加
その後、樹脂層3を、所定幅のスリットを有するフォトマスク4を介して露光し、露光後加熱した後、樹脂層3を現像してミラー前駆体6を形成する。 - 特許庁
Especially since the weft density is gradually changed in the width direction of the woven fabric in the woven fabric, an uneven three-dimensional shape, or a shape that the three-dimensional shape can be developed into a plane can be developed on the surface of the fabric to form the new woven fabric.例文帳に追加
特に、織布内で緯糸密度が織物の幅方向に徐々に変化するため、布面に凹凸の立体形状、もしくはその立体形状が平面に展開可能な形状にすることができ、新規な織物となる。 - 特許庁
A low-loss tangent rubber 28 having a loss tangent lower tanδ than that of the high-loss tangent rubber part 22, and the center rubber part 26 is arranged in at least a part of an area S with the developed width from the tread end T set smaller than 25% of the tread developed width and the outside of the tire radial direction of the spiral belt 16.例文帳に追加
また、トレッド端Tからの展開幅がトレッド展開幅の25%以下となる領域Sの少なくとも一部で、スパイラルベルト16のタイヤ径方向外側には、高損失正接ゴム部22及びセンター側ゴム部26よりも損失正接tanδが小さい低損失正接ゴム部28が配置されている。 - 特許庁
A low-loss tangent rubber part 28 having a loss tangent tanδ lower than that of the soft rubber part 22 and the center rubber part 26 is arranged in at least a part of an area S with the developed width from the tread end T set smaller than 25% of the tread developed width and the outside of the tire radial direction of the spiral belt 16.例文帳に追加
また、トレッド端Tからの展開幅がトレッド展開幅の25%以下となる領域Sの少なくとも一部で、スパイラルベルト16のタイヤ径方向外側には、軟質ゴム部22及びセンター側ゴム部26よりも損失正接tanδが小さい低損失正接ゴム部28が配置されている。 - 特許庁
To provide an applying/developing apparatus, capable of transferring a substrate from an exposure system to a heating section, and restraining a resolution reaction from proceeding in a resist so as to improve a developed line in uniformity of width.例文帳に追加
例えば塗布、現像装置において、レジストの解像反応の進行を抑えて露光装置から加熱部まで基板を搬送し、現像線幅の均一性を高めること。 - 特許庁
To provide an exposure apparatus that can minimizes the minimum line width of a pattern after a photosensitive material is developed, and can maintain a good edge feature of the pattern.例文帳に追加
感材の現像後のパターンの最小線幅を最小限に抑えるとともにそのパターンのエッジ形状を良好に保つことができる露光装置を提供する。 - 特許庁
To prevent a sheet from being hung down between vacuum suction wheels arranged in line and to prevent deformation of wave-form from being developed in a width direction of the sheet in a paper discharge device of a sheet printing machine.例文帳に追加
枚葉印刷機の排紙装置において、並列する真空吸引車間でシートが垂れ下がり、シート幅方向において波形状の変形ができるのを防ぐ。 - 特許庁
However, it is believed that the shinmei-zukuri style, with its width longer than its depth, developed from takayukashiki-soko (warehouses on stilts) and changed so that the building became more used for keeping shinpo (sacred treasures) than storing grain. 例文帳に追加
しかしながら、神明造は奥行きより幅が大きく、高床式倉庫から発展し穀物の代わりに神宝を納めるように変化したと考えられている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Pixel data DG are imparted to the plurality of memory blocks 81-88 in common, and the pixel data DG are developed to the parallel data DP of the prescribed data width and are stored.例文帳に追加
これら複数のメモリブロック81〜88には、画素データDGが共通に与えられ、この画素データDGが所定データ幅のパラレルデータDPに展開されて記憶される。 - 特許庁
In the developing bias, a frequency f is 4×Vp/d≤f≤40×Vp/d [Hz] and Vpp is 100≤Vpp≤350 [V] (Vp:the velocity of a body to be developed, d:a developing nip width).例文帳に追加
その現像バイアスは、周波数fが4・Vp/d≦f≦40・Vp/d[Hz]、かつ、Vppが100≦Vpp≦350[V]である(Vp:被現像体速度、d:現像ニップ幅)。 - 特許庁
The crown blocks 13 include a plurality of central crown blocks 13a whose distance L1 from the centroid Gb to a tire equatorial plane Cp is not more than 2% of the tread developed width TWe and a plurality of side crown blocks 13b whose distance L2 from the centroid Gb to the tire equatorial plane Cp is more than 2% and not more than 6% of the tread developed width TWe.例文帳に追加
クラウンブロック13は、図心Gbとタイヤ赤道面Cpとの距離L1がトレッド展開幅TWeの2%以内である複数の中央クラウンブロック13aと、図心Gbとタイヤ赤道面Cpとの距離L2がトレッド展開幅TWeの2%よりも大かつ6%以下である複数の側方クラウンブロック13bとを含む。 - 特許庁
To provide a communication memory and a peripheral apparatus capable of interfacing an interface with a standard of such communication transferring data by byte units without limiting a bus width and with any bus width even if the interface has a CPU highly developed by such a bus width of a control means with 16 or 32 bits.例文帳に追加
バイト単位でデータを転送するような通信が規格化されたインターフェースに対して、制御手段のバス幅が16ビットや32ビットといった高度なCPUを持つものでもバス幅を制限すること無く任意のバス幅でのインターフェースを可能とする通信メモリおよびペリフェラル機器を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a high-speed heat developable photosensitive material which can rapidly be developed while suppressing the increase of the line width of letters and fogging and has good resolvability.例文帳に追加
文字線幅太りや被りを抑制しつつ迅速な現像処理を行うことが可能で、良好な感光材料保存性を有する高速熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁
When the width of the printing medium is below the threshold value (S3: YES), the device moves on to S5, and replaces the characters developed into the typeface specified in S1 with a simplified typeface data 57.例文帳に追加
印刷媒体幅が所定の閾値以下である場合(S3:YES)、S5に進み、S1で指定された書体に展開された文字を簡易化された書体データ57に置き換える。 - 特許庁
To make the line width ratio uniform of a vertical line and a horizontal line in an image data processing device using an electrographic processing method, by carrying out thinning of a line width in a sub-scanning direction of the horizontal line factor without spoiling the shape of the image data developed in a bit map.例文帳に追加
ビットマップ状に展開された画像データの画像の形状を損なわずに水平線分の副走査方向の線幅を細線化し、電子写真方式による画像データ処理装置における垂直線分と水平線分の線幅比率の均一化を行う。 - 特許庁
Since the ribs 29A, 29B and the reinforcement part 31 are formed within a range of the width of the metal fitting for the terminal 20, a width of each plate strip can be shortened, when punching out the plate strip having a shape of the developed metal fitting for the terminal 20 from a metal plate material, and yield can be improved.例文帳に追加
リブ29A,29B及び補強部31は、端子金具20の幅寸法の範囲内で形成されているため、金属板材から端子金具20の展開形状をなす板片を打ち抜くときに、各板片の幅を詰めることができ、歩留まりが向上する。 - 特許庁
To make strip thickness distribution at both edge parts in the width direction uniform and to make the flatness of the strip in the longitudinal direction excellent even in the case the disproportional recessing and projecting shape are developed unsymmetrically at both edge parts in the width direction of the strip cast with a continuous caster.例文帳に追加
連続鋳造機で鋳造された板の幅両端部に生じる凹凸形状が左右対称ではなく不均一に生じた場合でも幅方向両端部の板厚分布が均一となるようにすると共に、板長手方向に対する板の平坦度も良好となるようにする。 - 特許庁
In discharge mode, a discharge electrostatic latent image having width equal to or above the maximum width of an electrostatic latent image that can be formed in an image forming mode in a longitudinal direction of a photoreceptor drum 1 is formed, and the latent image is developed by making frequency of an AC component of developing bias voltage higher than that in the image forming mode.例文帳に追加
吐き出しモードでは、画像形成モードで形成可能な静電潜像の感光ドラム1長手方向の最大幅以上の幅を持つ吐き出し静電潜像を形成し、この潜像を現像バイアス電圧の交流成分の周波数を前記画像形成モードよりも高くして現像する。 - 特許庁
Thus, the force developed by the airbag 21 is converted to the force for moving the occupant M seated on the seat 10 toward the central part in vehicle width direction by way of the occupant moving plate 23.例文帳に追加
これにより、エアバッグ21が展開する力を、乗員移動板23を介してシート10に着座した乗員Mを車幅方向中央部側に移動させる力に変換することができる - 特許庁
To provide a pants-type disposable article to wear, capable of making a crotch area fit the crotch of a user by forming tucks to be hardly developed in the crotch area and reducing the width of the crotch area.例文帳に追加
股下域に展開し難いタックを形成し、股下域の幅寸法を小さくして股下域を着用者の股間に納めることができるパンツ型の使い捨て着用物品を提供する。 - 特許庁
To provide an air bag folding structure in which an air bag can be speedily developed in a vehicle width direction, in which a passenger restraining surface can be formed even in an initial stage of developing, and in which productivity is excellent.例文帳に追加
車両幅方向への迅速な展開を図り、展開初期から乗員拘束面を形成することができるとともに、生産性に優れるエアバッグの折畳み構造を提供する。 - 特許庁
In the silver halide photographic sensitive material, containing a silver halide emulsion having a silver chloride content of ≥90% in at least one layer, when the silver halide photographic sensitive material is subjected to scanning exposure with a laser beam to obtain a developed magenta image, the ratio of the undertoe width to the half-width of a curve of the developed magenta image measured by a microdensitometer is 1.2-3.例文帳に追加
少なくとも1層に塩化銀含有率90%以上のハロゲン化銀乳剤を含有するハロゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀写真感光材料にレーザー光による走査露光をして得られるマゼンタ発色画像のマイクロデンシトメーター測定曲線の足下幅の半値幅に対する比が1.2以上3以下であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - 特許庁
To provide a side airbag device mounting structure capable of increasing the strength of a mounting part against the force applied to the mounting part when an airbag is inflated and developed by reducing the vertical width of the mounting part to mount a side airbag device on a roof side rail.例文帳に追加
サイドエアバッグ装置を車体のルーフサイドレールへ取付ける取付部の上下幅を小さくし、かつエアバッグ膨張展開時に上記取付部に作用する力に対して取付部の強度を向上させること。 - 特許庁
An oval as a cross sectional surface of the developed part 10b of the tail pipe 10 is longer in a car width direction, and shorter in a vertical direction, and the longer axis and the shorter axis are both formed to be larger than the diameter of the connection part.例文帳に追加
また、テールパイプ10の拡径部10bの横断面である楕円形は、車幅方向に長軸で上下方向に短軸となっており、長軸と短軸とが共に連結部の径より大きく形成されている。 - 特許庁
To provide a heat developing device which can suppress the generation of a temperature distribution along the width direction of a heat drum and obtain an image with no density variance with a heat developed material after heat development and can be realized at a low cost.例文帳に追加
加熱ドラムの幅方向の温度分布の発生を抑制し、熱現像後の熱現像材料で濃度ばらつきのない画像を得ることができしかも低コストで実現できる熱現像装置を提供する。 - 特許庁
One duct member 20 formed in a predetermined duct developed shape is folded in a closed section, and outer edge parts 28 of the duct member 20 are joined with each other to form an air supply passage extending in the vehicle width direction.例文帳に追加
所定のダクト展開形状に成形された1枚のダクト材20を閉断面形状に折り曲げ、ダクト材20の外縁部28を接合することにより車両幅方向に延びる通風路を形成する。 - 特許庁
Aspects of a temperature slope within a substrate face are mutually reversed between the aspect at the time of heating before alignment and that at the time of heating after alignment and it is possble to enhance line width uniformity in a resist film after being developed.例文帳に追加
露光前加熱処理時と露光後加熱処理時との間で基板面内の温度勾配の態様が相互に逆となり、現像処理後のレジスト膜における線巾均一性を向上することができる。 - 特許庁
The curtain airbag KB is developed in the cabin while displacing the cover part 27(27') forwardly and deforming downwardly the roof trim RT on the inner edge part side in a width direction of the vehicle of the roof lateral trim RST.例文帳に追加
カーテンエアバッグKBは、カバー部27(27′)を前方へ変位させつつ、またル−フ側方トリムRSTの車幅方向内縁部側のル−フトリムRTを下方へ変形させつつ、車室内に展開される。 - 特許庁
A curtain air bag KB which is fixed to a rear section pillar P4 is developed into the cabin while deforming a specified end edge section 26a on the external side in the vehicle width direction of the front section of the rear section pillar trim PT4 to the front side.例文帳に追加
後部ピラーP4に固定されたカーテンエアバッグKBが、後部ピラートリムPT4前部の車幅方向外方側の所定端縁部26aを前方へ向けて変形させつつ車室内に展開される。 - 特許庁
In this case, there is a danger that uneven stripes are generated due to the low-developed color at a boundary between exposed areas A only by setting the width (a) so that the exposed areas A may be adjacently formed on the photographic printing paper 7, then, the width (a) is set so that the adjacent exposed areas A may be formed in an overlapped state.例文帳に追加
このとき、印画紙7上の露光領域Aが隣接して形成されるように上記幅aを設定しただけでは、露光領域Aの境界部分の発色度が弱いために筋ムラが形成されるおそれがあるので、隣接する露光領域Aが重畳して形成されるように上記幅aを設定する。 - 特許庁
By this setup, a wafer W subjected to an exposure processing can be transferred from the exposure system S4 to the heating section 31 in a state of restraining resolution reaction from proceeding in resist, so that resist can be kept almost at the same level of resolution reaction, and a developed line can be improved in uniformity of width, by preventing unevenness from occurring in its width.例文帳に追加
このようにすると露光後のウエハWをレジストの解像反応の進行を抑えた状態で露光装置S4→加熱部31に搬送でき、現像処理を行うときのレジストの解像反応の進行の程度が揃えられるので、現像線幅のムラの発生が抑えられ、均一性の向上を図ることができる。 - 特許庁
The space 8 is a pattern for focus management, having a width less than the resolution of light used for exposure; and when focus exists in a reference range, a shape resulting from the space 8 does not appear in the developed resist layer and when the focus deviates from the reference range, a shape resulting from the space 8 appears in the developed resist layer.例文帳に追加
スペース8は、焦点管理用パターンであり、その幅は露光に使用する光の解像度未満であり、光の焦点が基準範囲内にあるときは、現像後のレジスト層にスペース8に起因する形状が出現せず、光の焦点が基準範囲から外れているときは、現像後のレジスト層にスペース8に起因する形状が出現する。 - 特許庁
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