「diffraction」に関連した英語例文の一覧と使い方(54ページ目) - Weblio英語例文検索

A process in which a diffraction grating is irradiated with light emitted from an optical pickup, a process in which the diffraction grating is moved relatively to the optical pickup, and a process in which the light reflected by the diffraction grating is received by the optical pickup are performed simultaneously, the received light is measured as a RF signal of the optical pickup.例文帳に追加

光ピックアップから出射した光を回折格子に照射する工程と、前記回折格子を前記光ピックアップに対し相対移動させる工程と、前記回折格子で反射した光を前記光ピックアップで受光する工程を同時に行い、前記受光した光を光ピックアップのＲＦ信号として測定する。 - 特許庁

To provide an optical device, having optical fiber diffraction gratings without changing the optical characteristics, such as deviations in the reflection central wavelengths at the diffraction gratins and without impairing their temperature compensating function, in the case a plurality of optical fibers being formed with the diffraction gratings are fixed to a base material and to miniaturize the device.例文帳に追加

回折格子が形成された光ファイバを基材に複数固定する場合において、回折格子での反射中心波長のずれ等の光学特性を変化させることなく、また、温度補償機能を損なうことなく、装置の小型化を図ることが可能な光ファイバ回折格子を有する光学装置を提供すること。 - 特許庁

The optical element is provided with a first optical part 1 made of an optical material, wherein the surface of the first optical part 1 comprises a first diffraction structure surface 3 having concentric diffraction structures and the surface of the first optical part 1 comprises step parts 6 of recessed groove or protruded shape in the directions intersecting the diffraction structure.例文帳に追加

光学材料からなる第１光学部１を備え、前記第１光学部１の表面は同心円状の回折構造を持つ第１回折構造面３を有し、前記第１光学部１の表面は前記回折構造と交差する方向に凹溝または凸山形状の段部６を有する。 - 特許庁

By applying heat treatment to a metal magnetic powder containing Fe, Si, and Al produced by an atomize method, when the diffraction intensity by X-ray diffraction method from (111) is made to be I(111) and the diffraction intensity from (220) is made to be I(220), the metal magnetic powder is adjusted so as to be I(111)/I(220)≥0.025.例文帳に追加

アトマイズ法により作製したＦｅ、ＳｉおよびＡｌを含む金属磁性粉末に、熱処理を施して、Ｘ線回折法による（１１１）からの回折強度をＩ（１１１）、（２２０）からの回折強度をＩ（２２０）としたとき、Ｉ（１１１）／Ｉ（２２０）≧０．０２５からなる金属磁性粉末となるように調整する。 - 特許庁

The optical scanner is provided with a light source 1, a coupling lens 2, a diffraction lens 4, a polygon mirror 5 and a scanning lens 6, wherein the diffraction lens 4 has such a diffraction face as obtaining a focal point shift ΔS_4 which excessively corrects the focal point shift ΔS_6 due to the decrease in the power of the scanning lens 6 in a uniform temperature variation.例文帳に追加

光源１、カップリングレンズ２、回折レンズ４、ポリゴンミラー５、及び走査レンズ６を備え、回折レンズ４は、均一な温度変化時において、走査レンズ６のパワー減少によるピントずれ量ΔＳ_６に対して、補正過剰となるピントずれ量ΔＳ_４が得られるような回折面を有している。 - 特許庁

In the diffractive optical element, having a blazed diffraction grating, inclined parts 11, 12 which deflects incident light into the longitudinal face of the diffraction grating and has an altered inclined angle of the grating are formed on at least one side of a groove part and a tip part of the blazed diffraction grating.例文帳に追加

ブレーズド形状の回折格子を有する回折光学素子において、前記ブレーズド形状の回折格子の溝部及び先端部の少なくとも一方には、前記回折格子の縦面への入射光を偏向する、格子の傾斜角度が変更された傾斜部１１，１２が形成された構成とする。 - 特許庁

The diffraction grating 2 is arranged on the diffusion optical path of laser beams, among optical paths for guiding laser beams emitted from a semiconductor laser 1 to an objective lens 6, and an effective diffraction pattern 15 is formed only on the center part of the diffraction grating 2 which has a diameter smaller than the effective beam diameter of a laser beam.例文帳に追加

半導体レーザー１から出射されるレーザービームを対物レンズ６に導く光路のうち、レーザービームの拡散光路上に回折格子２を配置すると共に、この回折格子２にレーザービームのビーム有効径に対して小径の中央部分に限定して有効回折パターン１５を形成している。 - 特許庁

To provide a method or manufacturing a diffraction optical element by which a blaze diffraction pattern having a fine pattern pitch can easily be manufactured highly precisely, and to provide a diffraction optical element manufactured by the method, an optical system having the element, an exposure device, a method for manufacturing a device and the device.例文帳に追加

微細なパターンピッチを有するブレーズ型回折パターンを容易にかつ高精度に製造することができる回折光学素子の製造方法、該回折光学素子の製造方法によって製造した回折光学素子、および該回折光学素子を有する光学系、露光装置、デバイス製造方法、デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a lamination type diffraction optical element by which firm joint is attained and a joining process is made efficient to be able to drastically reduce the cost in a joining technique for forming the lamination type diffraction optical element by laminating a pair of diffraction optical elements formed by a replica forming method.例文帳に追加

レプリカ成形法で成形された一対の回折光学素子を互いに張り合わせることで積層型回折光学素子を形成する接合技術において、強固な接合が得られ且つ接合工程の効率化と大幅なコストダウンが可能となる積層型回折光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The filter 3 cutting light in a specified wavelength region is equipped with two or more transmission type diffraction gratings 3a and 3b arranged so that their surfaces may cross with an optical axis and their diffraction grooves 13a and 13b may be parallel with each other, and the two or more transmission type diffraction gratings are arranged by leaving a gap L in between.例文帳に追加

特定波長域の光をカットするフィルタ３であって、光軸にその面を交差させて、その回折溝１３ａ，１３ｂを互いに平行にして配置された２枚以上の透過型回折格子３ａ，３ｂを備え、２枚以上の透過型回折格子が互いに間隙Ｌをおいて配置されている。 - 特許庁

To provide a mold for injection-molding a diffraction optical element in which the deformation of the edge of a molding by the interference with the diffraction edge of a mold is suppressed even when the molding is cooled and contracted during mold opening in the production of the diffraction optical element made of a resin with a straight line-shaped lattice formed by injection molding.例文帳に追加

直線状の格子が形成された樹脂からなる回折光学素子を射出成形により製造する際に、型開き時に成型品が冷却収縮しても、成型品のエッジが金型の回折エッジと干渉して変形することが抑制される回折光学素子の射出成形金型を提供すること。 - 特許庁

In a diffractive optical element where a plurality of diffraction gratings are laminated, an area where a phase change in the diffraction gratings of each layer is inconsistent occupies equal to or larger than 30% of the area of a unit period and also the phase change in the whole diffraction gratings is substantially consistent in a unit periodic structure.例文帳に追加

複数の回折格子を積層した回折格子であり、単位周期構造内において、各層の回折格子における位相変化が不整合である領域が少なくとも単位周期の３割以上の領域を占め、かつ回折格子全体としての位相変化は概整合していることを特徴とする回折光学素子。 - 特許庁

To provide a diffraction grating array having a blazed diffraction grating pattern in which the real from the false is easily told without using a particular device of verification, a higher effect of preventing a forging is realized, the visibility of the blazed diffraction grating pattern is improved and the freedom of design is expanded.例文帳に追加

本発明は、特に検証装置等を用いなくても容易に真贋の判定が可能であり、より一層高度な偽造防止効果を発現すると共に、ブレーズド回折格子パターンの視認性の向上、ならびにデザインの自由度の拡大を可能とするブレーズド回折格子パターンを有する回折格子アレイの提供を目的とする。 - 特許庁

The waveguide type optical frequency shifter using the surface acoustic wave has a waveguide shape of a light diffraction part to increase a photo-acoustic interaction length of a part undergoing the surface acoustic wave diffraction and has a waveguide after diffraction constituted of a tapered waveguide condensing diffracted light at 1.55 μm band.例文帳に追加

弾性表面波による回折を受ける部位の光音響相互作用長を長くするような光回折部の導波路形状を有し、回折後の導波路を１．５５μｍ帯の回折光を集光可能なテーパ導波路で構成したことを特徴とする弾性表面波を用いた導波路型光周波数シフタ。 - 特許庁

It is possible to always manufacture a polarization diffraction element having a uniform optical characteristic and excellent productivity by limiting the film thickness of a birefringent film 3 to be used to satisfy an optical characteristic as a polarization diffraction element, providing a polarization diffraction element having high productivity.例文帳に追加

すなわち本発明によれば、使用する複屈折膜３の膜厚を限定することにより、常に均一な光学特性と良好な生産性の偏光回折素子を作製することが可能となり、偏光回折素子としての光学特性を満足させ、生産性の良い偏光回折素子を提供することができる。 - 特許庁

A diffracting position on a semiconductor detector from the central region of a plural-region diffraction grating disposed on a return path of light reflected from a layer of interest is separated from an optical axis by farther than the diffracting position from around the diffraction grating, and thereby stray light from other layers is prevented from being incident into a sensitivity region of a peripheral region of the diffraction grating.例文帳に追加

当該層からの反射光の復路に設置される複数領域回折格子の中心領域からの半導体検出器上の回折位置を回折格子周辺部分からの回折位置より光軸から離すことで、他層からの迷光を回折格子の周辺部領域の感度領域に入射させない。 - 特許庁

A reference electric field intensity calculation unit 10 calculates a reference reception height hb at a reception point where a first Fresnel zone is not shielded by the ground, and calculates diffraction loss Lf, ridge loss Lr, and phase loss Lθ by masking diffraction loss, ridge loss, and diffraction loss within a city attenuation region with respect to the reception point.例文帳に追加

基準電界強度計算部１０は、第１フレネルゾーンが大地により遮蔽されない受信点の基準受信高ｈｂを計算し、その受信点について、都市減衰領域内の回折損失、リッジ損失及び回折損失をマスクして回折損失Ｌｆ、リッジ損失Ｌｒ及び位相損失Ｌθを計算する。 - 特許庁

In the Blaze type and transmission type diffraction optical element 101, the normal line of a side wall 131 adjacent to a diffraction surface 132 through which the incident light of the Blase 121 is passed has an inclination so as to be vertical to the center or the center of the gravity of luminous flux which enters into the diffraction surface 132 of the Blaze 121.例文帳に追加

ブレーズ型かつ透過型の回折光学素子１０１において、ブレーズ１２１の入射光が通過する回折面１３２に隣接した側壁１３１の法線が、当該ブレーズ１２１の回折面１３２に入射する光束の中心または重心の方向に対して垂直になるような傾きを有する。 - 特許庁

The grating falling of the recessed and projecting periodic structure from the substrate normal direction, which is caused at the time of filling a transparent material 8 into the recessed part of the recessed and projecting periodic structure constituting a first diffraction grating 4 is prevented by an engagement structure of a second diffraction grating 7 with the first diffraction grating 4.例文帳に追加

第１の回折格子４を構成する凹凸状周期構造の凹部に透明な材料８を充填する際に発生する、凹凸状周期構造の基板法線方向からの格子倒れを、当該第１の回折格子４に対する第２の回折格子７の噛み合わせ構造により防止するようにした。 - 特許庁

The optical diffraction IC tag label is usable as the product information management system and constituted by recording information on a store dealing with products, in the non-contact IC tag 3 and optical diffraction structure 2 of the optical diffraction IC tag label 1 attached to the product in the same way in a distribution process of the product.例文帳に追加

本発明の光回折ＩＣタグラベルは製品情報管理システムとして利用可能であり、当該製品の流通過程において、同様に当該製品に添付する当該光回折ＩＣタグラベル１の非接触ＩＣタグ３と光回折構造体２に、取り扱い店に関する情報を記録することで構成される。 - 特許庁

In the joint step for forming the lamination type diffraction optical element by laminating a pair of the the diffraction optical elements formed in the replica forming process, the joint part of the diffraction optical element and the photosetting type resin uncured part are joined and irradiated with light for curing.例文帳に追加

さらに、レプリカ成形工程で成形された一対の回折光学素子を互いに張り合わせることで積層型回折光学素子を形成する接合工程において、該回折光学素子の接合部と該光硬化性樹脂未硬化部とを接合し、該接合部と該光硬化性樹脂未硬化部に対して硬化光を照射する。 - 特許庁

When analyzed by X-ray diffraction measurement, this molybdenum exhibits, in at least part of the region corresponding to a sheet-thicknesswise depth of one fifth of the whole thickness from the surface, areas which each contain such a domain where the peak intensities of the (110) and (220) diffraction planes are each lower than the peak intensity of the (211) diffraction plane.例文帳に追加

本発明のモリブデン材は、表面から板厚方向に向かって全厚の５分の１の深さに該当する領域において、Ｘ線回折測定した場合、結晶回折面（１１０）および（２２０）のそれぞれのピーク強度が、（２１１）のピーク強度未満となる領域が存在する部分を少なくとも一部に有する。 - 特許庁

A return light flux SP1 from a recording surface is inputted to a hologram element 57 which has a diffraction area equal to or smaller than a diameter of an opening matching wavelength of an output light flux obtained at a diffraction objective lens, and a photodetector receives a diffracted light from the diffraction areas of the hologram elements 57a to 57c.例文帳に追加

記録面からの戻り光束ＳＰ１は、回折型の対物レンズで得られる出射光束の波長に対応した開口径に対応する径以下の外径を有する回折領域を備えるホログラム素子５７に入射され、ホログラム素子の回折領域５７ａ〜５７ｃからの回折光は光検出器で受光される。 - 特許庁

The exposure mask including a test mark 7 composed of an asymmetric diffraction grating pattern 10 varying in diffraction efficiency with +1st order light and -1st order light and a reference pattern 20 for obtaining an image which is a reference when measuring the deviation of the image of the asymmetric diffraction grating pattern 10 is used as the exposure for focus measurement.例文帳に追加

フォーカス測定用の露光マスクとして、＋１次光と−１次光とで回折効率の異なる非対称回折格子パターン１０と、非対称回折格子パターン１０の像のずれを測定する際の基準となる像を得るための基準パターン２０とで構成されたテストマーク７を含むものを用いる。 - 特許庁

It is more preferable that the center line average roughness Ra75 in the surface of the plating layer is ≤0.8 μm, and the ratio of the diffraction intensity Iζof a ζ phase to the diffraction intensity Iδ_1 of a δ1 phase in the plating layer measured using an X-ray diffraction method is ≤0.1.例文帳に追加

めっき層表面の中心線平均粗さＲａ７５が０．８μｍ以下であり、Ｘ線回折法を用いて測定されためっき層中のζ相の回折強度Ｉζとδ１相の回折強度Ｉδ_1との比であるＩζ／Ｉδ_1が０．１以下であることはより好ましい実施態様である。 - 特許庁

The alkaline storage battery 1 is constructed so that at least a part of the crystal structure of the anode active material is changed by charge and discharge, and the anode active material is controlled so as to indicate a new diffraction peak at 8.4-10.4° of a diffraction angle 2θ, by X-ray diffraction using a CuKα ray.例文帳に追加

アルカリ蓄電池１は、充放電により正極活物質の結晶構造の少なくとも一部が変化し、正極活物質がＣｕＫα線によるＸ線回折で回折角２θの８．４〜１０．４度の位置に新たな回折ピークを示すようになることを抑制するように構成されている。 - 特許庁

In the spectroscopic device 10 with a diffraction grating 13 and a reflection optical system 15, light acquired by allowing light to be measured from an incident slit 11 to enter the diffraction grating 13 is reflected by the reflection optical system 15, and the reflected light is allowed to enter the diffraction grating 13 again, and the light to be measured is spectrally diffracted.例文帳に追加

分光装置１０は、回折格子１３と反射光学系１５とを備えており、入射スリット１１からの被測定光を回折格子１３に入射させて得られた光を反射光学系１５で反射させ、この反射光を再度回折格子１３に入射させて被測定光を分光する。 - 特許庁

A diffraction grating 5 as one constitution component of an optical system of an optical head device 1 is a holder integrated type which has a cylindrical holder part 51 and a diffraction grating body part 52 which is molded integrally with the cylindrical holder part 51 while one end is sealed and includes a circular end surface of the body part 52 as a diffraction grating surface 53.例文帳に追加

光ヘッド装置１の光学系の構成部品の一つである回折格子５は、円筒状のホルダ部分５１とその一端を封鎖した状態で一体成形されている回折格子本体部分５２を有し、この本体部分５２の円形端面が回折格子面５３とされたホルダ一体型のものである。 - 特許庁

In this hologram diffraction grating 30 in which a relief diffraction grating 2" is provided in a detailed pattern area in a plane where interference fringes 9" of relief hologram are formed, the diameter of a dot and line width in the detailed pattern area with the relief diffraction grating 2" provided are ≤0. 1 mm and cannot be seen at a normal observation position.例文帳に追加

レリーフホログラムのレリーフ干渉縞９”が形成されている面中の微細パターン領域にレリーフ回折格子２”が設けられてなるホログラム回折格子複合体３０であって、レリーフ回折格子２”が設けられている微細パターン領域のドット径及びライン幅が０．１ｍｍ以下であり、通常の観察位置では見えない。 - 特許庁

The diffraction grating 10 having low wavelength dependence can be obtained by controlling a transmittance of a first wavelength λ1 by a first optical multilayer film 12 and controlling that of a second wavelength λ2 by a second optical multilayer film 15 to bring about more amplitude modulation type diffraction than phase modulation type diffraction.例文帳に追加

第１の光学多層膜１２によって第１の波長λ１の透過率を、第２の光学多層膜１５によって第２の波長λ２の透過率を制御して、位相変調型の回折と比較して、振幅変調型の回折を多く生じさせることで波長依存性の小さい回折格子１０を得ることができる。 - 特許庁

This condenser lens includes a refraction structure where a shorter-wavelength light brings about a greater refractive angle and a diffraction structure where a shorter wavelength light brings about a smaller diffraction angle, and the dispersion of light caused by the refraction structure and the dispersion of light caused by the diffraction structure are mutually offset.例文帳に追加

波長が短い光線ほど光線の屈折角度が大きくなる屈折構造と、波長が短い光線ほど光線の回折角度が小さくなる回折構造とを備え、屈折構造によって生じる光の分散と、回折構造によって生じる光の分散とが、互いに打ち消しあうことを特徴とする集光レンズ。 - 特許庁

The pitches of the primary grid is smaller than the wavelength of incident light and the first period is larger than the wavelength of the incident light, thus the diffraction efficiency of a specific diffraction degree in light of a specific range of wavelength among the incident light is made higher than that of other diffraction degrees.例文帳に追加

第１の格子のピッチは入射光の波長よりも小さく、かつ上記１周期を入射光の波長よりも大きくすることにより、入射光のうち特定の波長領域の光における特定の回折次数の回折効率を他の回折次数の回折効率よりも高めることができる。 - 特許庁

In the shearing interferometer using diffraction gratings, two or more kinds of diffraction gratings which have the same operating wavelength and different pitches, and at least one kind of diffraction grating which has an operating wavelength differing from the same operating wavelength, are made up on their common substrate or support body.例文帳に追加

回折格子を用いたシアリング干渉計測装置において、使用波長が同じでピッチの異なる回折格子を二種類以上と、前記使用波長と異なる第二の使用波長用の回折格子を少なくとも一種類を同一の基板、または、同一の支持体上に構成したことを特徴とする。 - 特許庁

In a process of manufacturing the diffraction optical element through full plate exposure and dry etching by means of an exposure device, an exposure wavelength used upon the patterning of the diffraction optical element is approximately equal to the wavelength used upon the usage of the finished diffraction optical element.例文帳に追加

回折光学素子を露光装置による一括露光とドライエッチングにより作製するプロセスにおいて、回折光学素子にパターンニングを行う際に使用される露光波長と、出来上がった回折光学素子を使用する際に用いられる波長とが、ほぼ同一であることを特徴とする回折光学素子の作製方法である。 - 特許庁

The period of the diffraction grating and differences in height between protrusions and recesses are made equal to or shorter than the center wavelength in the wavelength range of the light made incident from the end part, and wall surface being surfaces between the protrusions and recesses of the diffraction grating are made approximately parallel with adjacent those and are tilted to the surface of the entire diffraction grating.例文帳に追加

回折格子の周期および凸部と凹部との高低差を端部から入射する光の波長範囲の中央の波長以下とし、回折格子の凸部と凹部の間の面である壁面を、隣り合うもの同士略平行とし、かつ、回折格子全体としての面に対して傾斜させる。 - 特許庁

The light flux (A) and (B) are farther separated with an index scale 20 into 4 light flux A1, B1, A2 and B2 and diffracted with the diffraction grating 10' of a main scale 10 to produce diffraction lights A1', B1', A2' and B2'.例文帳に追加

光束Ａ，Ｂをさらにインデックススケール２０において、4本の光束Ａ１，Ｂ１，Ａ２，Ｂ２に分岐させ、さらにメインスケール１０の回折格子１０´で回折させて回折光Ａ１´，Ｂ１´，Ａ２´，Ｂ２´を生成させる。 - 特許庁

To the porous filter 21, a plurality of holes 22 are provided which cause a diffraction phenomenon when the light flux from the light source 2 passes through the holes 22 and the object surface is illuminated with the caused diffraction pattern dispersed to multiple points.例文帳に追加

前記多孔フイルタ２１には複数の孔２２を設け、光源２からの光束がこの孔２２を通過するとき回析現象を起こし、発生した回析パターンで前記物体表面を多点に分散して照明する。 - 特許庁

The inclusion of the TiC-based compound is confirmed by that a finding the diffraction line peaks at 2θ=36.2°, 42.3°, and 61.6° by X-ray diffraction method of the obtained Ti-C-based material correspond to (111), (200), and (220) in TiC.例文帳に追加

ＴｉＣ系化合物の含有は、得られたＴｉ−Ｃ系材料のＸ線回折法による、２θ＝36.2°、42.3°、および61.6°の回折線ピークがＴｉＣにおける(111)、(200)、および(220)に対応することにより確認された。 - 特許庁

This silicon steel sheet has an extra-thin ceramic film consisting of crystallites having dominantly such orientations that a ratio of diffraction peak intensity (222)/(200) by X-ray diffraction can be 1.2 or higher, which is coated on the surface of the grain-oriented silicon steel sheet that has been finish-annealed.例文帳に追加

仕上げ焼鈍済の一方向性珪素鋼板の表面に、Ｘ線回折による（２２２）／（２００）回折ピーク強度比が1.2 以上に優先配向した結晶質に成る、極薄セラミック被膜を被成する。 - 特許庁

The reflection means 12 and 13 reflect one time diffraction light L_1 and L_2 diffracted by the diffraction grating 2 and make the reflected light incident again at an approximately the same position as a position where the light L from the light source 3 is radiated.例文帳に追加

反射手段１２，１３は、回折格子２によって回折された１回回折光Ｌ_１，Ｌ_２を反射させて、光源３からの光Ｌが照射された位置とほぼ同じ位置に再び入射させている。 - 特許庁

The laser beam L is emitted to the measuring object 2, diffraction light S thereof turn in to a shadow side of the measuring object 2 is photoreceived, and the shape of the measuring object 2 is determined using the photoreceived intensity of the received diffraction light S.例文帳に追加

測定物２にレーザ光Ｌを照射し、測定物２の陰側に回り込むその回折光Ｓを受光し、受光した回折光Ｓの受光強度を利用して測定物２の形状を判別する。 - 特許庁

The organic electroluminescent element has a diffraction grating 2 on a surface layer of a substrate 1, and an organic EL layer 5, containing a light-emitting layer interposed between a positive electrode 4 and a negative electrode 6, is arranged on the diffraction grating through a middle layer 3.例文帳に追加

有機エレクトロルミネセンス素子は基板１の表層に回折格子２を有し、この上に中間層３を介して、陽極４と陰極６の間に発光層を含む有機ＥＬ層５が設けられている。 - 特許庁

To measure a diffraction pattern having a desired S/B ratio by reducing the background due to the scattering of air generated by X-rays transmitted through a sample in the case of the measurement of the diffraction of obliquely emitted X-rays.例文帳に追加

斜出射Ｘ線回折測定を行う場合において、試料を透過したＸ線で発生する空気散乱によるバックグラウンドを低減させることにより、所望のＳ／Ｂ比を有する回折パターンを測定する。 - 特許庁

The emitted light center wavelength of a red light source at a long-wavelength end, the emitted light center wavelength of a blue light source at a short- wavelength side end, and the diffraction efficiency of the diffraction optical surface of an eyepiece optical system are set as follows.例文帳に追加

長波長端の赤色光源の発光中心波長と短波長側端の青色光源の発光中心波長および接眼光学系の回折光学面の回折効率が以下の様に設定される。 - 特許庁

A portion of the second diffraction grating 34 of the second optical member 30 has a higher volume ratio of the inorganic fine particles 31b than that of a portion on a side opposite to the second diffraction grating 34 of the second optical member 30.例文帳に追加

第２光学部材３０のうち第２回折格子３４の部分は、第２光学部材３０のうち第２回折格子３４とは反対側の部分よりも無機微粒子３１ｂの体積比率が高い。 - 特許庁