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layer substrateの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 39497件
In the electro-optical device 100, after a pixel electrode 9a comprising a reflection film is formed in each of a plurality of pixels 100a on a first surface 10x of a first substrate 10, a dielectric multilayer film 18 is formed as a reflection enhancing layer across a plurality of pixels 100a at an overlay side of the pixel electrode 9a.例文帳に追加
電気光学装置100では、第1基板10の第1面10x側に複数の画素100aの各々に反射膜からなる画素電極9aを形成した後、画素電極9aの上層側に複数の画素100aに跨る誘電体多層膜18を増反射膜として形成する。 - 特許庁
After a gate electrode 20 is formed on a substrate 11, part of the gate electrode 20 in a thickness direction from a surface thereof is oxidized through a heat treatment or plasma treatment to make a part of the gate electrode 20 in the thickness direction from an interface 20A with a gate insulating film 30 into an interface layer 21 made of metal oxide.例文帳に追加
基板11にゲート電極20を形成したのち、このゲート電極20の表面から厚み方向における一部を、熱処理またはプラズマ処理を用いて酸化させることにより、ゲート電極20のゲート絶縁膜30との界面20Aから厚み方向における一部を、金属酸化物よりなる界面層21とする。 - 特許庁
To provide a gas-barrier polyimide film which has high dimensional stability, hardly allows oxygen and water vapor to pass therethrough, therefore, hardly causes the deterioration of peel strength between the polyimide film and a metal layer and is suitable for a fine pitch circuit substrate in which the high dimensional accuracy is required, and to provide a metal layered product using the polyimide film.例文帳に追加
高寸法安定性で酸素や水蒸気を通過させにくく、そのため高温下においてもポリイミドフィルムと金属層との剥離強度の低下が小さく、高寸法精度を要求されるファインピッチ回路用基板に好適なガスバリアー性ポリイミドフィルムおよびこのポリイミドフィルムを用いた金属積層体を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the build-up substrate includes: a surface processing process S1 as a process of forming a wiring pattern of a first layer; a catalyst pattern forming process S2 of forming a catalyst pattern with an ink jet; a baking process S3 for the catalyst pattern; and an electroless copper plating process S4 of forming the wiring pattern.例文帳に追加
ビルドアップ基板の製造工程は、1層目の配線パターンを形成する工程として、表面処理工程S1と、インクジェットで触媒パターンを形成する触媒パターン形成工程S2と、触媒パターンの焼成工程S3と、配線パターンを形成する無電解銅めっき工程S4とを備えている。 - 特許庁
To achieve joining that allows, with simple configuration, no fluid leakage at a joining part of a circuit layer and a chamber substrate and no short-circuiting between electrical components, in a fluid ejection device in which a fluid flows into layers including a fluid chamber through layers with circuits manufactured therein.例文帳に追加
流体が、内部に回路が作製されている層を通って流体室を含む層内に流れ込む流体吐出装置において、簡単な構成で回路層と流体室基板との接合部で流体が漏れることがなく且つ電気部品間に短絡をもたらさないように接合できる流体吐出装置の提供。 - 特許庁
The original printing plate for the lithographic printing plate is characterized in that the original printing plate has an image recording layer including (A) a polymer compound with a side chain containing a betaine structure, (B) an infrared absorbing agent, (C) a polymerization initiator and (D) an ethylenic unsaturated polymerizable compound on a substrate, and being removed with a printing ink and/or dampening water.例文帳に追加
支持体上に、(A)ベタイン構造を含有する側鎖を有する高分子化合物、(B)赤外線吸収剤、(C)重合開始剤および(D)エチレン性不飽和重合性化合物を含有し、印刷インキ及び/又は湿し水により除去できる画像記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版。 - 特許庁
Moreover, the film composed of the conductive material is formed on a substrate, the film composed of the conductive material is dry-etched by using an ICP etching device, thereby the gate wiring of a taper angle not larger than 60° is formed; a gate insulating film is formed on the gate wiring; and an active layer is formed on the gate insulating film.例文帳に追加
また、基板上に導電性材料からなる膜を形成し、ICPエッチング装置を用いて前記導電性材料からなる膜をドライエッチングして、テーパー角が60°以下のゲート配線を形成し、前記ゲート配線上にゲート絶縁膜を形成し、前記ゲート絶縁膜上に活性層を形成する。 - 特許庁
Then, the device heat-treats the substrate 11, which is in a state where an organic solution 14x is applied to and filled in the slits 21a, in all columns under reduced pressure, to uniformly and totally dry it to film-deposit an organic EL layer 14, on a pixel electrode 12 exposed to an EL element formation region Re1 of each pixel PIX.例文帳に追加
次いで、全ての列のスリット21a内に有機溶液14xが塗布、充填された基板11を、減圧した状態で加熱処理して、均一かつ一括して乾燥させて、各画素PIXのEL素子形成領域Relに露出する画素電極12上に有機EL層14を成膜する。 - 特許庁
The solid-state image pickup device is characterized in that the closed space 11 of the light receiving region formed on a solid-state image pickup element as an upper layer of a silicon substrate 1 with a frame wall 6 and a sealing glass plate 7 is filled with transparent inert oil 10 of ≤1.3 in refractive index, especially, fluorine-based oil typically of perfluoro-polyester oil.例文帳に追加
シリコン基板1上層の固体撮像素子の上に枠壁6と封止ガラス板7により形成された受光領域の閉鎖空間11に、屈折率1.3以下の透明不活性オイル10、特に、パーフルオロポリエーテル油を代表とするフッ素系オイルが充填されていることを特徴とする固体撮像装置である。 - 特許庁
Then a gate insulating film 12 covering the gate electrode 11 in plan view is formed on the substrate 10, an amorphous semiconductor film 13 having a channel region 13c, a source region 13s and a drain region 13d is formed thereupon, and a channel protective layer 14 covering the channel region 13c in plan view is formed thereupon.例文帳に追加
次に、基板10上に、ゲート電極11を平面視で覆うゲート絶縁膜12を形成し、その上に、チャネル領域13cとソース領域13sとドレイン領域13dとを有する非晶質の半導体膜13を形成し、その上に、チャネル領域13cを平面視で覆うチャネル保護層14を形成する。 - 特許庁
A photoelectric conversion element 100 comprises a substrate 11 having a flat surface S, a plurality of semiconductor nanowires 2 which are arrayed on the flat surface S and extend in a tapered shape from the flat surface S, and a semiconductor layer 30 which fills gaps between the plurality of semiconductor nanowires 2 and has a carrier type different from that of the semiconductor nanowires 2.例文帳に追加
平坦面Sを有する基板11と、平坦面S上に配列され、平坦面Sから先細り状に延びる複数の半導体ナノワイヤー2と、複数の半導体ナノワイヤー2同士の間隙を充填し、半導体ナノワイヤー2とは異なるキャリアタイプの半導体層30と、を備える光電変換素子100。 - 特許庁
In a module 10, dielectric layers 12A, 12B are provided above and below a substrate 11, an antenna 13 and a frequency converting section 14 for converting a signal transmitted from the outside to a high frequency or low frequency are provided on the dielectric layer 12A, and a signal is communicated to the outside by the antenna 13.例文帳に追加
モジュール10は、基板11の上下に誘電体層12A,12Bを備えると共に誘電体層12A上にはアンテナ13および外部から伝送された信号を高周波または低周波に変換する周波数変換部14が設けられ、アンテナ13によって外部へ信号が通信されている。 - 特許庁
The organic EL panel includes a light emitting portion holding at least an organic light emitting layer between a first electrode 2 and a second electrode 7 and a plurality of barrier ribs 4 formed to separate the second electrode 7 into a plurality, both of which are formed on a support substrate 1, and is formed with a protective film covering the light emitting portion.例文帳に追加
第一電極2と第二電極7の間に少なくとも有機発光層を挟持してなる発光部と第二電極7を複数に分離するように複数形成される隔壁4とを支持基板1上に形成し、前記発光部を覆う保護膜を形成してなる有機ELパネルである。 - 特許庁
The wiring structure includes a substrate 1 which has a first region R1 with many structures formed with fine pitches and a second region R2 formed in a plane, and a metal layer 4 which is formed continuously to the second region R2 among the first region R1 and the second region R2 to form a wiring pattern.例文帳に追加
配線構造体は、微細ピッチで構造体が多数形成された第1の領域R1と、平面状に形成された第2の領域R2とを有する基体1と、第1の領域R1、および第2の領域R2のうち第2の領域R2に連続的に形成されて、配線パターンをなす金属層4とを備える。 - 特許庁
To provide an organic EL element causing little uneven illumination within a pixel due to an uneven film thickness of an organic luminescent medium layer near a barrier rib when a thin film is formed of an organic luminescent material on a substrate provided with the barrier rib by a wet deposition method, and a simple method of manufacturing the same.例文帳に追加
隔壁を設けた基板に対して有機発光材料を湿式成膜法で薄膜形成した場合に、隔壁近傍における有機発光媒体層の膜厚ムラに起因する画素内の発光ムラの発生の少ない有機EL素子と、それを簡便に製造し得る製造方法とを提供する。 - 特許庁
The photoelectric conversion element, made by lamination of a conductive thin film, a photoelectric conversion film of an organic layer, and a transparent conductive oxide film on a substrate in this order, has the photoelectric conversion film having a thickness of 150 nm or more and the transparent conductive oxide film having a thickness of 5 nm or more and 10 nm or less.例文帳に追加
基体上に導電性薄膜、有機層からなる光電変換膜、透明導電性酸化物薄膜の順に積層されてなる光電変換素子において、光電変換膜の膜厚が150nm以上であり、前記透明導電性酸化物薄膜の膜厚が5nm以上10nm以下とした。 - 特許庁
To provide a liquid crystal device in which an insulating film having a continuous flat surface on the upper layer side of a pixel electrode, is formed throughout an element substrate, and an insulating film having a uniform film thickness is also formed on each pixel electrode, and also to provide a method for manufacturing the liquid crystal device, and a projection display device.例文帳に追加
素子基板全体にわたって、画素電極の上層側に連続した平坦面を備えた絶縁膜を形成することができるとともに、各画素電極上に均等な膜厚の絶縁膜を設けることができる液晶装置、液晶装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a laminate combining readability of the bar code and visibility of the contents, more specifically, a laminate requiring no aluminum foil or a white-colored layer in the substrate and having a transparent or translucent appearance of parts other than necessary parts, e.g. those for bar codes and a label, a packaging sheet, etc. utilizing it.例文帳に追加
バーコードの読み取り性と内容物の視認性を両立させた積層体、すなわち基材にアルミニウム箔や白着色層を必要とせず、バーコードやその他必要部分以外の外観が透明あるいは半透明な外観を呈する積層体、それを利用したラベル、包装用シート等を提供する。 - 特許庁
The light source device 100 includes a light emitting element 10 which emits first light L1, a substrate 20 which is irradiated with the first light L1 and has an irradiation region 21 with an irregular surface formed, and a fluorescent light emitting layer 30 formed in the irradiation region 21, excited by the first light L1, and emitting second light L2.例文帳に追加
光源装置100は、第1の光L1を出射する発光素子10と、第1の光L1により照射され、凹凸が形成された照射領域21を有する基板20と、照射領域21に形成され、第1の光L1により励起されて第2の光L2を発する蛍光発光層30と、を含む。 - 特許庁
A relay board 250 to which a gyro vibration piece 100 is joined is connected and fixed with a conductive adhesive 296 to a first protrusion terminal 234, a second protrusion terminal 235, a third protrusion terminal 236, a fourth protrusion terminal 237, and a fifth protrusion terminal 238 which are formed of a third layer substrate 231 of a package 202.例文帳に追加
ジャイロ振動片100が接合された中継基板250は、導電性接着剤296により、パッケージ202の第3層基板231により形成された第1突部端子234、第2突部端子235、第3突部端子236、第4突部端子237、および第5突部端子238に接続・固定されている。 - 特許庁
To provide a highly smooth mold releasing film for manufacturing a ceramic capacitor green sheet which is superior in the adhesiveness of a substrate and a release layer and in releasability, and to provide a manufacturing method of the film.例文帳に追加
基材と離型層との密着性に優れ、更に、その離型性に優れたセラミックコンデンサグリーンシート製造用高平滑性離型フィルム及びその製造方法を提供するとともに、誘電体層の欠陥によるショートがない薄膜のセラミックグリーンシートを製造し、積層セラミックコンデンサの小型化、高容量化を実現する。 - 特許庁
The polymeric film which is substantially gelatin free has a polymeric film substrate and a coating layer containing a polymer having at least one or more repeating units having at least one or more pendant (-POXY) groups, wherein X and Y, which may be the same or different, are OH or OM wherein M is a cation.例文帳に追加
実質的にゼラチンを含まない重合フィルムは、重合フィルム基板と、少なくとも1以上のペンダント(−POXY)基を有する少なくとも1以上の繰り返し単位を持つポリマーを含むコーティング層とを有し、ここで、同一若しくは異なるものであるXおよびYはOH若しくはOMであり、Mはカチオンである。 - 特許庁
The ink jet recording element comprises a substrate, on which a porous image receiving layer consisting of (a) particles having the primary grain size of 7-40 nm whose diameter can be agglomerated to the maximum 300 nm and (b) cationic polymer grains, containing at least 20 mol% of cationic mordant portion insoluble to water, is provided.例文帳に追加
(a)最大300nmまで凝集してもよい直径が7〜40nmの一次粒径を有する粒子、(b)少なくとも20モル%のカチオン性媒染剤部分を含む水不溶性のカチオン性ポリマー粒子を含んで成る多孔性画像受容層を上に有する支持体を含んで成るインクジェット記録要素。 - 特許庁
In an opposing substrate 10 of a transflective reflective liquid crystal device 100, a transmissive display color filter 241 having a wide chromaticity is formed in a transmissive display region 100c and a reflection display color filter 242 having narrow chromaticity is formed in a reflection display region 100b among the bottom layer side of an opposing electrode 21.例文帳に追加
半透過反射型液晶装置100の対向基板10では、対向電極21の下層側のうち、透過表示領域100cには色度域の広い透過表示用カラーフィルタ241を形成し、反射表示領域100bには色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ242を形成する。 - 特許庁
The photomask blanks have, on a substrate, a photosensitive composition layer containing a sensitizing dye (A), a polymerization initiator (B), a multifunctional thiol compound (C) having 2 to 4 mercapto groups in a molecule, a polymerizable compound (D) having at least two ethylenically unsaturated bonds in a molecule, a binder polymer (E), and a light shielding material (F).例文帳に追加
基板上に、(A)増感色素、(B)重合開始剤、(C)分子内に2個から4個のメルカプト基を有する多官能チオール化合物、(D)分子内に少なくとも2個以上のエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、(E)バインダーポリマー、および(F)遮光材料、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス。 - 特許庁
To provide an electrophoretic display device and a method for manufacturing the device for suppressing decrease in adhesive force and improving structural durability and display durability of the electrophoretic display device even when an upper face of a structural body is adhered to a counter electrode substrate via an adhesive layer.例文帳に追加
接着層を介して構造体の上面と対向電極基板とを接着する場合であっても、接着力の低下を抑制し、電気泳動表示装置の構造的耐久性や表示耐久性を向上した電気泳動表示装置及びその製造方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁
To provide a high-quality substrate for an organic EL device, along with a manufacturing method of an organic EL device as well as the EL organic device, by improving uniformity in liquid level in an application region when applying ink which forms an organic EL layer for suppressed variation in film thickness and reduced brightness difference among pixels.例文帳に追加
有機EL層を形成するインクの塗布に際し、塗布領域内での液面の均一性を向上させることで、膜厚のばらつきを抑え、画素間の輝度差を小さくすることにより、高い品質の有機EL装置用基板および有機EL装置の製造方法並びに有機EL装置を提供する。 - 特許庁
The semiconductor device 1 includes a porous layer 4, containing a compound obtained through hydrolysis or a condensation reaction between at least one kind of alkoxysilane selected from a group of monoalkoxysilane, dialkoxysilane and trialkoxysilane, and a tetraalkoxysilane, and having density of 0.7 g/cm^3 or less which is formed between the substrate 2 and the semiconductor element 3.例文帳に追加
半導体装置1を、基板2と半導体素子3との間にモノアルコキシシラン、ジアルコキシシラン、トリアルコキシシランからなる群より選ばれる少なくとも1種のアルコキシシランと、テトラアルコキシシランとの加水分解・縮合反応により得られる化合物からなり、0.7g/cm^3以下の密度を有する多孔質層4を備えたものとする。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device and a substrate processing apparatus capable of providing a titanium nitride film that is higher in quality than a titanium nitride film formed by the conventional CVD method at a higher film-forming rate, that is, with higher productivity than a titanium nitride film formed by an ALD (Atomic Layer Deposition) method.例文帳に追加
従来のCVD法で形成された窒化チタン膜と比較して良質な窒化チタン膜を、ALD法で形成された窒化チタン膜と比較して速い成膜速度で、すなわち高い生産性で提供することが可能な半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供することにある。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an organic EL display in which unevenness of a thickness at a boundary of coating regions is eliminated and display unevenness caused by the unevenness of the thickness is prevented even with ink coated in several batches for coating and forming an organic light emitting layer on a display substrate having a linear bank by ink jet.例文帳に追加
ライン状バンクを有するディスプレイ基板に、インクジェットで有機発光層を塗布形成する場合に、インクを複数回に分けて塗布しても、塗布領域の境界の膜厚の不均一を解消し、膜厚の不均一による表示むらのない有機ELディスプレイの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a resin composition suitable for production of biochips, with which a resin composition layer excellent in diffusion controllability of an acid generated by exposure can be formed and various kinds of polymers can be stably and accurately formed with high density on a substrate even when exposure amount is low, and to provide a method for producing biochips by using the composition.例文帳に追加
露光により発生した酸の拡散制御性に優れた樹脂組成物層を形成でき、露光量が少ない場合であっても基板上に多種類の高分子を高密度、かつ安定して正確に形成できるバイオチップの製造に適した樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a low temperature-fired ceramic sintered product which has high strength, high thermal conductivity and high Young's modulus, is dense, can be produced by firing at a low temperature of ≤1,000°C, and is useful as an insulating substrate having a wiring layer composed of low resistant conductors such as Cu, Ag, Au and Al on the surface or inside thereof.例文帳に追加
高強度で熱伝導率やヤング率も高く、且つ緻密であると同時に、1000℃以下の低温での焼成によって製造することができ、Cu、Ag、Au、Al等の低抵抗導体から成る配線層を表面或いは内部に備えた絶縁基板として有用な低温焼成セラミック焼結体を得る。 - 特許庁
A valve element 5 formed in the groove 3 is formed of the same material as that of the first main substrate layer 1a, protrudes from a first side wall 3a of the groove 3, is formed at a fixed interval from a second side wall 3b opposing the first side wall 3a, and has a film thickness deformable by the pressure of fluid flowing in the flow passage when seen from above.例文帳に追加
溝3に形成された弁体5は、第1主基板層1aと同じ材料からなり、溝3の第1側壁3aから突出し、第1側壁3aに対向する第2側壁3bとは間隔をもって形成され、流路内を流れる流体圧力で変形可能な上方から見た膜厚をもつ。 - 特許庁
The body part 11 comprises an attracting means 15 for attracting insects, a support means 18 for supporting an insect-trapping sheet 16 prepared by laminating an adhesive layer 16B to one side of a belt-like substrate sheet 16A in a state capable of being drawn out to a place close to the attracting means 15, and a winding means 19 for winding up the insect-trapping sheet 16.例文帳に追加
本体部11は、虫を誘引する誘引手段15と、帯状をなす基材シート16Aの一方の面に接着剤層16Bが積層された捕虫シート16を誘引手段15の近傍に繰り出し可能に支持する支持手段18と、捕虫シート16を巻き取る巻取手段19とを含む。 - 特許庁
A tempered glass substrate having a compression stress layer on the surface thereof, has a glass composition comprising, by mass%, 40 to 71% SiO_2, 3 to 21% Al_2O_3, 0 to 3.5% Li_2O, 7 to 20% Na_2O, and 0 to 15% K_2O and is cut after tempering treatment.例文帳に追加
本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO_2 40〜71%、Al_2O_3 3〜21%、Li_2O 0〜3.5%、Na_2O 7〜20%、K_2O 0〜15%を含有すると共に、強化処理後に切断されてなることを特徴とする。 - 特許庁
To provide an inexpensive filler layer for solar cell modules which is superior in adhesion of a transparent front substrate to a back protection sheet in the production of a solar cell module without deteriorating working environment and without exerting a bad effect on solar cell elements and electrodes etc.例文帳に追加
本発明は、太陽電池モジュールの製造時において、透明前面基板および裏面保護シートとの接着性に優れ、作業環境等を悪化させず、太陽電池素子や電極等に悪影響を与えない、安価な太陽電池モジュール用充填材層を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁
In the atomic layer deposition method(ALD), a first reaction product is utilized, which contains at least one alkoxide group and is adsorbed on a substrate chemically and reacts with an activated oxidizing agent without a hydroxide and forms a dielectric substance showing an excellent coverage and improved leakage current characteristics.例文帳に追加
原子層蒸着法(ALD)は最少限一つのアルコキシド基を含み、基板表面上に化学的に吸着されて水酸化基を含まない活性化された酸化剤と反応して優れているステップカバーレージおよび向上された漏洩電流特性を示す誘電物質を形成する第1反応物を利用する。 - 特許庁
The optical disk wherein information which can be optically read out is recorded or wherein information can be optically recorded and information can be optically read out is provided with a substrate 1 having an information recording surface and the transparent protective layer including a plurality of transparent resin sheets laminated on the information recording surface.例文帳に追加
光学的に読み出すことのできる情報が記録された、若しくは、情報を光学的に記録しこれを光学的に読み出すことのできる光ディスクであって、情報記録面を有する基板1と、情報記録面上に積層された複数の透明樹脂シートからなる透明保護層を備える。 - 特許庁
The multilayer substrate has a configuration wherein a heat resistant film is laminated on a ceramic layer, the heat resistant film is a film composed of polyimide obtained by making aromatic diamines having a benzoxazole structure react with aromatic tetracarboxylic dianhydrides, and its linear expansion coefficient is -2 to 10 ppm/°C.例文帳に追加
耐熱性フィルムがセラミック層に積層された構成を有する多層基板であって、該耐熱性フィルムがベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類と、芳香族テトラカルボン酸無水物類とを反応させて得られるポリイミドからなるフィルムであって、線膨張係数が−2〜10ppm/℃のフィルムである多層基板。 - 特許庁
This IC card with the ED display function having an ED display unit having a pair of electrodes for making dissolution/deposition of metal to be produced on a substrate, has a hard bedding layer, on which the ED display unit is placed.例文帳に追加
基材上に、金属の溶解/析出を生じさせる一対の電極を有するエレクトロンデポジション(EDと略す)表示部を有するED表示機能付きICカードであって、硬質下敷き層を有し、該硬質下敷き層の上にED表示部が載置されていることを特徴とするED表示機能付きICカード。 - 特許庁
The method of manufacturing an organic EL element includes steps of: forming first electrodes 111 on a substrate 2; forming, on the first electrodes 111, organic functional layers 110 each having at least an organic luminescent layer 70; and forming second electrodes 12 on the organic functional layers 110.例文帳に追加
基板2上に第1の電極111を形成する工程と、第1の電極111上に少なくとも有機発光層70を有してなる有機機能層110を形成する工程と、有機機能層110上に第2の電極12を形成する工程と、を備えた有機EL素子の製造方法である。 - 特許庁
To provide a method for exfoliating the resist without causing resin remainder and exfoliation of the resin layer in a manufacturing method of a polymer optical waveguide substrate comprising a process for removing an unnecessary part of the polymer optical waveguide by reactive ion etching via a resist containing silicon, and then exfoliating the resist.例文帳に追加
シリコン含有レジストを介して反応性イオンエッチングによりポリマー光導波路の不要部を除去し、次いでレジストを剥離する工程を含むポリマー光導波路基板の製造方法において、樹脂残りや樹脂層の剥離を発生させずにレジストを剥離することができる方法を提供すること。 - 特許庁
In the transmissive hue correction material wherein a hue correction layer is provided on at least one surface of a transparent substrate, a wavelength showing the maximum value of light transmissivity at a wavelength of 300-800 nm is 400-500 nm and the maximum value of light transmissivity is not less than 90%.例文帳に追加
透明基材の少なくとも一方の面に色調補正層を有する透過色調補正材料において、300〜800nmにおける光線透過率の最大値を示す波長が400〜500nmであり、かつ光線透過率の最大値が90%以上である透過色調補正材料。 - 特許庁
In this manufacturing method of the electric double layer capacitor electrode in which the carbon nanotube is adherently bonded to an electrode substrate almost in parallel with its longitudinal direction, when depositing the carbon nanotube by electrodeposition by impressing a voltage between electrodes facing each other, the surface of a negative electrode on the counter electrode side of a metal to which electrodeposition is applied.例文帳に追加
カーボンナノチューブを、バインダー材料を用いず、電極基板にその長手方向を略平行に付着接合させる電気2重層キャパシタ電極の製造方法において、カーボンナノチューブを相対する電極間に電圧をかけて電着させる時に、電着させる金属の対極側の負極表面を絶縁性膜で覆う。 - 特許庁
This semiconductor device is an electron source having a plurality of lower electrodes 2 on one surface of a support substrate 1 and equipped with a function layer 4 between the lower electrodes 2 and the surface electrodes 3 facing to them, and emits electrons tunneling the surface electrodes 3 when a voltage is applied between the surface electrodes 3 and the lower electrodes 2.例文帳に追加
半導体装置は、支持基板1の一表面に複数本の下部電極2を有し、下部電極2に対向する表面電極3との間に機能層4を備える電子源であって、表面電極3と下部電極2との間に電圧を印加すると表面電極3をトンネルする電子を放射する。 - 特許庁
In this inkjet recording material, an inkjet recording layer containing at least a mixture of polymer particulates and inorganic ultrafine particles is provided on one side of a substrate.例文帳に追加
支持体の片面に少なくともポリマー微粒子及び無機超微粒子の混合物を含有するインクジェット記録層を設けたインクジェット記録材料において、該無機超微粒子の平均二次粒子径が300nm以下であり、且つ該ポリマー微粒子の平均粒子径が100nm未満であることを特徴とするインクジェット記録材料。 - 特許庁
A first metal layer 12 is formed by depositing first metal at a first temperature which causes siliciding in a semiconductor region, which contains silicon such as a semiconductor substrate 11 of single-crystal silicon where a source-drain region 21sd is formed, and a gate electrode 21g of polysilicon.例文帳に追加
ソース・ドレイン領域21sdが形成された単結晶シリコンの半導体基板11や、ポリシリコンのゲート電極21gのように、シリコンを含む半導体領域においてシリサイド化が生ずる第1の温度にて、その半導体領域に第1金属を堆積することによって、第1金属層12を形成する。 - 特許庁
To provide a nitride semiconductor light emitting element using an SiC substrate wherein a p electrode and an n electrode are opposed to each other, and capable of stabilizing a drive voltage by reducing carrier depletion due to spontaneous polarization and piezoelectric polarization caused on a boundary of a semiconductor layer.例文帳に追加
SiC基板を用いてp電極とn電極を対向させた窒化物半導体発光素子を構成するとともに、半導体層の界面に発生する自発分極やピエゾ分極によるキャリア空乏化を低減させて、駆動電圧を安定させることができる窒化物半導体発光素子を提供する。 - 特許庁
A lower clad 102 provided on a substrate 101, a core region 104 having a shape whose head gradually becomes narrow and which is provided on the lower clad 102, an upper clad 103 covers the lower clad 102 and the core region 104, and an optical resin layer 105 covers the upper clad 103 are provided.例文帳に追加
基板101上に設けられた下部クラッド102と、下部クラッド102上に設けられ先端が徐々に細くなる形状を有するコア領域104と、下部クラッド102及びコア領域104を覆う上部クラッド103と、上部クラッド103を覆う光学樹脂層105とを備える。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing solar cell which can clear the process for formation of the inner electrode of the solar cell, formation of the outer electrode, and formation of an insulating layer between both electrodes with a single process, and is satisfactory in adhesion between a substrate and a spherical cell and high in reliability, and to provide the solar cell.例文帳に追加
太陽電池の内側電極の形成、外側電極の形成、および、両電極間の絶縁層形成するための工程を一工程で製造でき、基板と球体セルの固着性が良く信頼性の高い太陽電池の製造方法および太陽電池を提供することを目的とする。 - 特許庁
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